子分类：
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 1 | 一种三维微机械弹簧及其制造方法 | CN201610034380.X | 2016-01-19 | CN105645346A | 2016-06-08 | 秦明; 高磬雅; 王庆贺; 穆林 |
| 本发明提供了一种三维微机械弹簧及其制造方法，该弹簧构包括支撑材料(1)，黏附材料层(2)，第一弹簧端(3)，弹簧线(4)，第二弹簧端(5)；其中，支撑材料(1)包括相对设置的两个端面和将两个端面连接的主体；支撑材料(1)作为弹簧的载体，在靠近其任一端面的位置的外表面覆盖一圈黏附材料层(2)，在黏附材料层(2)表面覆盖一圈弹簧金属作为第一弹簧端(3)；第二弹簧端(5)套在支撑材料(1)上，第一弹簧端(3)和第二弹簧端(5)之间通过由自由缠绕在支撑材料(1)主体的弹簧线(4)连接在一起。本发明一致性好，成本低。 | ||||||
| 2 | 具有均匀且高纵横比的纳米间隙的柱阵列结构 | CN201580060722.9 | 2015-11-17 | CN107076763A | 2017-08-18 | J·T·史密斯; R·L·布鲁斯; Y·A·阿斯迪尔; 王超; B·H·万施 |
| 提供了涉及分选实体技术。入口被配置为接收流体，以及出口被配置为排出流体。连接到入口和出口的纳米柱阵列被配置为允许流体从入口流到出口。纳米柱阵列包括被布置为按大小分离实体的纳米柱。纳米柱被布置为具有将一个纳米柱与另一个纳米柱分离的间隙。间隙被构造为在纳米尺度范围中。 | ||||||
| 3 | 一种纳米级谐振光子器件硅衬底刻蚀集成制备工艺 | CN201510533190.8 | 2015-08-27 | CN105217561A | 2016-01-06 | 王国建 |
| 本发明公开了一种纳米级谐振光子器件硅衬底刻蚀集成制备工艺，选用硅衬底晶片为实现载体，在顶层硅器件层的上表面沉积一层复合氧化物薄膜层；在复合氧化物薄膜层上表面旋涂一层电子束光刻胶层；采用电子束曝光技术在电子束光刻胶层上定义纳米光子器件结构；采用离子束轰击技术将纳米光子器件结构转移到复合氧化物薄膜层；将复合氧化物薄膜层按照纳米光子结构刻穿至硅衬底晶片的上表面；采用各项同性硅刻蚀技术，从硅衬底晶片的下表面向上剥离硅衬底晶片，形成一个凹形空腔结构；采用氧气等离子灰化方法去除残余的电子束光刻胶层；在第一环状层及第二环状层的各表面沉积一层薄膜即完成该制备工艺。 | ||||||
| 4 | 高通量的耐压微流体装置 | CN200780050899.6 | 2007-12-21 | CN101605997B | 2012-03-21 | S·F·霍伊森; O·洛贝特; P·沃尔 |
| 一种微流体装置，其包括由固结玻璃料形成的壁结构，所述壁结构位于两个或更多个由第二材料形成的隔开的基板之间并且将基板相连，壁结构在基板之间限定出一个或多个流体通道，该装置的至少一个通道在基本垂直于所述基板方向的高度大于1毫米，优选大于1.1毫米，或者大于1.2毫米，或者等于或大于1.5毫米，并且至少一个通道具有非三维曲折部分，其中，所述壁结构具有波浪形状，使得长度大于3厘米、或大于2厘米、或大于1厘米的壁结构，或者甚至所有长度的壁结构都有一定曲率半径。一种装置还可以包括没有高度的波浪形状。 | ||||||
| 5 | 光固化的全氟聚醚用作微流体器件中的新材料 | CN200480034620.1 | 2004-09-23 | CN1997691A | 2007-07-11 | 约瑟夫·M.·德西蒙; 贾森·P.·罗兰; 斯蒂芬·R.·夸克; 德里克·A.·绍兹曼; 贾森·亚伯勒; 迈克尔·范达姆 |
| 本发明公开了一种用作制造耐溶剂微流体器件的材料的官能化的光固化的全氟聚醚。这些耐溶剂的微流体器件可以用来控制少量流体(例如有机溶剂)的流动，并且进行在其它聚合物基微流体器件内不能进行的微尺度化学反应。 | ||||||
| 6 | 用于生产复杂的光滑微机械零件的方法 | CN201280007435.8 | 2012-01-05 | CN103347809B | 2015-11-25 | P·卡森; D·理查德; P·杜博瓦 |
| 本发明涉及一种用单件材料生产微机械零件（11，21，31，41，51，61）的方法。该方法包括以下步骤：a）形成基材（1），所述基材包括用于制造所述微机械零件的负腔（3）；b）用材料的层（5）覆盖基材（1）的所述负腔；c）从基材（1）移除比所沉积的层（5）的厚度（e1）更大的厚度（e2），从而留下所述所沉积的层的位于所述负腔中的部分；d）移除基材（1），从而释放在所述负腔中形成的微机械零件（11，21，31，41，51，61）。 | ||||||
| 7 | 用于生产复杂的光滑微机械零件的方法 | CN201280007435.8 | 2012-01-05 | CN103347809A | 2013-10-09 | P·卡森; D·理查德; P·杜博瓦 |
| 本发明涉及一种用单件材料生产微机械零件（11，21，31，41，51，61）的方法。该方法包括以下步骤：a）形成基材（1），所述基材包括用于制造所述微机械零件的负腔（3）；b）用材料的层（5）覆盖基材（1）的所述负腔；c）从基材（1）移除比所沉积的层（5）的厚度（e1）更大的厚度（e2），从而留下所述所沉积的层的位于所述负腔中的部分；d）移除基材（1），从而释放在所述负腔中形成的微机械零件（11，21，31，41，51，61）。 | ||||||
| 8 | 光固化的全氟聚醚用作微流体器件中的新材料 | CN200480034620.1 | 2004-09-23 | CN1997691B | 2011-07-20 | 约瑟夫·M.·德西蒙; 贾森·P.·罗兰; 斯蒂芬·R.·夸克; 德里克·A.·绍兹曼; 贾森·亚伯勒; 迈克尔·范达姆 |
| 本发明公开了一种用作制造耐溶剂微流体器件的材料的官能化的光固化的全氟聚醚。这些耐溶剂的微流体器件可以用来控制少量流体(例如有机溶剂)的流动，并且进行在其它聚合物基微流体器件内不能进行的微尺度化学反应。 | ||||||
| 9 | 高通量的耐压微流体装置 | CN200780050899.6 | 2007-12-21 | CN101605997A | 2009-12-16 | S·F·霍伊森; O·洛贝特; P·沃尔 |
| 一种微流体装置，其包括由固结玻璃料形成的壁结构，所述壁结构位于两个或更多个由第二材料形成的隔开的基板之间并且将基板相连，壁结构在基板之间限定出一个或多个流体通道，该装置的至少一个通道在基本垂直于所述基板方向的高度大于1毫米，优选大于1.1毫米，或者大于1.2毫米，或者等于或大于1.5毫米，并且至少一个通道具有非三维曲折部分，其中，所述壁结构具有波浪形状，使得长度大于3厘米、或大于2厘米、或大于1厘米的壁结构，或者甚至所有长度的壁结构都有一定曲率半径。一种装置还可以包括没有高度的波浪形状。 | ||||||
| 10 | マイクロ流体デバイスおよび試料分析方法 | JP2016079956 | 2016-10-07 | JPWO2017061600A1 | 2018-08-02 | 後藤 圭佑; 牧野 洋一; 星野 昭裕 |
| マイクロ流体デバイスは、電磁波を透過可能であり、かつ自家蛍光を有しない基板と、前記基板上に形成され、厚さ方向に複数の貫通孔が形成された壁部層を有するマイクロウェルアレイと、前記壁部層と離間した状態で前記基板と対向配置された蓋部材と、を備え、前記基板と前記壁部層に形成された前記貫通孔とでマイクロウェルが形成され、前記壁部層は、所定の波長の電磁波を吸収する有色成分を含有する材料から形成されている。 | ||||||
| 11 | Complex precision machine parts | JP2013552144 | 2012-01-05 | JP2014505880A | 2014-03-06 | キュザン，ピエール; リシャール，ダヴィド; ドゥボワ，フィリップ |
| 本発明は、単一ピース材料製の精密機械部品（１１、２１、３１、４１、５１、６１）に関する。 本発明によると、この部品は、少なくとも２つの交差した、整列されていないセグメントによって形成される基本断面を有し、これにより、上記少なくとも２つのセグメントは精密機械部品（１１、２１、３１、４１、５１、６１）の高さ（ｅ
3 ）を形成し、上記高さは各セグメントの厚さ（ｅ
1 ）より大きい。
本発明はまた部品の製作方法にも関する。 |
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| 12 | Pressure resistance microfluidic device with high processing capacity | JP2009544053 | 2007-12-21 | JP2010514579A | 2010-05-06 | ウォエール，ピエール; エフ ホイサン，スティーヴン; ロベ，オリヴィエ |
| 第２の材料から形成された間隔をおいた２枚以上の基板の間に配置されかつ基板に結合され固結された、フリット材料から形成された壁構造が、上記基板の間に１本以上の流体通路を画成してなるマイクロ流体デバイスは、上記基板とほぼ垂直な方向に１ミリメートルを超える、好ましくは１．１ｍｍを超える、または１．２ｍｍを超える、さらには１．５ｍｍ以上までもの高さを有する少なくとも１本の通路を有し、かつ少なくとも１本の通路の非三次元的蛇行部分を有することができ、上記壁構造は、この壁構造の曲率半径を有しない部分の長さが３センチメートルを超えないような、または２センチメートルを超えないような、または１センチメートルを超えないような、または曲率半径を有しない長さ部分が全くないような波打ち形状を有する。 デバイスはまた、高さを備えない波打ち形状を有していても良い。 | ||||||
| 13 | ピラー・アレイ構造を使用してエンティティを分別する装置、流体装置を提供する方法、およびナノピラー・アレイを形成する方法 | JP2017527579 | 2015-11-17 | JP2018506264A | 2018-03-08 | スミス、ジョシュア、トーマス; ブルース、ロバート、ローソン; アスティエ、ヤン、アンドレ; ワン、チャオ; ヴンシュ、ベンジャミン、ハーディー |
| 【課題】エンティティを分別することに関する技術を提供する。【解決手段】入口が、流体を受け入れるように構成され、出口が、流体が出るように構成される。入口および出口に連結されたナノピラー・アレイが、流体が入口から出口まで流れることができるように構成される。ナノピラー・アレイは、エンティティをサイズによって分離するように配置されたナノピラーを含む。ナノピラーは、ギャップが一方のナノピラーを他方のナノピラーから分離するように配置される。ギャップは、ナノスケール範囲になるように構築される。【選択図】図1 | ||||||
| 14 | Method of forming a micro-device to form a mold | JP2004521790 | 2003-07-11 | JP4737987B2 | 2011-08-03 | ジー． ラストビック アレキサンダー |
| 15 | Method for forming a vertical hollow needle in a semiconductor substrate | JP2001549726 | 2001-01-02 | JP2003519014A | 2003-06-17 | ストーバー、ボリス; リープマン、ドリアン |
| (57)【要約】 非等方的エッチングにより半導体基板の裏側にチャンネルを形成するステップを含む針形成方法を提供する。 次に半導体基板の表側を等方的にエッチングしてチャンネルを囲む垂直な軸方向面を形成する。 製造された針は半導体材料から形成された細長体を有する。 細長体は、第１端と第２端の間に位置する軸方向面を含む。 軸方向面は第１端と第２端の間にチャンネルを形成する。 １実施形態において、第１端は、単一の周線尖端を備える傾斜先端を有する。 | ||||||
| 16 | Complex precision machine parts | JP2013552144 | 2012-01-05 | JP5508606B2 | 2014-06-04 | キュザン，ピエール; リシャール，ダヴィド; ドゥボワ，フィリップ |
| 17 | The photocurable perfluoropolyether to be used as a novel material of the microfluidic device | JP2006527164 | 2004-09-23 | JP4586021B2 | 2010-11-24 | ピー． ロルランド ジャソン; ヤルブロウグフ ジャソン; エム． デシモネ ジョセプフ; アール． クアケ ステプハン; エー． スチョルズマン デレク; バン ダム ミカエル |
| 18 | The photocurable perfluoropolyether to be used as a novel material of the microfluidic device | JP2006527164 | 2004-09-23 | JP2007522433A | 2007-08-09 | ピー． ロルランド ジャソン; ヤルブロウグフ ジャソン; エム． デシモネ ジョセプフ; アール． クアケ ステプハン; エー． スチョルズマン デレク; バン ダム ミカエル |
| 耐溶媒性のあるマイクロ流体装置を作製する材料として、官能化された光硬化性ペルフルオロポリエーテルが用いられる。 それらの耐溶媒性のあるマイクロ流体装置を用いて、有機溶媒などの少量の流体の流れを制御し、他のポリマー系マイクロ流体装置では追随できないマイクロスケールの化学反応を行うことができる。
【選択図】図１Ａ〜１Ｃ |
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| 19 | Method of forming a micro-device to form a mold | JP2004521790 | 2003-07-11 | JP2005532920A | 2005-11-04 | ジー． ラストビック アレキサンダー |
| ミクロンまたはサブミクロンサイズの複数のフィーチャを含むデバイスを形成する方法を提供する。 複数のフィーチャを画定する表面輪郭を有するマスタを提供する。 マスタの表面輪郭を少なくとも１層の材料層でコーティングしてシェルを形成する。 シェルからマスタを除去してシェルに表面輪郭のネガ像を形成する。 シェルのネガ像に材料、例えばポリカーボネート、ポリアクリルまたはポリスチレンを充てんして、マスタと実質的に同じフィーチャを有するデバイスを形成する。 ネガ像には、射出成形、圧縮成形、エンボス加工または適合する他の技法を使用して充てんを実施することができる。 | ||||||
| 20 | Particle array method, and film and particle array retaining method | JP2003430775 | 2003-12-25 | JP2005186213A | 2005-07-14 | TANAKA KATSUSHI; ICHITSUBO SATORU |
| PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a particle array method, regularly arraying particles at desired spaces regardless of particle diameter, a film formed by the above particle array method, and a particle array holding method, keeping the particle array even if heat treatment is performed. SOLUTION: According to this array method of arraying particles MP on the surface of a basic material B, the particles MP are disposed on the surface of the basic material B, the disposed particles MP are bound on the surface of the basic material B by a binding means to move only along the surface, and a magnetic field whose angle made between the normal line direction of the surface of the basic material B and the line H of magnetic force is 0 to 45 degrees is applied to the particles MP. The respective particles MP can be arrayed at spaces corresponding to the repulsive force between the adjacent particles MP like a triangular grid-like on the surface of the basic material B. COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI | ||||||
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