专利汇可以提供阻氣性膜的製造方法及具有阻氣性膜之電子元件或光學元件专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本發明係一種阻氣性膜的製造方法,至少具有:由合成樹脂組成之基材;及形成於該基材上之阻氣層,其特徵在於:具有下例1、2之步驟;及具有藉由該製造方法所得之阻氣性膜之電子元件或光學元件。藉由本發明所得之阻氣性膜,即使於高溫.高濕條件下,亦不會發生阻氣層與基材之密著不良的問題。(步驟1)於上述基材上,塗佈含有矽系高分子化合物與有機溶媒之矽系高分子化合物溶液,藉由將所得矽系高分子化合物溶液的塗膜加熱乾燥,形成包含矽系高分子化合物之層之步驟,上述基材與有機溶媒的組合,係採用將上述基材以23℃浸漬於該有機溶劑72小時時所計測之上述基材的凝膠分率為70%以上98%以下者之步驟;(步驟2)藉由對形成之包含矽系高分子化合物之層進行電漿處理,形成阻氣層之步驟。,下面是阻氣性膜的製造方法及具有阻氣性膜之電子元件或光學元件专利的具体信息内容。
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