| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 61 | VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON EISEN-DOTIERTEM KIESELGLAS | EP14761888.8 | 2014-09-11 | EP3046882A1 | 2016-07-27 | OCHS, Stefan |
| The invention relates to a method for producing a blank of Fe-doped silica glass for use as heat protection glass. The ratio of Fe 2+ / Fe 3+ is influenced in the method in favour of Fe 2+. In addition, no further dopants are required. According to the invention, the method comprises the following steps: (a) producing an iron-doped SiO 2 soot body by means of flame hydrolysis of a silicon-containing and an iron-containing starting substance, (b) drying the soot body such that a mean hydroxyl group content of less than 10 ppm by weight is achieved, (c) vitrifying the soot body, which contains iron in a first oxidation state Fe 3+, under a reducing atmosphere that is suitable for reducing the iron at least partially from the first oxidation state Fe 3+ to a second, lower oxidation state Fe 2+, so as to form the blank of iron-doped glass with a high silicic acid content. A blank is obtained having an iron content in the range between 0.1 and 1% by weight, which exhibits an internal transmission of at most 40% in the infrared wavelength range and an internal transmission of at least 85% in the visible spectral range. | ||||||
| 62 | VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM THERMISCHEN BEHANDELN EINES RINGFÖRMIGEN BEREICHS EINER INNEREN OBERFLÄCHE EINES AUS EINEM BOROSILIKAT-ROHRGLAS HERGESTELLTEN GLASBEHÄLTERS | EP15176692.0 | 2015-07-14 | EP2977358A1 | 2016-01-27 | FROST, Dr. Robert; HASELHORST, Georg |
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum thermischen Behandeln eines ringförmigen Bereichs (23) einer inneren Oberfläche (14) eines aus einem Borosilikat-Rohrglas hergestellten Glasbehälters (10), wobei sich der ringförmige Bereich (23) auf einem rohrförmigen Abschnitt (12) des Glasbehälters (10) befindet und sich einem Glasbehälterboden (16) anschließt, umfassend folgende Schritte: Zudem betrifft die Erfindung eine Bodenmaschine für eine Glasbearbeitungsvorrichtung (30) zum Herstellen von Glasbehältern (10) aus einem Borosilikat-Rohrglas mit einem Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, umfassend eine oder mehrere Halteeinheiten (36) zum Halten des Glasbehälters (10) bzw. des Rohrglases, wobei die Halteeinheiten (36) um eine Drehachse (R) der Bodenmaschine (32) drehbar gelagert sind, um den Glasbehälter (10) bzw. das Rohrglas zu einer Anzahl von primären Bearbeitungsstationen (40) zu führen, wobei zumindest an einer der primären Bearbeitungsstationen (40) eine Trenneinrichtung (48) zum Trennen des Glasbehälters (10) vom Rohrglas angeordnet ist, wobei die Bodenmaschine (32) eine oder mehrere weitere Bearbeitungsstationen (42) zum thermischen Behandeln eines ringförmigen Bereichs (23) einer inneren Oberfläche (14) des Glasbehälters (10) umfasst, wobei die Halteinheiten (16) so eingerichtet sind, dass sie den Glasbehälter (10) bzw. das Rohrglas auch zu den weiteren Bearbeitungsstationen (42) führen.
|
||||||
| 63 | ROHLING AUS TiO2-SiO2-GLAS FÜR EIN SPIEGELSUBSTRAT FÜR DEN EINSATZ IN DER EUV-LITHOGRAPHIE SOWIE VERFAHREN FÜR DESSEN HERSTELLUNG | EP14702598.5 | 2014-02-04 | EP2954372A2 | 2015-12-16 | THOMAS, Stephan; BECKER, Klaus; OCHS, Stefan |
| To provide a blank of TiO 2-SiO 2 glass for a mirror substrate for use in EUV lithography, in which the need for adaptation to optimize the progression of the coefficient of thermal expansion, and consequently also the progression of the zero crossing temperature T zc, is low, the TiO 2-SiO 2 glass has at a mean value of the fictive temperature T f in the range between 920°C and 970°C a dependence of its zero crossing temperature T zc on the fictive temperature T f which, expressed as the differential quotient dT zc/dT f, is less than 0.3. | ||||||
| 64 | METHOD OF MAKING HEAT TREATED COATED ARTICLE USING CARBON BASED COATING AND PROTECTIVE FILM | EP13728653.0 | 2013-06-04 | EP2858962A2 | 2015-04-15 | MÜLLER, Jens-Peter; VEERASAMY, Vijayen, S. |
| A method of making a heat treated (HT) substantially transparent coated article to be used in shower door applications, window applications, tabletop applications, or any other suitable applications. For example, certain embodiments relate to a method of making a coated article including a step of heat treating a glass substrate coated with at least layer of or including carbon (e.g., diamond-like carbon (DLC)) and an overlying protective film thereon. The protective film may be of or include both (a) an oxygen blocking or barrier layer, and (b) a release layer, with the release layer being located between at least the carbon based layer and the oxygen blocking layer. The release layer is of or includes zinc oxynitride (e.g., ZnO xN z). Following and/or during heat treatment (e.g., thermal tempering, or the like) the protective film may be entirely or partially removed. Other embodiments of this invention relate to the pre-HT coated article, or the post-HT coated article. | ||||||
| 65 | HEAT TREATMENT APPARATUS FOR CERAMIC MATERIALS FOR OPTICAL USE, HEAT TREATMENT METHOD FOR CERAMIC MATERIALS FOR OPTICAL USE, HEAT TREATMENT METHOD FOR SYNTHETIC QUARTZ GLASS, METHOD FOR PRODUCING OPTICAL SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE APPARATUS | EP12752504 | 2012-03-02 | EP2682373A4 | 2014-08-20 | HARA YUTA |
| An optical ceramic material heat treatment apparatus, comprising: a furnace body that is capable to contain an optical ceramic material to be heat treated in the inside thereof; a temperature drop control heater that generates heat during dropping a temperature of the optical ceramic material; a refrigerant intake unit that introduces a refrigerant into the inside of the furnace body to flow the refrigerant therein; and a control unit that controls the temperature drop rate, wherein the temperature drop control heater is arranged in the inside of the furnace body and/or in the refrigerant intake unit, the control unit controls at least one of an amount of heat generation of the temperature drop control heater, and a flow rate of the refrigerant in the inside of the furnace body to control a temperature drop rate at the optical ceramic material or in the vicinity thereof to be kept in a predetermined profile. | ||||||
| 66 | METHOD OF MAKING SHAPED GLASS ARTICLES | EP09773899.1 | 2009-06-30 | EP2307325B1 | 2014-05-07 | UKRAINCZYK, Ljerka |
| 67 | METHOD OF MAKING SHAPED GLASS ARTICLES | EP09773899.1 | 2009-06-30 | EP2307325A1 | 2011-04-13 | UKRAINCZYK, Ljerka |
| In a method of making shaped glass articles, a glass sheet is placed on a mold having a shaping surface with a desired surface profile of a shaped glass article. The glass sheet is preferentially and rapidly heated by radiation while in the vicinity of the mold so that the mold remains substantially cooler than the glass sheet during the heating. The glass sheet is sagged onto the shaping surface of the mold so that at least a portion of the sagged sheet assumes the desired surface profile of the shaped glass article. After sagging and shaping, the sagged and shaped glass sheet is removed from the mold. | ||||||
| 68 | Verfahren zur Herstellung eines optischen Bauteils aus synthetischem Quarzglas mit erhöhter Strahlenbeständigkeit, sowie Rohling zur Herstellung des Bauteils | EP08154312.6 | 2008-04-10 | EP1982963A1 | 2008-10-22 | KUEHN, Bodo; KAISER, Steffen; KASSUBE, Denis; MERGET, Kerstin |
Um ein optisches Bauteil aus synthetischem Quarzglas, bei dem ein Quarzglasrohling einer mehrstufigen Temperbehandlung unterzogen wird, hinsichtlich Kompaktierung und zentraler Doppelbrechung zu optimieren, wird erfindungsgemäß ein Verfahren vorgeschlagen, das folgende Verfahrensschritte umfasst: |
||||||
| 69 | ドープト超低膨張ガラス及びその作製方法 | JP2017531287 | 2015-12-09 | JP2018503585A | 2018-02-08 | アンナーマライ,セジアン; デュラン,カーロス アルバート; ハーディナ,ケネス エドワード |
| (i)シリカ−チタニアベースガラス、(ii)フッ素ドーパント及び(iii)第2のドーパントを含むガラス組成を有するガラス品を含む、ドープトシリカ−チタニアガラス品が提供される。フッ素ドーパントは5重量%までのフッ素濃度を有し、第2のドーパントは、Al、Nb、Ta、B、Na、K、Mg、Ca及びLiの酸化物からなる群から選ばれる1つ以上の酸化物を50ppmから6重量%の総酸化物濃度で含む。さらに、ガラス品は20℃において0.5ppb/K2より小さい膨張率勾配を有する。第2のドーパントは必要に応じて含めることができる。ガラス品の組成は、OHを100ppmより低い濃度で含むこともできる。 | ||||||
| 70 | 光選択透過型ガラスおよび積層基板 | JP2016573378 | 2016-02-02 | JPWO2016125792A1 | 2017-12-14 | 周平 野村; 和孝 小野; 大井 好晴; 好晴 大井; 保高 弘樹; 弘樹 保高 |
| 本発明は、カメラモジュールの小型化、低背化が実現でき、半導体基板との積層時の歪が少なく、光学特性の均一性に優れ、かつ生産性の高い光学フィルタを実現する。本発明による光選択透過型ガラス10は、ガラス基板12と、ガラス基板12の少なくとも一方の主面に光選択透過層11を備え、ガラス基板12は、50℃〜100℃での平均熱膨張係数α50/100が2.70ppm/℃〜3.20ppm/℃であり、200℃〜300℃での平均熱膨張係数α200/300が3.45ppm/℃〜3.95ppm/℃であり、200℃〜300℃の平均熱膨張係数α200/300を50℃〜100℃の平均熱膨張係数α50/100で除した値α200/300/α50/100が、1.20〜1.30であり、アルカリ金属酸化物の含有量が0%〜0.1%である。 | ||||||
| 71 | ハロゲンをドープした光学要素を製造する方法 | JP2017527892 | 2015-11-24 | JP2017536324A | 2017-12-07 | ブルース ドーズ，スティーヴン; ハル ジェニングズ，ダグラス; タンドン，プシュカー |
| 光学要素を形成する方法を提供する。当該方法は、化学気相堆積を使用してシリカベースのスート粒子を製造するステップを含み、当該シリカベースのスート粒子は、約0.05μmと約0.25μmの間の平均粒径を有する。当該方法は、シリカベースのスート粒子からスート成形体(soot compact)を形成するステップ、および約1200℃未満の温度においてクローズドシステムにて当該シリカベースのスート成形体をハロゲン含有ガスに接触させることによって、ハロゲンを当該スート成形体にドープするステップも含む。 | ||||||
| 72 | EUVリソグラフィ用部材の製造方法 | JP2013271043 | 2013-12-27 | JP6241276B2 | 2017-12-06 | 毎田 繁; 大塚 久利; 上田 哲司; 江崎 正信 |
| 73 | シートガラスの製造方法及びシートガラス製造装置 | JP2015533350 | 2015-06-30 | JPWO2016002778A1 | 2017-04-27 | 濱上 耕; 耕 濱上; 小山 昭浩; 昭浩 小山 |
| シートガラスの製造方法は、熔融ガラスをシートガラスに成形する成形工程と、成形したシートガラスを徐冷することで、熱収縮率が35ppm以下のシートガラスをつくる冷却工程と、前記徐冷したシートガラスを再加熱した後に徐冷する熱処理を施して、前記熱収縮率を10ppm以下に低減させる再徐冷工程と、を備え、前記熱処理は、シートガラスの歪点より70℃低い温度以下で行なう。 | ||||||
| 74 | 合成石英ガラスの熱処理装置、合成石英ガラスの熱処理方法、光学系の製造方法および露光装置の製造方法 | JP2013502412 | 2012-03-02 | JP6024653B2 | 2016-11-16 | 原 雄太 |
| 75 | ガラス基板の熱処理方法およびガラス基板の製造方法 | JP2014221520 | 2014-10-30 | JP2016088769A | 2016-05-23 | 三成 泰紀; ▲呉▼ 昭霖; 程 致維; 呂 芳延; 王 建元; 川口 貴弘 |
| 【課題】本発明では、ガラス基板の端面の破損を低減し得るガラス基板の熱処理方法を提供することを目的としている。 【解決手段】本発明の実施形態に係る熱処理方法では、図1(a)および図1(b)に示すように、ガラス基板1が、焼成用のセッター2上に載置される。詳細には、セッター2の上面2aは、ガラス基板1の下面1aよりも小さく、ガラス基板1の周縁部1cの全周に亘って、セッター2の上面2aと非接触となる非接触部1dが形成されている。非接触部1dを設ける事により、セッター2がガラス基板1の側へ反り返った場合でも、端面1bの破損を抑制できる。 【選択図】図1 |
||||||
| 76 | ガラス片のカットエッジのエッジ処理 | JP2015529987 | 2013-08-28 | JP2015526383A | 2015-09-10 | エス バルコム，ロビン; ダグラス マイルズ ノニ，ジュニア; グラハム スクワイア，ゲイリー; マリー ヴィレーノ，エリザベス; リー ワッソン，ケヴィン |
| 熱源および冷却システムを有する、ガラスシートのカットエッジをエッジ処理するための装置および方法が提供される。該ガラス片は、アクティブ領域および空縁部を有している。該熱源は、該空縁部に熱を向けて、該化学強化ガラス片の空縁部の温度を、350℃〜600℃まで上昇させるように配置される。該冷却システムは、該ガラス片のアクティブ領域の温度を250℃未満に維持する。くわえて、該冷却システムは、該ガラス片のアクティブ領域に熱結合されているヒートシンクアセンブリを含む。 | ||||||
| 77 | 合成石英ガラスの熱処理方法 | JP2014031479 | 2014-02-21 | JP2015155362A | 2015-08-27 | 八木 寿; 竹内 正樹; 原田 大実 |
| 【解決手段】OH基濃度の最大値と最小値の差(ΔOH)が350ppm未満である合成石英ガラスを 1150〜1060℃にて一定時間保持する第1の熱処理工程と、 第2の熱処理温度まで一定速度で冷却する冷却工程と、 1030〜950℃にて一定時間保持する第2の熱処理工程と、 −25〜−85℃/hrの速度で徐冷する工程と を含む合成石英ガラスの熱処理方法であって、前記第2の熱処理工程時間が5時間以上である合成石英ガラスの熱処理方法。 【効果】本発明によれば、2段階の熱処理を行うことにより、ArFエキシマレーザ用光学部材としてレーザの照射を受ける有効範囲内において好適な低複屈折率の合成石英ガラスを得ることができる。 【選択図】なし |
||||||
| 78 | 光学用セラミック材料の熱処理装置、光学用セラミック材料の熱処理方法、合成石英ガラスの熱処理方法、光学系の製造方法、および露光装置の製造方法 | JP2013502412 | 2012-03-02 | JPWO2012118175A1 | 2014-07-07 | 雄太 原 |
| 光学用セラミック材料の熱処理装置は、熱処理すべき光学用セラミック材料を内部に収容する炉体と、熱処理すべき光学用セラミック材料を降温する際に、降温速度を制御するために発熱させる降温制御ヒーターと、炉体の内部に冷媒を流動させるために冷媒を導入する冷媒導入部と、降温速度を制御するための制御部と、を有し、降温制御ヒーターは、炉体の内部または/および前記冷媒導入部に配置され、制御部は、降温制御ヒーターの発熱量と、炉体の内部における冷媒の流量の少なくとも一方を制御して、熱処理すべき光学用セラミック材料またはその近傍における降温速度を予め定められたパターンに保つように制御する。 | ||||||
| 79 | Method for producing a chemical silica glass and chemical resistance silica glass | JP2007217526 | 2007-08-23 | JP5406439B2 | 2014-02-05 | 茂 山形; 友美 笛吹 |
| 80 | Method of manufacturing a synthetic quartz glass | JP2011127685 | 2011-06-07 | JP5299477B2 | 2013-09-25 | 昭司 矢島; 弘之 平岩; 安司 石田 |
| A production method of synthetic silica glass according to the present invention comprises a first step of ejecting a silicon compound and a combustion gas containing oxygen and hydrogen from a burner to effect hydrolysis of the silicon compound in oxyhydrogen flame to produce fine particles of silica glass, and thereafter depositing and vitrifying the fine particles of silica glass on a target opposed to the burner to obtain a synthetic silica glass ingot; a second step of heating the synthetic silica glass ingot or the like obtained in the first step up to a first retention temperature of not less than 900 DEG C, retaining the ingot or the like at the first retention temperature, and cooling the ingot or the like at a temperature decrease rate of not more than 10 DEG C/h down to a temperature of not more than 500 DEG C; and a third step of heating the synthetic silica glass ingot or the like obtained in the second step up to a second retention temperature of not less than 500 DEG C nor more than 1100 DEG C, retaining the ingot or the like thereat, and thereafter cooling the ingot or the like at a temperature decrease rate of not less than 50 DEG C/h down to a temperature 100 DEG C lower than the second retention temperature. <IMAGE> | ||||||
