专利汇可以提供用於修正光罩的系統與方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本發明提供一種於需對半導體製程中使用的光罩進行修正時,藉由利用雷射束解離氣體而對光罩進行修正的系統及方法。上述系統包括:腔室,於內部設置欲進行修正的光罩; 真空 裝置,用以將上述腔室的內部保持為真空;氣體供給裝置,向上述腔室內供給蝕刻氣體及鈍化氣體;及雷射照射裝置,向上述腔室內的上述光罩中的欲進行修正部分照射雷射束而將上述腔室內的蝕刻氣體解離;上述鈍化氣體 吸附 至上述欲進行修正的部分而均勻地蝕刻上述欲進行修正部分。,下面是用於修正光罩的系統與方法专利的具体信息内容。
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