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蒸 镀掩模以及蒸镀掩模的制造方法

阅读：306发布：2020-05-08

专利汇可以提供蒸镀掩模以及蒸镀掩模的制造方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且形成于掩模片(15)的有效部(YA)以横跨被蒸镀基板的多个有源区域(3)的方式进行设置，有效部(YA)具有第一区域(YA1)以及第二区域(YA2)，第一区域(YA1)按照每个有源区域(3)而设置为与有源区域(3)对应的形状，在第二区域(YA2)且第一区域(YA1)外设置有对多个蒸镀孔(H)进行遮蔽的遮蔽部(25)。，下面是蒸镀掩模以及蒸镀掩模的制造方法专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种蒸镀掩模，其用于在设置有多个排列有参与显示的像素的有源区域的被蒸镀基板的所述像素上蒸镀蒸镀层，所述蒸镀掩模的特征在于，
具有掩模片，所述掩模片设置有以横跨所述多个有源区域的方式排列形成有多个蒸镀孔的有效部，
所述有效部具有第一区域和第二区域，
所述第一区域具有与所述有源区域对应的形状，
在所述第二区域中设置有对所述第一区域的形状进行限定并对所述多个蒸镀孔中的一部分蒸镀孔进行遮蔽的遮蔽部。
2.根据权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于，
所述遮蔽部以横跨所述第二区域所包含的多个蒸镀孔的方式进行设置。
3.根据权利要求1或2所述的蒸镀掩模，其特征在于，
所述遮蔽部设置于与所述掩模片中的、和所述被蒸镀基板对置的第一面相反侧的第二面。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的蒸镀掩模，其特征在于，
所述遮蔽部为树脂。
5.根据权利要求4所述的蒸镀掩模，其特征在于，
所述遮蔽部为光固化性树脂。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的蒸镀掩模，其特征在于，
所述有效部为正方形或长方形。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的蒸镀掩模，其特征在于，
在所述有效部中设置有形状不同的多个所述第一区域。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的蒸镀掩模，其特征在于，
所述第一区域包含供所述第二区域从该第一区域的一边朝向内部方向突出的切口，在所述第一区域外且被所述切口包围的区域内的所述多个蒸镀孔被所述遮蔽部遮蔽。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的蒸镀掩模，其特征在于，
所述第二区域包含浮岛部，所述浮岛部被所述第一区域包围的区域且不与该第一区域的外形接触。
10.一种蒸镀掩模的制造方法，所述蒸镀掩模用于在设置有多个排列有参与显示的像素的有源区域的被蒸镀基板的所述像素上蒸镀蒸镀层，
所述蒸镀掩模的制造方法的特征在于，具有如下工序：
蒸镀孔形成工序，通过在掩模片上形成多个蒸镀孔，从而以横跨多个所述有源区域的方式设置有效部，
遮蔽部形成工序，通过在所述有效部中的、与所述有源区域对应的形状的外侧形成对所述多个蒸镀孔中的一部分蒸镀孔进行遮蔽的遮蔽部，从而按照每个所述有源区域设置与所述有源区域对应的形状的第一区域，并且设置设置有所述遮蔽部的第二区域。
11.根据权利要求10所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，
所述遮蔽部形成工序包含：
涂布工序，将遮蔽材料涂布于所述掩模片中的成为所述第二区域的区域；
固化工序，使通过所述涂布工序而涂布的所述遮蔽材料固化而形成所述遮蔽部。
12.根据权利要求11所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，
具有掩模片安装工序，在该工序中，架设所述掩模片并将所述掩模片安装于框状的掩模框，
所述涂布工序以及所述固化工序在所述掩模片安装工序之后进行。
13.根据权利要求12所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，
具有掩模片安装工序，在该工序中，架设所述掩模片并将所述掩模片安装于框状的掩模框，
所述固化工序包含：第一固化工序，使所述遮蔽材料预固化；以及第二固化工序，使所述预固化的遮蔽材料进一步固化而形成所述遮蔽部，
所述涂布工序以及所述第一固化工序在所述掩模片安装工序之前进行，在所述第一固化工序之后，在所述掩模片安装工序中，架设所述掩模片并将所述掩模片安装于所述掩模框，
在所述掩模片安装工序之后，进行所述第二固化工序。
14.根据权利要求10至13中任一项所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，所述有效部为正方形或长方形。

说明书全文

蒸镀掩模以及蒸镀掩模的制造方法

技术领域

[0001] 本发明涉及一种蒸镀掩模以及蒸镀掩模的制造方法。

背景技术

[0002] 如专利文献1所记载那样，在有机EL显示装置中，在各像素上图案化形成发光层时，使用蒸镀掩模。

[0003] 如图18的(a)所示，将分别为片状的多个覆盖片112与多个支撑片113呈格子状且相互正交地安装于具有框开口部111a的框状的掩模框111。

[0004] 多个覆盖片112以及多个支撑片113在安装于掩模框111时，向外架设(拉伸)两端部并且将两端部附近熔接于掩模框111。

[0005] 由此，将多个覆盖片112以和与掩模框111的长边方向(纸面中的上下方向)正交的短边方向(纸面中的左右方向)平行的方式安装于掩模框111。此外，将多个支撑片113以与掩模框111的长边方向平行的方式安装于掩模框111。

[0006] 接着，将形成有对位标记的对准片114以对位标记来到规定位置的方式沿框开口部111a的短边安装于掩模框111。

[0007] 并且，以对位标记为基准，将短条状的多个掩模片115的两端部向外架设(拉伸)并且将两端部附近熔接于掩模框111。

[0008] 在掩模片115形成有多个有效部115a。有效部115a为排列形成有多个蒸镀孔的区域，所述多个蒸镀孔用于按照被蒸镀基板的每个像素来蒸镀蒸镀层。

[0009] 在图18的示例中，有效部115a具有与被蒸镀基板的有源区域对应的形状。

[0010] 如图18的(b)所示，以在通过多个覆盖片112和多个支撑片113划分出的所有开口部包含有效部115a的方式，架设并且熔接多个掩模片115。并且，将多个掩模片115各自的熔接的部分的外侧的多余部分切去。由此，完成蒸镀掩模110。

[0011] 在使用蒸镀掩模110进行蒸镀时，从蒸镀源气化或升华的蒸镀粒子穿过有效部115a的蒸镀孔而附着于被蒸镀基板的像素。附着于该像素的蒸镀粒子成为发光层。因此，有效部115a具有与被蒸镀基板的有源区域对应的形状，在与通过多个覆盖片112和多个支撑片113划分出的开口部相比面积较小的区域形成有图案。并且，被蒸镀基板中的蒸镀发光层的位置由蒸镀掩模中的设置于各蒸镀孔的开口图案的位置来决定，被蒸镀基板中的蒸镀有发光层的有源区域的外形由有效部115a的外形来决定。

[0012] 如此，形成有有效部115a的掩模片115特别形成有与像素对应的多个蒸镀孔，因此需要位置精度良好地安装于掩模框111。

[0013] 根据掩模片115，有效部115a为长方形，因此在将掩模片115安装于掩模框111时，即使对掩模片115的端部施加向外的力，施加于有效部115a周围的应力也易于均匀化且能够将掩模片115比较位置精度良好地安装于掩模框111。现有技术文献
专利文献

[0014] 专利文献1：日本公开专利公报“日本特开2012-132096号”

发明内容

本发明所要解决的技术问题

[0015] 以往，有机EL显示装置的显示区域的外形为智能电话等的应用标准的正方形或长方形且易于制作。

[0016] 近年来，正在开发通过不使用玻璃而是使用薄膜作为支承体，从而具有柔性(能够弯折)的有机EL显示装置。特别是此种柔性有机EL显示装置的支承体不是玻璃而是薄膜，因此易于加工且能够切为各种形状。

[0017] 并且，例如在智能电话或其他电子设备中为了实现设计方面的差异化，要求针对显示区域的外形制成例如在各角部设置圆弧(圆)、或设置用于配置摄像头以及扬声器的切口(凹口)的形状等的不是正方形或长方形的异形。

[0018] 当这样的异形切割部分存在有发光层时，在之后的密封工序中一部分发光层成为未被密封而露出的状态，因此无法确保可靠性。因此，在蒸镀发光层的蒸镀工序中，需要以在异形切割部分不蒸镀发光层的方式设置掩模。

[0019] 此外，当例如如后述的图19以及图18所示那样，将图18所示的掩模片115中的有效部115a的外形根据有源区域的异形切割部分的形状而设为与异形切割部分相同的形状时，在将掩模片115安装于掩模框111时，蒸镀孔的位置精度变差。而且，近年来，越来越要求像素的高清晰化，因此越来越要求防止蒸镀孔的位置精度下降地将掩模片115安装于掩模框111。

[0020] 本发明是鉴于所述以往的问题点而完成的，其目的在于提供一种即使有源区域为正方形或长方形以外的异形的形状，也能够精度良好地图案化形成蒸镀层的蒸镀掩模。解决问题的方案

[0021] 为了解决所述课题，本发明的一方式所涉及一种蒸镀掩模，其用于在设置有多个排列有参与显示的像素的有源区域的被蒸镀基板的该像素上蒸镀蒸镀层，其特征在于，具有掩模片，所述掩模片设置有以横跨所述多个有源区域的方式排列形成有多个蒸镀孔的有效部，所述有效部具有第一区域和第二区域，所述第一区域具有与所述有源区域对应的形状，在所述第二区域设置有对所述第一区域的形状进行限定并对所述多个蒸镀孔中的一部分蒸镀孔进行遮蔽的遮蔽部。

[0022] 为了解决所述课题，本发明的一方式所涉及一种蒸镀掩模的制造方法，所述蒸镀掩模用于在设置有多个排列有参与显示的像素的有源区域的被蒸镀基板的该像素上蒸镀蒸镀层，所述蒸镀掩模的制造方法的特征在于，具有如下工序：蒸镀孔形成工序，通过在掩模片上形成多个蒸镀孔，从而以横跨多个所述有源区域的方式进行设置有效部；遮蔽部形成工序，通过在所述有效部中的、与所述有源区域对应的形状的外侧形成对所述多个蒸镀孔中的一部分蒸镀孔进行遮蔽的遮蔽部，从而按照每个该有源区域设置与所述有源区域对应的形状的第一区域，并且设置设置有所述遮蔽部的第二区域。发明效果

[0023] 根据本发明的一方式，起到如下效果：即使有源区域为正方形或长方形以外的异形的形状，也能够精度良好地图案化形成的蒸镀层。附图说明

[0024] 图1为表示第一实施方式所涉及的有机EL显示装置的结构的图。图2为表示第一实施方式所涉及的有机EL显示面板的制造工序的图。
图3为第一实施方式所涉及的有机EL显示面板的基板的俯视图。
图4为图3的基板的有机EL显示面板形成区域的剖视图。
图5为表示用于形成第一实施方式所涉及的有机EL显示装置的发光层时的蒸镀工序的情形的示意图。
图6为第一实施方式的有源区域3局部放大图。
图7为表示第一实施方式所涉及的有机EL显示面板中的发光层的蒸镀工序的图。
图8为表示制作第一实施方式所涉及的蒸镀掩模的情形的图。
图9为表示第一实施方式的掩模片的结构的图。
图10为表示在第一实施方式的掩模片中的有效部形成遮蔽部的情形的图。
图11为表示从第二面侧观察到的第一实施方式的蒸镀掩模的一部分的情形的图。
图12为在第一实施方式的蒸镀工序中进行蒸镀时的蒸镀掩模以及TFT基板的剖视图。
图13为表示第一实施方式的变形例1所涉及的蒸镀掩模的结构的图。
图14为表示第一实施方式的变形例2所涉及的蒸镀掩模的结构的图。
图15为表示第二实施方式所涉及的有机EL显示面板中的发光层的蒸镀工序的图。
图16为表示制作第二实施方式所涉及的蒸镀掩模的情形的图。
图17示出制作以往的蒸镀掩模的情形，(a)为表示在掩模框上安装掩模片的情形的图，(b)为表示所制成的蒸镀掩模的俯视图。
图18为表示将有效部的外形设为异形的比较例所涉及的掩模片的结构的俯视图。
图19为将有效部的外形设为异形的比较例所涉及的掩模片的变形例的结构的俯视图。
图20为表示第一实施方式所涉及的设置有浮岛部的掩模片的结构的图。

具体实施方式

[0025] 〔第一实施方式〕(电子设备30的结构)
图1的(a)为表示使用了本发明的第一实施方式所涉及的有机EL显示装置的电子设备
30的外观的立体图，(b)为(a)的剖视图。作为电子设备30的一个示例，可列举出智能电话。
但是，电子设备30并不限定于智能电话，只要是其他便携式电话终端或平板电脑等便携式信息终端、电视接收器、个人计算机等组装有有机EL显示面板(异形的显示面板)42的电子设备即可。

[0026] 电子设备30具有框体32。并且，电子设备30具有分别设置于框体32的触控面板40、扬声器34、摄像头36、以及未图示的麦克风。此外，电子设备30也可以具有对电源的导通和断开进行切换的电源按钮等各种按钮。

[0027] 触控面板40具有触控传感器41和有机EL显示面板42。有机EL显示面板42具有显示各种图像的异形的显示区域43。有机EL显示面板42具有显示区域43和包围显示区域43的周围的框缘区域。通过在有机EL显示面板42上安装有各种部件而构成有机EL显示装置(显示装置)。

[0028] 触控传感器41设置于有机EL显示面板42。触控传感器41是通过感测手指、触控笔等的接触或接近的输入操作，从而接受来自用户的有机EL显示面板42上的坐标位置的输入的输入装置。触控传感器41也可以与有机EL显示面板42形成为一体，也可以形成为与有机EL显示面板42不同的结构。触控传感器41只要是静电容方式、红外线方式等能够接受来自用户的输入操作的方式即可。

[0029] 有机EL显示面板42的显示区域43的外形不是长方形或正方形，而是长方形或正方形以外的形状的异形。

[0030] 异形是指将有机EL显示面板的外形设为长方形或正方形的情况下的缘部(边或角)的至少一部分，具有从该缘部向内侧(长方形或正方形的中央部方向)或外侧(远离长方形或正方形的中央部的方向)突出的异形部分的形状。也就是说，异形部分是指在将有机EL显示面板的外形设为长方形或正方形的情况下，与该长方形或正方形不同的形状部分。

[0031] 在图1中，在有机EL显示面板42的显示区域43中，例如四个角43a～43d具有不是直角而是弯曲的所谓的圆弧(圆)的形状(圆弧形状)。而且，有机EL显示面板42的显示区域43例如为在四边中的至少一边具有以从缘部朝向显示区域43的中央部方向而成为凸起的方式凹入的切口部43d的形状。切口部43d例如具有圆弧形状。有机EL显示面板42中的框缘区域具有宽度窄且与显示区域43的外形大致相同的形状的外形。

[0032] 此外，如图1的(b)所示，在本实施方式中，有机EL显示面板42的显示区域43的两长边附近的截面弯曲。

[0033] 在框体32中的被切口部43d包围的区域配置有摄像头36以及扬声器34。

[0034] 另外，该有机EL显示面板42的外形的形状为一个示例，也可以是其他异形的形状。以下，对该外形为异形的有机EL显示面板42的制造方法进行说明。

[0035] (有机EL显示面板的制造方法的概要)图2为表示第一实施方式所涉及的有机EL显示面板的制造工序的图。图3为本发明的第一实施方式所涉及的有机EL显示面板的基板1的俯视图。图4为图3的基板的有机EL显示面板形成区域的剖视图。在图3中示出从一张母玻璃上对有机EL显示面板形成18个倒角的情况的结构。另外，从一张母玻璃上对有机EL显示面板进行倒角的个数并不限于18个，也可以是17个以下或19个以上。

[0036] 在基板1配置有18个有机EL显示面板形成区域9。有机EL显示面板形成区域9是在从母玻璃切出而单片化后，成为有机EL显示面板的区域。

[0037] 基板1具有TFT基板(被蒸镀基板)2、有源区域3、框状堤4、以及密封层5。

[0038] 有源区域3呈矩阵状设置有多个。有源区域3例如为形成有RGB各自的像素的区域。有机EL显示面板形成区域9中的形成有有源区域3的区域为显示区域43，有机EL显示面板形成区域9中的包围有源区域3的周围的区域为框缘区域44。另外，在图3中，框缘区域44为有机EL显示面板形成区域9中的通过虚线示出的区域(有源区域3)的外侧的区域。

[0039] 如图2～图4所示，首先，在TFT工序S11中制作TFT基板2。TFT基板2通过如下方式制作而成：利用聚酰亚胺等材料在母玻璃上形成成为柔性基板基底的薄膜，通过公知方法于其上形成配置于各像素的像素电路所包含的TFT(晶体管、驱动元件)、栅极布线以及源极布线、以及其他各种布线，并形成钝化膜(保护膜)以及层间绝缘膜(平坦化膜)等，而且在该无机绝缘膜上形成与阳极接触的反射电极层、以及用于限定ITO层以及发光区域的像素堤(边缘罩)。

[0040] 由此，在有源区域3形成发光区域。

[0041] 钝化膜防止TFT中的金属膜的剥离并对TFT进行保护。隔着母玻璃上或其他层而形成钝化膜并覆盖TFT。钝化膜为由氮化硅、氧化硅等构成的无机绝缘性膜。

[0042] 层间绝缘膜对钝化膜上的凹凸进行平坦化。层间绝缘膜形成于钝化膜上。层间绝缘膜为由丙烯酸树脂等感光性树脂或聚酰亚胺等热可塑性树脂构成的有机绝缘膜。

[0043] 此外，在形成该有源区域3时，呈框状包围该有源区域3的框状堤4也形成于TFT基板2上。框状堤4由丙烯酸树脂等感光性树脂或聚酰亚胺等热可塑性树脂构成。

[0044] 接着，在有机EL工序S12中，在TFT基板2的各像素内(即，通过TFT工序S11形成的像素堤的开口部内)的反射电极层上形成有机EL层。有机EL层包含发光层、空穴传输层以及其他功能层。发光层使每个像素发出例如红色、绿色或蓝色等不同颜色的光。发光层以及空穴传输层等蒸镀于每个像素的层(蒸镀层)在蒸镀工序中，在真空中通过使用了本实施方式所涉及的蒸镀掩模的蒸镀而形成于各像素的规定的位置。

[0045] 用于形成发光层以及空穴传输层等蒸镀于每个像素的蒸镀层的蒸镀工序中使用的蒸镀掩模在蒸镀工序之前，通过蒸镀掩模的制作工序S20而预先制作。另外，关于蒸镀掩模的制作工序S20的详情将在下文中进行叙述。此外，使用该蒸镀掩模形成的层并不限定于发光层以及空穴传输层，只要是形成于每个像素(即在像素堤的开口部内)的层即可。

[0046] 并且，以覆盖有机EL层的方式形成隔着有机EL层而与反射电极对置的透明电极。

[0047] 并且，接着在密封工序S13中形成密封层5。密封层5可制成从TFT基板2侧依序层压无机膜6、有机膜7、以及无机膜8而成的三层构造作为一个示例。由于形成有框状堤4，因此能够将有机膜7的膜厚形成为厚达例如1.0μm以上。

[0048] 在形成该密封层5后，进行柔性工序S14。在柔性工序S14中，剥离基板的玻璃并粘贴作为支承体的薄膜等。

[0049] 并且，接着在单片化工序S15中，切出各有机EL显示面板形成区域9。由此将各有机EL显示面板形成区域9单片化。由此，形成具有挠性的异形的显示面板(有机EL显示面板)。

[0050] 接下来，在安装工序S16中，在单片化的各有机EL显示面板形成区域9安装驱动器等构件。由此完成有机EL显示装置。

[0051] 在本实施方式中，有源区域3例如为长方形或正方形以外的形状的异形，显示面板的外形也与有源区域3的形状对应地成为异形。

[0052] 图5为表示形成本发明的第一实施方式所涉及的有机EL显示装置的蒸镀层时的蒸镀工序的情形的示意图。

[0053] 在蒸镀蒸镀层的蒸镀工序中，将设置有具有多个通孔的掩模片15的蒸镀掩模10紧密贴合于TFT基板2，在真空下，使由蒸镀源70 蒸发的蒸镀粒子Z(例如，有机发光材料)越过掩模片15而蒸镀于TFT基板2中的像素。由此，在TFT基板2形成与掩模片15的通孔对应的图案的蒸镀图案。

[0054] 在此，有源区域3(参照图1、图3以及图4)的外形为长方形或正方形以外的形状的异形。例如，有源区域3为具有四个角43a～43d不是直角而是圆，而且在四边中的至少一边具有从缘部向显示区域的中央部方向凹入的切口部43d的异形。因此，在蒸镀工序中使用的蒸镀掩模也与有源区域3的形状对应地排列形成有蒸镀孔。

[0055] 图6为第一实施方式的有源区域3的局部放大图。在有源区域3呈矩阵状排列配置有参与图像显示的像素pix。在像素pix形成有发光层80。包围像素pix的周围的区域为像素堤bk。

[0056] 作为一个示例，在图6中，形成有发出红色光的红色发光层80R的红色像素Rpix、具有发出绿色光的绿色发光层80G的绿色像素Gpix、具有发出蓝色光的蓝色发光层80B的蓝色像素Bpix成为PenTile排列。但是，像素配置并不特别限定于PenTile排列，也可以是例如带状排列等其他排列。

[0057] 另外，发光层80的形状为在内部形成该发光层80的像素堤bk的开口部的形状。

[0058] (蒸镀掩模)接着，对蒸镀工序中使用的蒸镀掩模的制作工序S20进行说明。图7为表示第一实施方式所涉及的有机EL显示面板中的发光层的蒸镀工序的图。图8为表示制作第一实施方式所涉及的蒸镀掩模的情形的图。图8的(a)为掩模框的俯视图，(b)为表示将覆盖片安装于掩模框的情形的图，(c)为表示将支撑片安装于掩模框的情形的图，(d)为表示将对准片安装于掩模框的情形的图，(e)为表示将掩模片安装于掩模框的情形的图，(f)为所制作的蒸镀掩模的俯视图。

[0059] 如图7的工序Sa、图8的(a)、(b)所示，在被框包围的区域内具有框开口部11a的框状的掩模框11安装多个覆盖片12(覆盖片安装工序)。

[0060] 对于掩模框11，例如使用厚度20mm～30mm的热膨胀极小的殷钢材料等作为母材。掩模框11与掩模片相比足够厚且具有较高的刚性，以便在架设掩模片而进行熔接时也能够确保充分的精度。

[0061] 覆盖片12发挥在后侧填埋安装于掩模框11的掩模片间的间隙、或堵塞形成于掩模片的虚设图案的作用。

[0062] 对于覆盖片12，例如使用厚度30μm～50μm的殷钢材料等作为母材。覆盖片12为细长的形状，且从一端部到另一端部呈直线状延伸。

[0063] 在将覆盖片12安装于掩模框11时，如图8的(b)中的箭头F1所示，通过分别对覆盖片12的两端部沿向外的方向(相互分离的方向)施加力而进行架设(拉伸)，并且将覆盖片12的两端部熔接于设置于掩模框11的槽内。并且，将覆盖片12中的熔接的部分的外侧的多余部分切去。由此，将各覆盖片12安装于掩模框11的规定位置。在本实施方式中，各覆盖片12以与掩模框11的短边方向平行的方式安装于掩模框11。各覆盖片12沿掩模框11的长边排列，并以相互平行的方式安装于掩模框11。

[0064] 接着，如图7的工序Sb以及图8的(c)所示，在安装有覆盖片12的掩模框11上安装支撑片13(也称为支承片)(支撑片安装工序)。

[0065] 支撑片13发挥将之后安装于掩模框11的掩模片支承为不松驰、对形成于掩模片的虚设图案进行堵塞的作用。

[0066] 支撑片13例如使用厚度30μm～100μm的殷钢材料等作为母材。支撑片13的宽度例如为8mm～10mm程度，并由配置有面板的基板上的布局来确定。支撑片13为细长的形状，且从一端部到另一端部呈直线状延伸。

[0067] 通常在竖向(portrait)形状的显示面板中，端子部被支撑片掩盖，因此支撑片的宽度比覆盖片的宽度宽，但支撑片配置于不与显示面板的显示区域(即掩模片的有效部)重叠的位置。

[0068] 如图8的(c)中的箭头F2所示，在将支撑片13安装于掩模框11时，通过分别对支撑片13的两端部沿向外的方向(相互分离的方向)施加力而进行架设(拉伸)，并且将支撑片13的两端部熔接于设置于掩模框11的槽内。并且，将支撑片13中的熔接的部分的外侧的多余部分切去。由此，将各支撑片13安装于掩模框11的规定位置。

[0069] 在本实施方式中，各支撑片13以与掩模框11的长边平行的方式安装于掩模框11。各支撑片13沿掩模框11的短边方向排列，并以相互平行的方式安装于掩模框11。

[0070] 另外，也可以将在掩模框11上安装覆盖片12和支撑片13的顺序反过来(切换图7的工序Sa和工序Sb)，在掩模框11上先安装支撑片13之后，接着安装覆盖片12。

[0071] 如图8的(c)所示，通过在掩模框11上呈格子状安装多个覆盖片12和多个支撑片13，从而排列形成有由相互对置的覆盖片12和相互对置的支撑片13划分出的开口部。

[0072] 接着，如图7的工序Sc以及图8的(d)所示，以对位标记来到规定位置的方式将形成有对位标记的对准片14安装于掩模框11(对准片安装工序)。

[0073] 在将对准片14安装于掩模框11时，如图8的(d)中的箭头F3所示，通过分别对对准片14的两端部施加沿向外的方向(相互分离的方向)且与掩模框11的短边方向平行的方向的力而进行架设(拉伸)，并将对对准片14的两端部熔接于掩模框11的规定位置。并且，将对准片14中的熔接的部分的外侧的多余部分切去。由此，将各对准片14安装于掩模框11的规定位置。在本实施方式中，两根对准片14分别以沿掩模框11的框开口部11a的短边相互平行的方式安装于掩模框11。

[0074] 接着，如图7的工序Sd以及图8的(e)所示，在掩模框11上安装多个掩模片15(掩模片安装工序)。掩模片15是用于在图3以及图4所示的有源区域3中的像素内图案化形成蒸镀层的片材，例如分别用于分别涂布成RGB的片材。

[0075] 在该工序Sd之前，作为工序S101，在将掩模片15安装于掩模框11之前，通过呈正方形或长方形排列形成蒸镀孔而预先将有效部YA形成于掩模片15(有效部形成工序)。有效部YA横跨多个有源区域3，也就是说具有与多个有源区域3重叠的程度的面积。该有效部YA的构造的详情将在下文中叙述。

[0076] 在工序Sd中，如图7的(e)中的箭头F4所示，在将掩模片15安装于掩模框11时，通过分别对掩模片15的两端部沿向外的方向(相互分离的方向)施加力而进行架设(拉伸)，并且以形成于对准片14的对位标记为基准，以构成有效部YA的蒸镀孔来到规定位置的方式，将掩模片15的两端部精度良好地熔接于掩模框11的规定位置。

[0077] 此外，在对该掩模片15进行架设以及熔接时，根据架设以及熔接后的掩模片15的变形量，一边对掩模框11施加反作用力一边进行架设以及熔接。

[0078] 在此，形成于掩模片15的有效部YA的外形不是异形而是正方形或长方形。因此，与具有异形的有效部的掩模片相比而言，能够防止在对掩模片15进行架设时施加于掩模片的应力变得不均匀。由此，能够防止蒸镀掩模中的蒸镀孔的位置偏移，能够精度良好地将掩模片15安装于掩模框11。

[0079] 并且，如图8的(f)所示，对于掩模片15，以由覆盖片12和支撑片13划分出的开口部完全被有效部YA覆盖的方式，将所需的全部片材大小的掩模片15安装于掩模框11，然后如图7的工序Se以及图8的(f)所示，将各掩模片15中的熔接部分外侧的多余部分切去。

[0080] 接着，在掩模片15的正方形或长方形的有效部YA，通过在与有源区域3(参照图3)对应的形状的外侧形成对蒸镀孔进行遮蔽的遮蔽部25，从而形成与有源区域3对应的形状的第一区域YA和设置有遮蔽部25的第二区域YA2(遮蔽部形成工序)。第一区域YA形成于每个有源区域3。

[0081] 由此，完成蒸镀掩模10。

[0082] 接着，如图7的工序Sg所示，对所完成的蒸镀掩模10进行清洗，并进行异物检查以及精度检查等各种掩模检查。其后，将掩模检查中没有问题的蒸镀掩模10存放于贮藏柜，并根据需要供给至蒸镀工序中所使用的蒸镀装置。

[0083] 另外，也可以对工序Se和工序Sf进行互换，在掩模片15的有效部YA上形成遮蔽部25之后(工序Sf)，将掩模片15的多余部分切去(工序Se)。

[0084] (有效部YA)图9为表示掩模片15的结构的图。图9的(a)为掩模片15的俯视图，(b)为(a)所示的有效部的放大图，(c)为(b)所示的B-B线剖视图，(d)为(b)所示的C-C线剖视图。

[0085] 如图9的(a)所示，掩模片15具有片材部15a和遮蔽部25。片材部15a为短条状，例如使用厚度10μm～50μm，优选为25μm程度的殷钢材料等作为母材。

[0086] 构成遮蔽部25的材料并不限定于树脂，但优选为树脂。其原因在于：可以如后述那样，通过喷墨法等涂布来形成遮蔽部25。

[0087] 作为构成遮蔽部25的树脂，能够使用热固化性树脂或紫外光等光固化性树脂。在通过热固化性树脂构成遮蔽部25的情况下，例如可列举出聚酰亚胺等。在通过光固化性树脂构成遮蔽部25的情况下，例如可列举出高耐久性丙烯酸系树脂或丙烯酸和/或环氧系树脂等。

[0088] 相比热固化性树脂，优选通过光固化性树脂构成遮蔽部25。其原因在于：在对遮蔽部25施加热而使其固化的情况下，掩模片15也被施加热，会因殷钢材料(金属)与树脂的膨胀率以及收缩率的差异而对掩模片15施加有不需要的力。特别是在热固化性树脂的情况下，即使掩模片15为殷钢材料那样的低热膨胀率的材料，也会因用于固化的升温而在稍微膨胀的状态下固化，存在有无法维持精度的可能性。

[0089] 因此，由于利用光固化性树脂构成遮蔽部25，因此在使所涂布的液状的遮蔽部25固化时可以不施加热，能够减轻因遮蔽材料(树脂)与殷钢材料的热膨胀率的差异而产生的精度的影响、遮蔽树脂的剥离、以及掩模片产生褶皱。由此，能够维持掩模片的位置精度。

[0090] 为了防止所蒸镀的发光层的厚度不均匀，由厚度较薄的片材构成掩模片15的片材部15a。

[0091] 在掩模片15的两端部间形成有沿掩模片15的长边方向延伸的有效部YA。在有效部YA形成有与像素对应的多个蒸镀孔H。

[0092] 有效部YA的外形不是异形而是正方形或长方形，以便尽量使应力均匀。在本实施方式中，有效部YA的外形为长方形。有效部YA具有与TFT基板2的多个有源区域3重叠的面积。

[0093] 有效部YA具有第一区域YA1和第二区域YA2。第一区域YA1形成于每个有源区域3(参照图3)，并具有与该有源区域3对应的形状。第二区域YA2为设置有遮蔽部25的区域，所述遮蔽部25对有效部YA中的、第一区域YA1外且有效部YA所包含的多个蒸镀孔中的一部分蒸镀孔进行遮蔽。

[0094] 遮蔽部25设置于片材部15a上且有效部YA中的未与TFT基板2的有源区域3重叠的部分。遮蔽部25对具有异形部分的各第一区域YA1的形状进行限定。

[0095] 如图9的(b)所示，在有效部YA中，第一区域YA所包含的蒸镀孔H贯穿，第二区域YA2所包含的蒸镀孔H被遮蔽部25遮蔽。遮蔽部25无需设置于第二区域YA2所包含的每个蒸镀孔H，也可以以横跨第二区域YA2所包含的各蒸镀孔H的方式形成。由此，也可以以某种程度降低利用喷墨法涂布成为遮蔽部25的遮蔽材料时的涂布位置的精度。

[0096] 第一区域YA所包含的蒸镀孔H为用于在每个像素上图案化形成蒸镀层的蒸镀孔。第二区域YA2所包含的蒸镀孔H为不参与在每个像素上图案化形成蒸镀层的虚设的蒸镀孔。

[0097] 在蒸镀工序中，掩模片15的有效部YA中的、第一区域YA1与TFT基板2的有源区域3(参照图3以及图4)重叠，包围作为第一区域YA1的外侧的第二区域YA2以及有效部YA的缘部与框缘区域44(参照图3以及图4)重叠。并且，从蒸镀源发出的蒸镀粒子穿过第一区域YA1所包含的蒸镀孔H而蒸镀于TFT基板2的有源区域3的像素上。此时，掩模片15中的包围第二区域YA2以及有效部YA的缘部与TFT基板2的框缘区域44重叠，因此蒸镀粒子被包围第二区域YA2以及有效部YA的缘部遮蔽，从而不到达像素间以及框缘区域44。

[0098] 在通过掩模片15将发光层蒸镀于TFT基板上的情况下，与有效部YA中与发出发光层所发出的颜色中的任意颜色光的发光层的形成区域对应地形成蒸镀孔H。例如，在有源区域3形成发出红色光的发光层、发出绿色光的发光层、以及发出蓝色光的发光层的情况下，以与发出红色光的发光层、发出绿色光的发光层、以及发出蓝色光的发光层中的任意发光层的图案相同的图案形成蒸镀孔H。

[0099] 第二区域YA2的蒸镀孔H具有与第一区域YA1的蒸镀孔H相同的间距以及相同的形状。即，设置于第一区域YA1间的蒸镀孔H具有与设置于第一区域YA1的蒸镀孔H相同的间距以及相同的形状。

[0100] 有效部YA对第一区域YA1以及第二区域YA2进行组合而成为长方形或正方形，具有不是异形的形状。

[0101] 掩模片15在图7所示的工序S101中，例如如以下那样，在片材部15a上制作蒸镀孔。

[0102] 首先，在由殷钢材料等构成的长条板的片材部15a的两个面涂布负型或者正型的感光性抗蚀材料，在两主面(第一面以及第二面)形成抗蚀膜。

[0103] 接下来，通过使用曝光掩模对第一面以及第二面的抗蚀膜进行曝光以及显影从而在片材部15a的两个面形成抗蚀图案。接下来，将第一面抗蚀图案作为掩模对有效部YA的第一面15b(在蒸镀时与TFT基板2对置的面)进行蚀刻(并不对缘部的上表面进行蚀刻)，在有效部YA的第一面15b上图案化形成开口K(在该阶段不成为贯穿的蒸镀孔)。

[0104] 接下来，利用具有耐蚀刻性的耐性树脂覆盖第一面15b，将第二面15c(在蒸镀时成为与TFT基板2的对置面相反侧的面)抗蚀图案作为掩模，对有效部YA以及缘部的下表面进行蚀刻。由此，在有效部YA中，通过自第二面15c侧的浸蚀而形成蒸镀孔H(通孔)，在缘部的下表面形成多个凹口。

[0105] 沿掩模片15的长边方向以及短边方向(宽度方向)呈矩阵状或倾斜格子状地形成有效部YA的多个蒸镀孔H，其开口K(上表面的开口)以与基板的像素堤层的开口形状对应的方式成为带圆角的四边形形状或者圆形或椭圆形的形状。在有效部YA，对各蒸镀孔H进行如下的蚀刻，即与第一面15b侧的蚀刻相比而言，更广泛且更深地进行第二面15c侧的蚀刻，从而能够减小被遮蔽的部分(相邻的两个蒸镀孔间的分隔的高度)，可提高对于基板的蒸镀精度以及蒸镀效率。

[0106] 在有效部YA，当利用穿过横向相邻的两个开口K的中心的B-B线获得截面时，如图9的(c)所示那样，成为母材最小(空洞最大)的结构，当利用从纵方向相邻的两个开口K穿过等距离的点而与B-B线平行的C-C线获得截面时，如图9的(c)、(d)所示那样，成为母材最大(空洞最小)的结构(最大厚度为母材的厚度Ti)。

[0107] 由此，制作用于架设并熔接于掩模框11(图8的(e))的掩模片15。

[0108] 掩模片15如上所述在固定于掩模框11后，如图7的工序sf以及图8的(f)所示，在有效部YA的一部分形成遮蔽部25。

[0109] 图10为表示在掩模片15的有效部YA形成有遮蔽部25的情形的图，(a)为表示在掩模片15的有效部YA涂布有遮蔽材料250的情形的图，(b)为表示使遮蔽材料250固化的情形的图。

[0110] 作为一个示例，对使用喷墨法形成遮蔽部25的情况进行说明。

[0111] 如图8的(e)、(f)所示，在将规定张数的掩模片15熔接于掩模框11后，如图10的(a)所示设置为掩模片15中的第一面15b朝向下方，第二面15c朝向上方。

[0112] 并且，从喷墨装置50的喷头向有效部YA的第二面15c上且成为第二区域YA2的区域涂布遮蔽材料250(涂布工序)。

[0113] 并且，当涂布规定量的遮蔽材料250时，使该涂布的遮蔽材料250固化(固化工序)。由此，如图10的(b)所示那样在有效部YA的第二区域YA2形成遮蔽部25。

[0114] 图11为表示从第二面15b侧观察到的蒸镀掩模10的一部分的情形的图。图12为在蒸镀工序中进行蒸镀时的蒸镀掩模10以及TFT基板2的剖视图。

[0115] 如图11以及图12所示，遮蔽部25设置于掩模片15中的、和与TFT基板2对置的第一面15b相反侧的第二面15c。因此，能够防止掩模片15中的第一面15b因遮蔽部25而成为隆起的形状。由此，在TFT基板2的蒸镀时，能够使第一面15b与TFT基板2紧密贴合。其结果，在TFT基板2的蒸镀时，能够防止因遮蔽部25而产生阴影。

[0116] 另外，遮蔽部25也可以不仅层压于有效部YA上，还层压于有效部YA间的覆盖片12上以及支撑片13上。在本实施方式中，在有效部YA中的与覆盖片12上以及支撑片13对置的区域，覆盖片12上以及支撑片13成为掩模而未形成遮蔽部25。

[0117] (主要的效果)如图11等所示，有效部YA以横跨多个有源区域的方式排列形成蒸镀孔。并且，有效部YA为与有源区域3对应的形状，并具有设置于每个有源区域3的第一区域YA1、和对第一区域YA1的形状进行限定并设置有对蒸镀孔H进行遮蔽的遮蔽部25的第二区域YA2。

[0118] 因此，在蒸镀工序中，能够通过第一区域YA1在具有所期望的外形的有源区域3所包含的各像素上图案化形成蒸镀层。

[0119] 例如，通过遮蔽部25来限定形状的第一区域YA1为具有弯曲部25a～25d和切口25e的形状，所述弯曲部25a～25d具有与有源区域3(图3)所具有的四个角43a～43d对应的圆弧(圆)，所述切口25e为与切口43e对应的圆弧形状。

[0120] 切口25e为供第二区域YA2从第一区域YA1的一边朝向该第一区域YA1的内部方向突出的切口。弯曲部25a～25d对第一区域YA1的具有四角的圆的形状进行限定。被该弯曲部25a、凸部25e、弯曲部25b、弯曲部25c、以及弯曲部25d包围的第一区域YA1内的蒸镀孔未被遮蔽部25遮蔽而成为通孔。另一方面，弯曲部25a、凸部25e、弯曲部25b、弯曲部25c、以及弯曲部25d中的第一区域YA1外的蒸镀孔被遮蔽部25遮蔽。

[0121] 由此，能够通过具有异形部分的第一区域YA1，在具有与该第一区域YA1相同的外形、即具有异形部分的有源区域的各像素上形成蒸镀层。

[0122] 另外，第一区域YA1的形状并不限于此，只要与有源区域3(图3)的形状相同即可。

[0123] 图18为表示将有效部的外形设为异形的比较例所涉及的掩模片的结构的俯视图。

[0124] 如图18所示，为了通过蒸镀而在异形的有源区域图案化形成蒸镀层，还想到了将有效部的外形设为与有源区域对应的异形的方法。

[0125] 在掩模片115中，不是正方形或长方形的异形有效部115Aa排列形成于掩模片115A。

[0126] 在有效部115Aa中图案化形成有的作为通孔的蒸镀孔。有效部115Aa成为四个角143Aa～143Ad不是直角而弯曲的形状。而且，在效部115Aa中，在将角143Aa和角143Ab连结的直线状的边的一部分形成有凹入的切口部143Ae。

[0127] 在将形成有此种异形有效部115Aa的掩模片115A安装于掩模框时，如图18的箭头F104所示，当对掩模片115A的两端部施加向外的力时，施加于箭头AR100所示的四个角143Aa～143Ad的周围区域以及箭头AR101所示的切口部143Ae的周围区域那样的异形部分的周围区域的应力变得不均匀，从而造成位移量不均匀。其结果，安装有掩模片115A的蒸镀掩模中的蒸镀孔的位置精度变差。

[0128] 图19为表示将有效部的外形设为异形的掩模片的变形例的结构的俯视图。

[0129] 想到了如图19所示的掩模片115B所示的有效部115Ba那样，四个角143Ba～143Bd弯曲，但在与切口部143Ae(参照图18)对应的区域形成全蚀刻部143Be1和半蚀刻部143Be2的方式。全蚀刻部143Be1所包含的蒸镀孔为通孔，在半蚀刻部143Be2所包含的蒸镀孔形成区域形成不贯穿的凹部。

[0130] 由此，在将掩模片115B安装于掩模框时，如图19的箭头F104所示，当对掩模片115B的两端部施加向外的力时，施加于全蚀刻部143Be1以及半蚀刻部143Be2的周围区域的应力的不均匀性与施加于图18所示的切口部143Ae的周围区域的应力的不均匀性相比能够被减轻。但是，施加于全蚀刻部143Be1以及半蚀刻部143Be2的周围区域的应力依然不均匀，而且，施加于四个角143Ba～143Bd的周围的应力也依然残留不均匀性。

[0131] 另一方面，如上述那样，在本实施方式所涉及的蒸镀掩模10中，将掩模片15中的有效部YA设为长方形或正方形。并且，通过在有效部YA设置遮蔽部25，形成有具有与有源区域3的异形部分对应的外形的第一区域YA1。

[0132] 由此，无需使特别是蒸镀掩模10中的要求位置精度的有效部YA的外形与应蒸镀发光层的有源区域3的外形匹配。因此，即使应蒸镀蒸镀层的有源区域的外形为异形，也能够不将掩模片15的有效部YA的外形设为异形而是设为长方形或正方形(在本实施方式中为长方形)。

[0133] 因此，在将掩模片15安装于掩模框11时，即使架设掩模片15，也与将有效部设为异形的情况不同，能够防止对掩模片15施加不均匀的应力。由此，能够获得蒸镀掩模10中的蒸镀孔H的位置精度较高的蒸镀掩模10。即，能够通过蒸镀掩模10而在TFT基板2的各像素上精度良好地蒸镀发光层。

[0134] 另外，还能够将TFT基板2中的形成有发光层的有源区域3的外形设为与正方形或长方形不同的异形，能够获得设计性较高的有机EL显示面板。

[0135] 此外，在本实施方式中，在架设掩模片15并将其熔接于掩模框11(图7的工序Sd、图8的(e))之后，在有效部YA中形成遮蔽部25(图7的工序Sf、图8的(f))。即，在本实施方式中，在所述掩模片安装工序之后进行所述涂布工序以及所述固化工序。由此，能够防止由在遮蔽部25形成后架设掩模片15而产生的应力不均匀所引起的掩模精度的下降以及因掩模片
15的架设而造成的遮蔽部25损坏。

[0136] 此外，遮蔽部25可通过使用了喷墨法等的涂布来形成，因此不仅对异形的外形进行限定，还可以如图20所示那样通过遮光部25设置浮岛部25f来对浮岛形状进行限定。浮岛部25f为被第一区域YA1包围的区域且为与第一区域YA1不同的区域。换而言之，浮岛部25f为在第一区域YA1内，不与第一区域YA1的外形接触的多个蒸镀孔被遮蔽而成的孤立的区域。可通过该浮岛部25f在有源区域3内也以与浮岛部25f相同的形状以及在相同的位置设置浮岛部。设置于有源区域3内的浮岛部为被有源区域3包围的区域且为与有源区域3不同的区域。换而言之，有源区域3内的浮岛部为在有源区域3内且不与有源区域3的外形接触的未形成有蒸镀层的孤立的区域。

[0137] 如此，即使在有源区域3内设置浮岛，也能够通过在有效部YA内设置浮岛部25f而形成有源区域3内的浮岛。

[0138] 如此，根据蒸镀掩模10，即使有源区域3的外形为长方形或正方形以外的异形，也能够抑制形成于有效部YA的蒸镀孔H在蒸镀掩模10中的位置偏移。

[0139] 除此以外，即使有源区域3的外形改变也无需变更有效部YA的外形，因此能够在具有各种外形的基板间共用形成有有效部YA的掩模片15。

[0140] (变形例1)图13为表示第一实施方式的变形例1所涉及的蒸镀掩模10的结构的图，(a)为表示宽幅的掩模片的结构的图，(b)为在(a)的掩模片设置有各种形状的第一区域YA1的图。在此，将安装于掩模框11的覆盖片12的延伸方向称为行方向，将安装于掩模框11的支撑片13的延伸方向称为列方向(参照图8)。

[0141] 如图13的(a)所示，掩模片15的有效部YA的宽度(列方向的长度)以沿列方向重叠有多个覆盖片12与支撑片13交叉的开口部的程度而成为宽幅。

[0142] 此外，如图13的(b)所示，也可以在一个有效部YA设置具有多种不同的形状的第一区域YA1。遮蔽部25通过涂布来形成，因此能够以各种形状设置于有效部YA。在图13的(b)所示的示例中，在一个有效部YA沿列方向设置有第一区域YA1的个数也不同。

[0143] 但是，各个有效部YA1的间隔还以成为像素间距的整数倍的方式配置于TFT基板的有源区域。

[0144] 如此，能够将不同的形状的多个第一区域YA1设置于共用的一张掩模片15。由此，无需按照每个不同有源区域的形状准备掩模片15。

[0145] 另外，有效部YA的外形还是正方形或长方形，因此即使架设掩模片15也不会使蒸镀孔的位置精度下降，从而能够将掩模片15安装于掩模框11。

[0146] (变形例2)图14为表示第一实施方式的变形例2所涉及的蒸镀掩模10的结构的图。如图14所示，也可以不将多个掩模片15安装于掩模框11，而将一张较大的掩模片15安装于掩模框11。

[0147] 在图14所示的示例中，将设置有有效部YA的一张掩模片15安装于掩模框11，所述有效部YA具有覆盖所有覆盖片12与支撑片13交叉的开口部的程度的面积。其后，通过喷墨装置等将遮光材料涂布于有效部YA并使其固化，从而形成遮蔽部25。由此，能够在覆盖片12与支撑片13交叉的各开口部的每个开口部设置第一区域YA。

[0148] 〔第二实施方式〕遮蔽部25也可以在对掩模片15进行架设以及熔接之前涂布于有效部YA，在对掩模片15进行了架设以及熔接之后使其完全固化。

[0149] 图15为表示第二实施方式所涉及的有机EL显示面板中的发光层的蒸镀工序的图。图16为表示制作第二实施方式所涉及的蒸镀掩模的情形的图。图16的(a)为掩模框的俯视图，(b)为表示将覆盖片安装于掩模框的情形的图，(c)为表示将支撑片安装于掩模框的情形的图，(d)为表示将对准片安装于掩模框的情形的图，(e)为表示将掩模片安装于掩模框的情形的图，(f)为所制作的蒸镀掩模的俯视图。

[0150] 在本实施方式中，执行图15所示的工序S20A而替代图7所示的工序S20。

[0151] 图15所示的工序Sa～Sc以及图16的(a)～(d)与图7的工序Sa～Sc以及图8的(a)～(d)相同。

[0152] 如图15的工序Sc以及图16的(d)所示，以对位标记来到规定位置的方式将对准片14安装于掩模框11。

[0153] 接着，如图15的工序Sh以及图16的(e)所示，在预先通过有效部形成工序形成有多个有效部YA的掩模片15中的有效部YA，在与有源区域3(参照图3)对应的形状的外侧涂布用于对蒸镀孔进行遮蔽的遮蔽材料250(图10的(a))(涂布工序)。并且，使该涂布的遮蔽材料250预固化(第一固化、预固化)至未完全固化程度(第一固化工序)。

[0154] 在第一固化工序中，在遮蔽材料250使用热固化性树脂的情况下，以以较低的温度或较短的加热时间将遮蔽材料250加热到未形成完全固化的遮蔽部25的程度。此外，在遮蔽材料250使用光固化性树脂的情况下，以以较弱的光量或较短的照射时间对遮蔽材料250照射紫外光等光使其成为未形成完全固化的遮蔽部25的程度。或者也可以在第一固化工序中，在遮蔽材料250使用热固化性树脂或光固化性树脂中的任意一者的情况下，通过减压使遮蔽材料250预固化。

[0155] 接下来，如图15的工序Sd以及图16的(e)所示，将多个掩模片15安装于掩模框11(掩模片安装工序)。

[0156] 在工序Sd中，如图16的(e)中的箭头F4所示，在将掩模片15安装于掩模框11时，通过分别向掩模片15的两端部沿向外的方向(相互分离的方向)施加力而进行架设(拉伸)，并且以形成于对准片14的对位标记为基准，以构成有效部YA的蒸镀孔来到规定位置的方式，将掩模片15的两端部精度良好地熔接于掩模框11的规定位置。

[0157] 在此，在掩模片15的有效部YA设置有预固化的遮蔽材料250。但是，由于遮蔽材料250未完全固化，因此掩模片15被架设而延伸，遮蔽材料250也会追随掩模片15的延伸而延伸。因此，能够防止因掩模片15的架设而使遮蔽材料250产生不良。

[0158] 并且，对于掩模片15，如图16的(f)所示那样，以有效部YA完全覆盖由覆盖片12和支撑片13划分出的开口部的方式，将所需的全部片材大小的掩模片15安装于掩模框11，然后如图15的工序Se以及图16的(f)所示那样，将各掩模片15中的熔接部分的外侧的多余部分切去。

[0159] 接下来，如图15的工序Si以及图16的(f)所示，使预固化的遮蔽材料250完全固化(第二固化)(第二固化工序)。由此，在有效部YA形成遮蔽部25(遮蔽部形成工序)。

[0160] 在第二固化工序中，在遮蔽材料250使用热固化性树脂的情况下，通过较高的温度或充分的加热时间将遮蔽材料250加热到遮蔽材料250完全固化的程度。此外，在遮蔽材料250使用光固化性树脂的情况下，通过较强的光量或充分的照射时间对遮蔽材料250照射紫外光等光使遮蔽材料250成为完全固化的程度。

[0161] 由此，完成蒸镀掩模10。

[0162] 接着，如图15的工序Sg所示，对所完成的蒸镀掩模10进行清洗，并进行异物检查以及精度检查等各种掩模检查。其后，将在掩模检查中没有问题的蒸镀掩模10被存放于贮藏柜，并根据需要供给至蒸镀工序中所使用的蒸镀装置。

[0163] 另外，也可以对工序Se和工序Si进行互换，在将遮蔽部形成于掩模片15的有效部YA之后(工序Si)，将掩模片15的多余部分切去(工序Se)。

[0164] 如此，在第二实施方式中，所述固化工序包含使所述遮蔽材料250预固化的第一固化工序、和通过对该预固化的遮蔽材料250进一步进行固化而形成所述遮蔽部25的第二固化工序。并且，所述涂布工序以及所述第一固化工序在所述掩模片安装工序之前进行，所述第二固化工序在所述掩模片安装工序之后进行。由此也能够位置精度充分良好地设置遮蔽部25，以便对有效部YA中的第一区域YA1的形状进行限定。

[0165] 另外，在涂布工序中，也可以在通过分别对掩模片15的两端部沿向外的方向(相互分离的方向)施加力而进行架设的状态下，将遮蔽材料250涂布于第二区域YA2。通过如此设置，能够更可靠地防止因掩模片15的架设而使遮蔽部25产生不良。

[0166] 此外，在本实施方式中，在涂布了成为遮蔽部25的遮蔽材料250之后，将掩模片15安装于掩模框11，因此在有效部YA间的支撑片13上并未层压有遮蔽部25。

[0167] 此外，如果第一、第二实施方式所涉及的显示器为具备显示元件的显示面板，则并不特别限定。所述显示元件为通过电流来控制亮度、透过率的显示元件，作为电流控制的显示元件，存在有具备OLED(Organic Light Emitting Diode：有机发光二极管)的有机EL(Electro Luminescence：电致发光元件)显示器、或具备无机发光二极管的无机EL显示器等EL显示器、具备QLED(Quantum dot Light Emitting Diode：量子点发光二极管)的QLED显示器等。

[0168] 〔总结〕第一方式涉及一种蒸镀掩模，其用于在设置有多个排列有参与显示的像素的有源区域的被蒸镀基板的该像素上蒸镀蒸镀层，其特征在于，具有掩模片，所述掩模片设置有以横跨所述多个有源区域的方式排列形成有多个蒸镀孔的有效部，所述有效部具有第一区域和第二区域，所述第一区域具有与所述有源区域对应的形状，在所述第二区域设置有对所述第一区域的形状进行限定并对所述多个蒸镀孔中的一部分蒸镀孔进行遮蔽的遮蔽部。

[0169] 第二方式所涉及的蒸镀掩模也可以构成为，所述遮蔽部以横跨所述第二区域所包含的多个蒸镀孔的方式进行设置。

[0170] 第三方式所涉及的蒸镀掩模也可以构成为，所述遮蔽部设置于与所述掩模片中的、和所述被蒸镀基板对置的第一面相反侧的第二面。

[0171] 第四方式所涉及的蒸镀掩模也可以构成为，所述遮蔽部为树脂。

[0172] 第五方式所涉及的蒸镀掩模也可以构成为，所述遮蔽部为光固化性树脂。

[0173] 第六方式所涉及的蒸镀掩模也可以构成为，所述有效部为正方形或长方形。

[0174] 第七方式所涉及的蒸镀掩模也可以构成为，在所述有效部设置有形状不同的多个所述第一区域。

[0175] 第八方式涉及一种蒸镀掩模的制造方法，所述蒸镀掩模用于在设置有多个排列有参与显示的像素的有源区域的被蒸镀基板的该像素上蒸镀蒸镀层，所述蒸镀掩模的制造方法的特征在于，具有如下工序：蒸镀孔形成工序，通过在掩模片上形成多个蒸镀孔，从而以横跨多个所述有源区域的方式设置有效部，遮蔽部形成工序，通过在所述有效部中的、与所述有源区域对应的形状的外侧形成对所述多个蒸镀孔中的一部分蒸镀孔进行遮蔽的遮蔽部，从而按照每个该有源区域设置与所述有源区域对应的形状的第一区域，并且设置设置有所述遮蔽部的第二区域。

[0176] 第九方式所涉及的蒸镀掩模的制造方法也可以构成为，所述遮蔽部形成工序包含：涂布工序，将遮蔽材料涂布于所述掩模片中的成为所述第二区域的区域；固化工序，使通过所述涂布工序而涂布的所述遮蔽材料固化而形成所述遮蔽部。

[0177] 第十方式所涉及的蒸镀掩模的制造方法中，所述蒸镀掩模用于在设置有多个排列有参与显示的像素的有源区域的被蒸镀基板的该像素上蒸镀蒸镀层，所述蒸镀掩模的制造方法的特征在于，具有如下工序：蒸镀孔形成工序，通过在掩模片形成多个蒸镀孔而以横跨多个所述有源区域的方式设置有效部；遮蔽部形成工序，通过在所述有效部中的、与所述有源区域对应的形状的外侧形成对所述多个蒸镀孔中的一部分蒸镀孔进行遮蔽的遮蔽部，从而将与所述有源区域对应的形状的第一区域设置于每个该有源区域，并且设置设置有所述遮蔽部的第二区域。

[0178] 第十一方式所涉及的蒸镀掩模的制造方法也可以构成为，具有掩模片安装工序，对所述掩模片进行架设并将其安装于框状的掩模框，所述固化工序包含：第一固化工序，使所述遮蔽材料预固化；以及第二固化工序，通过对该预固化的遮蔽材料进一步进行固化而形成所述遮蔽部，所述涂布工序以及所述第一固化工序在所述掩模片安装工序之前进行，所述第二固化工序在所述掩模片安装工序之后进行。

[0179] 本发明并不限定于上述各实施方式，在权利要求所示的范围内能够进行各种变更，对不同的实施方式分别公开的技术手段进行适当组合而获得的实施方式也包含于本发明的技术范围内。而且，通过对各实施方式分别公开的技术手段加以组合，能够形成新的技术特征。附图标记说明

[0180] 1：基板2：TFT基板(被蒸镀基板)
3：有源区域
4：框状堤
5：密封层
6、8：无机膜
7：有机膜
9：有机EL显示面板形成区域
10：蒸镀掩模
11：掩模框
12：覆盖片
13：支撑片
14：对准片
15：掩模片
15a：片材部
25：遮蔽部
25a：弯曲部
30：电子设备
40：触控面板
41：触控传感器
42：有机EL显示面板
43：显示区域
44：框缘区域
50：喷墨装置
70：蒸镀源
80：发光层
H：蒸镀孔
pix：像素
YA2：有效部YA的第二区域
YA1：有效部YA的第一区域

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蒸镀掩模以及蒸镀掩模的制造方法

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