1.一种设备，其包括：
衬底；
机电系统EMS光调制组件，其定位于所述衬底与耦合到所述衬底的相对表面之间；
悬置电极，其耦合到所述EMS光调制组件且悬置于所述衬底与所述相对表面之间；及延伸高度电极，其定位成紧邻于所述悬置电极，从所述衬底向上延伸到超过所述悬置电极的高度的高度；
其中所述悬置电极及所述延伸高度电极经配置以相对于所述衬底横向移动所述EMS光调制组件。
2.根据权利要求1所述的设备，其中所述EMS光调制组件是微机电系统MEMS快门。
3.根据权利要求1所述的设备，其中所述延伸高度电极从所述衬底向上延伸到所述相对表面的高度。
4.根据权利要求1所述的设备，其包括安置于所述衬底上的界定第一光圈的光阻断层，其中所述相对表面界定定位成实质上与所述第一光圈对准的第二光圈，且所述悬置电极及所述延伸高度电极经配置以通过所述第一光圈及所述第二光圈将所述EMS光调制组件移动到光学路径中及从光学路径移动出。
5.根据权利要求5所述的设备，其中所述相对表面经由锚固件耦合到所述衬底。
6.根据权利要求6所述的设备，其中将所述相对表面耦合到所述衬底的所述锚固件将所述悬置电极支撑于所述衬底与所述相对表面之间。
7.根据权利要求7所述的设备，其中所述延伸高度电极与所述相对表面电隔离。
8.根据权利要求1所述的设备，其中所述延伸高度电极包含与所述相对表面的部分共面的上部平面部分。
9.根据权利要求1所述的设备，其包括相对于所述EMS光调制组件定位成与所述相对表面相对且与所述相对表面间隔开的第二衬底。
10.根据权利要求1所述的设备，其中所述延伸高度电极紧邻于所述悬置电极的至少大部分长度。
11.根据权利要求1所述的设备，其进一步包括：
显示器；
处理器，其经配置以与所述显示器通信，所述处理器经配置以处理图像数据；及存储器装置，其经配置以与所述处理器通信。
12.根据权利要求11所述的设备，其进一步包括：
驱动器电路，其经配置以将至少一个信号发送到所述显示器；及
控制器，其经配置以将所述图像数据的至少一部分发送到所述驱动器电路。
13.根据权利要求11所述的设备，其进一步包括：
图像源模块，其经配置以将所述图像数据发送到所述处理器，其中所述图像源模块包括接收器、收发器及发射器中的至少一者。
14.根据权利要求11所述的设备，其进一步包括：
输入装置，其经配置以接收输入数据且将所述输入数据传送到所述处理器。
15.一种形成显示设备的方法，其包括：
在形成于衬底上的第一模具上制造多个显示元件；
在所述所制造的显示元件上沉积第一牺牲材料层；
图案化所述第一牺牲材料层以产生用于多个悬置电极及多个延伸高度电极的部分的第二模具；
在所述第一牺牲材料层上沉积第一结构材料层，使得所述所沉积的第一结构材料层涂覆所述第二模具的表面；
图案化所述第一结构材料层以界定：
对应于相应显示元件的所述第一结构材料层中的多个光圈以形成抬升光圈层；
所述多个悬置电极；及
从所述衬底向上延伸到超过所述悬置电极的高度的高度的所述多个延伸高度电极；及移除所述第一模具及所述第一牺牲材料层。
16.根据权利要求15所述的方法，其中图案化所述第一牺牲材料层进一步包含：图案化所述第一牺牲材料层以暴露沉积于其上可形成所述多个延伸高度电极的所述衬底上的光阻断层的部分。
17.根据权利要求16所述的方法，其中在所述第一牺牲材料层上沉积所述结构材料层进一步包含：沉积所述结构材料，使得所述所沉积的结构材料部分沉积于所述光阻断层的所述暴露部分上。
18.根据权利要求17所述的方法，其进一步包括：
图案化所述结构材料层，使得所述多个延伸高度电极与所述抬升光圈层分开。
19.根据权利要求15所述的方法，其中所述延伸高度电极的一部分在与所述抬升光圈层共面的平面中延伸且与所述抬升光圈层分开达约3微米到约5微米范围内的距离。
20.根据权利要求15所述的方法，其进一步包括：
在沉积所述第一结构材料层之前，在所述第一模具上沉积第二结构材料层以形成所述多个延伸高度电极的底部部分，其中沉积所述第一结构材料层包括在所述第二结构材料层上沉积所述第一结构材料层。
21.一种设备，其包括：
光调制装置，其悬置于第一衬底与第二衬底之间处于对应于针对平移移动所配置的平面的高度处；
第一致动装置，其用于将静电吸引力施加到大约处于针对平移移动所配置的所述平面的所述高度处的所述光调制装置；
第二致动装置，其用于跨所述第一衬底与所述第二衬底之间的实质上整个距离将静电吸引力施加到所述光调制装置。
22.根据权利要求21所述的设备，其中所述第二致动装置包含用于阻断正交于针对平移移动所配置的所述平面所导引的光的光阻断装置。