不锈钢表面处理方法及由该方法制得的外壳
专利汇可以提供不锈钢表面处理方法及由该方法制得的外壳专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 提供一种不锈 钢 表面处理 方法，包括如下步骤：提供 不锈钢 基体；通过多弧离子 镀 在不锈钢基体表面沉积打底层，该打底层为 钛 金属层；通过多弧离子镀在所述打底层上沉积过渡层，该过渡层为 铝 金属层；通过 磁控溅射 方法在所述过渡层上沉积铝膜；对该形成有打底层、过渡层及铝膜的不锈钢基体进行 阳极 氧 化 处理，以使该过渡层及铝膜被氧化而形成多孔的阳极氧化膜；对该经阳极氧化处理的不锈钢基体进行着色处理并封孔，以使不锈钢基体表面获得所需的 颜色 。本发明还提供一种上述不锈钢表面处理方法制得的 外壳 。，下面是不锈钢表面处理方法及由该方法制得的外壳专利的具体信息内容。
1.一种不锈钢表面处理方法，包括如下步骤：
提供不锈钢基体；
通过多弧离子镀在不锈钢基体表面沉积打底层，该打底层为钛金属层；
通过多弧离子镀在所述打底层上沉积过渡层，该过渡层为铝金属层；
通过磁控溅射方法在所述过渡层上沉积铝膜；
对该形成有打底层、过渡层及铝膜的不锈钢基体进行阳极氧化处理，以使该过渡层及铝膜被氧化而形成多孔的阳极氧化膜；
对该经阳极氧化处理的不锈钢基体进行着色处理并封孔，以使不锈钢基体表面获得所需的颜色。
2.如权利要求1所述的不锈钢表面处理方法，其特征在于：沉积该打底层、过渡层及铝膜是在同一真空镀膜设备中进行，该真空镀膜设备包括真空室、位于真空室内的转架、用以对真空室抽真空的真空抽气系统、以及若干个弧源装置。
3.如权利要求2所述的不锈钢表面处理方法，其特征在于：沉积该打底层时，将若干个钛靶置于真空镀膜设备的弧源位置上，将不锈钢基体固定于所述转架上，该真空室－3 －3
被抽真空至3×10 Pa-8×10 Pa后，向真空室内充入惰性气体，使真空室内压力为
0.1Pa-0.8Pa，调节真空室内温度为90℃-105℃，对所述钛靶施加200V-300V的负偏压，设置偏压电源的占空比为40-50％，开启所述钛靶的电源，并调节钛靶电压为15V-30V，电流为50A-80A，在不锈钢基体上沉积该打底层，沉积时间为10-25分钟。
4.如权利要求1所述的不锈钢表面处理方法，其特征在于：沉积该过渡层时，将若干个铝靶置于该真空镀膜设备的弧源位置上，将形成有所述打底层的不锈钢基体固定于所述转－3 －3
架上，该真空室被抽真空至3×10 Pa-8×10 Pa后，向真空室充入惰性气体，使真空室内压力为0.1 Pa-0.9Pa，调节真空室内温度为90℃-115℃，对所述铝靶施加200V的负偏压，设置偏压电源的占空比为45％，开启所述铝靶的电源，并调节铝靶电压为15V-35V，电流为
40A-70A，在打底层上沉积该过渡层，沉积时间为25-60分钟。
5.如权利要求1所述的不锈钢表面处理方法，其特征在于：沉积该铝膜时，于真空室中设置若干个磁控铝靶，将形成有所述打底层及过渡层的不锈钢基体固定于所述转架上，该－3 －3
真空室被抽真空至3×10 Pa-8×10 Pa后，向真空室充入惰性气体，使真空室内压力为
0.1Pa-0.9Pa，调节真空室内温度为120℃-130℃，对所述磁控铝靶施加250V的负偏压，设置偏压电源的占空比为40％，开启所述磁控铝靶的电源，并调节电源功率为5kW-6kW，对不锈钢基体溅射50-70分钟，以于所述过渡层表面形成所述铝膜。
6.如权利要求4所述的不锈钢表面处理方法，其特征在于：所述阳极氧化处理是以不锈钢基体为阳极，不锈钢片为阴极，以硫酸溶液为电解液；硫酸浓度为190g/L-210g/L，电解液温度为8℃-13℃，采用恒电压模式，恒定电压为13V，处理时间为10min-15min。
7.一种外壳，包括不锈钢基体，其特征在于：该外壳还包括形成于该不锈钢基体表面的打底层及形成于该打底层表面的铝阳极氧化膜，该打底层为钛金属层。
8.如权利要求7所述的外壳，其特征在于：该打底层的厚度为1.5μm-2.5μm。
9.如权利要求7所述的外壳，其特征在于：该铝阳极氧化膜的厚度为18μm-25μm。
不锈钢表面处理方法及由该方法制得的外壳
技术领域
背景技术
发明内容
通过多弧离子镀在不锈钢基体表面沉积打底层，该打底层为钛金属层；
通过多弧离子镀在所述打底层上沉积过渡层，该过渡层为铝金属层；
通过磁控溅射方法在所述过渡层上沉积铝膜；
对该形成有打底层、过渡层及铝膜的不锈钢基体进行阳极氧化处理，以使该过渡层及铝膜被氧化而形成多孔的阳极氧化膜；
对该经阳极氧化处理的不锈钢基体进行着色处理并封孔，以使不锈钢基体表面获得所需的颜色。
附图说明
不锈钢基体 11
打底层 13
铝阳极氧化膜 17
真空镀膜设备 100
真空室 20
转架 30
真空抽气系统 40
弧源装置 50
钛靶 61
铝靶 62
磁控铝靶 63
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
将不锈钢基体固定于所述转架30上。真空室20被抽真空至3×10 Pa-8×10 Pa后，向真空室20内充入惰性气体，如氩气，使真空室20内压力为0.1Pa-0.8Pa。调节真空室内20温度为90℃-105℃。对所述钛靶61施加200V-300V的负偏压，设置偏压电源的占空比为
40-50％。开启所述钛靶61的电源，并调节钛靶61电压为15V-30V，电流为50A-80A，以在不锈钢基体上沉积所述打底层（钛金属层），沉积时间为10-25分钟。通过多弧离子镀在所述打底层上沉积过渡层。该过渡层为铝金属层，其厚度为13μm-22μm。多弧离子镀制备该过渡层是在所述真空镀膜设备100中进行。将若干个铝靶62置于弧源装置50的弧源位置上。将形成有所述打底层的不锈钢基体固定于所述转架30上。真空镀膜设备的真空室30－3 －3
被抽真空至3×10 Pa-8×10 Pa后，向真空室30充入惰性气体，如氩气，使真空室内压力为0.1 Pa-0.9Pa。调节真空室内温度为90℃-115℃。对所述铝靶62施加200V的负偏压，设置偏压电源的占空比为45％。开启所述铝靶62的电源，并调节铝靶62电压为15V-35V，电流为40A-70A，以在打底层上沉积所述过渡层（铝金属层），沉积时间为25-60分钟。
对所述磁控铝靶63施加250V的负偏压，设置偏压电源的占空比为40％。开启所述磁控铝靶63的电源，并调节电源功率为5kW-6kW，对不锈钢基体溅射50-70分钟，以于所述过渡层表面形成所述铝膜。
10min-15min。为了防止电解液中的硫酸腐蚀到不锈钢基体，该阳极氧化处理的时间比通常的阳极处理时间减少20min左右。
抽真空至5×10 Pa后，向真空室内充入流量为100sccm（标准状态毫升/分钟）的氩气，使真空室内压力为0.2Pa。调节真空室内温度为95℃。对所述钛靶施加300V的负偏压。调节占空比为50％。开启所述钛靶电源，并调节钛靶电压为30V，电流为75A，以在不锈钢基体上沉积所述打底层（钛金属层），沉积10分钟。该打底层的厚度大约为2μm。
抽真空至5×10 Pa后，向真空室内充入流量为80sccm（标准状态毫升/分钟）的氩气，使真空室内压力为0.15Pa。调节真空室内温度为105℃。对所述钛靶施加300V的负偏压。调节占空比为50％。开启所述钛靶电源，并调节钛靶电压为20V，电流为70A，以在不锈钢基体上沉积所述打底层（钛金属层），沉积25分钟。该打底层的厚度大约为1.5μm。
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