专利汇可以提供SOLAR CELL FABRICATION USING LASER PATTERNING OF ION-IMPLANTED ETCH-RESISTANT LAYERS AND THE RESULTING SOLAR CELLS专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且Solar cell fabrication using laser patterning of ion-implanted etch-resistant layers, and the resulting solar cells, are described. In an example, a back contact solar cell includes an N-type single crystalline silicon substrate having a light-receiving surface and a back surface. Alternating continuous N-type emitter regions and segmented P-type emitter regions are disposed on the back surface of the N-type single crystalline silicon substrate, with gaps between segments of the segmented P-type emitter regions. Trenches are included in the N-type single crystalline silicon substrate between the alternating continuous N-type emitter regions and segmented P-type emitter regions and in locations of the gaps between segments of the segmented P-type emitter regions.,下面是SOLAR CELL FABRICATION USING LASER PATTERNING OF ION-IMPLANTED ETCH-RESISTANT LAYERS AND THE RESULTING SOLAR CELLS专利的具体信息内容。
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