| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 181 | Injection into charged particle accelerators | US20314950 | 1950-12-28 | US2738420A | 1956-03-13 | LAWSON JAMES L |
| 182 | Injector mechanism | US18964750 | 1950-10-11 | US2609500A | 1952-09-02 | MARTIN MARVIN D |
| 183 | 円形加速器 | JP2016075460 | 2016-08-31 | JPWO2018042539A1 | 2018-11-22 | 宮下 裕次; 横井 武一郎 |
| ビーム生成器が、イオン源と、このイオン源から荷電粒子を引き出す引出電極と、この引出電極の下流に設けられ荷電粒子の軌道を挟んで対向する電極対から構成されるチョッパー電極と、このチョッパー電極の下流に設けられ、荷電粒子を通過させるスリットを有するスリット部材とを備え、チョッパー電極の電極対間に印加する電圧を変化させることにより荷電粒子の軌道を変化させ、この軌道の変化により、荷電粒子のスリットの通過、非通過を制御するよう構成されている。 | ||||||
| 184 | EUV領域での測定用のコンパクトな光源 | JP2018510938 | 2016-08-22 | JP2018533043A | 2018-11-08 | ヤシン エキンジ; レオニド リフキン; アルビン ヴルリヒ; アンドレアス シュトロイン |
| 本発明の課題は、コヒーレント散乱手法を用いたEUV領域での測定のために、十分なパワー、優れた安定性および高コヒーレンス性を提供できる、貯蔵リングに基づくコンパクトかつ費用対効果が高い光源を達成することである。前記課題は本発明では、アクティニックマスク検査を行うための特性を有する13.5nmの光を供給するために貯蔵リング(SR)とブースタリング(BR)と線形加速器とアンジュレータ(UN)とを備えた、電子ビーム加速器技術に基づくコンパクトな光源(LS)であって、a)電子ビームの強度は少なくとも10−3のレベルに維持され、b)貯蔵リング(SR)が高輝度および大量のコヒーレント成分の光を達成すべく小さいエミッタンスを生成するために、コンパクトな多偏向磁石構造体が使用され、c)所要床面スペースを小さく抑え、かつ干渉作用を低減させるため、ブースタリング(BR)と貯蔵リング(SR)とは同心の平面視配置でそれぞれ異なる高さに配置されており、d)高い強度安定性を達成し、かつ、弾性ビームガス散乱およびタウシェック散乱に起因するライフタイム短縮を克服するため、準連続入射ないしは増強されたトップアップ入射が行われ、e)貯蔵リング(SR)への入射とブースタリング(BR)からの取出とは、ブースタリング(BR)および貯蔵リング(SR)の平行な直線区間軌道によって定まる平面内において斜めに行われ、f)ブースタリング(BR)から貯蔵リング(SR)へトップアップ入射を行うため、2つの反対称的に配置されたランバートソンセプタムが使用される光源によって解決される。かかる措置によって、従来の研究室またはその保守エリアに収まり、かつ、非常に低い保守要件および低い所有コストを有する、非常にコンパクトな光源が達成される。アンジュレータによって放出される光の波長は、6〜30nmの範囲である。その光ビームは、10−3の領域において著しく高い強度安定性を有し、マスクにおいて100mWを超える十分なパワーと、10kW/mm2/srを超える高輝度を有する。電子ビームエネルギー、アンジュレータ周期長、アンジュレータ周期の数のパラメータ空間は、レンズレス測定用途およびコヒーレント散乱手法に用いられるために必要な波長、光子束およびコヒーレンスを提供するために最適となっている。同心リングのコンセプトにより、光源の設置床面積を最小にすることができる。貯蔵リングへの増強されたトップアップ入射と低ギャップのアンジュレータとの組み合わせにより、著しく高い強度安定性を達成することができ、かつ、コヒーレント散乱手法の特定の用途に係るコヒーレンス要請を満たすことができる。 | ||||||
| 185 | 磁界生成デバイス及び磁気スイッチ装置 | JP2014528932 | 2012-08-30 | JP6392666B2 | 2018-09-19 | 杉田 圭 |
| 186 | 円形加速器及び重粒子線治療装置 | JP2013254013 | 2013-12-09 | JP6341655B2 | 2018-06-13 | 長内 昭宏 |
| 187 | 挿入光源 | JP2017532574 | 2016-07-29 | JPWO2017022669A1 | 2018-05-24 | 北村 英男; 荒川 雅美 |
| キャンセルバネ機構で生じた反発力が精密なギャップ駆動に影響を与えないようにする。ギャップを介して互いに向かい合う第1磁石列M1と第2磁石列M2と、磁石列が取り付け支持される磁石支持体1,2と、ギャップの大きさを変更するため、第1・第2磁石支持体1,2を垂直方向に駆動するためのギャップ駆動機構50と、ギャップ駆動機構50と磁石支持体1,2を連結するための駆動連動機構と、第1磁石列M1と第2磁石列間M2に作用する吸引力をキャンセルするキャンセルバネ機構40と、キャンセルバネ機構40と磁石支持体1,2とを連結するバネ連動機構と、ギャップ駆動機構50を支持する第1支持フレーム30と、キャンセルバネ機構40を支持する第2支持フレーム20と、載置面に載置される共通ベース10と、を備え、第1支持フレーム30と第2支持フレーム20は、それぞれ個別に共通ベース10に結合される挿入光源。 | ||||||
| 188 | シンクロトロン用入射器システム、およびドリフトチューブ線形加速器の運転方法 | JP2017501831 | 2015-07-10 | JP6289728B2 | 2018-03-07 | 山本 和男; 川▲崎▼ 定博; 井上 博光 |
| 189 | イオンビーム荷電変換装置の荷電変換膜 | JP2017512572 | 2016-04-14 | JPWO2016167307A1 | 2018-02-08 | 村上 睦明; 立花 正満; 多々見 篤; 長谷部 裕雄 |
| 耐熱性、熱伝導性が高く、長時間のビーム照射にも耐えうる高品質のイオンビーム荷電変換膜装置の荷電変換膜を提供することを目的とする。本発明は、高分子焼成法によって製造される炭素膜であって、膜厚が10μm以上、150μm以下であるイオンビーム荷電変換装置の荷電変換膜である。本発明は、25℃における膜面方向の熱伝導度が300W/mK以上である炭素膜であって、膜厚が10μm以上、150μm以下であるイオンビーム荷電変換装置の荷電変換膜も包含する。これら荷電変換膜は、密度が0.90g/cm3以上、2.26g/cm3以下であることや、単位面積当たりの重量が1.5mg/cm2以上、30mg/cm2以下であること、また面積が4cm2以上であることなどが好ましい。 | ||||||
| 190 | 加速器及び粒子線照射装置 | JP2016507949 | 2014-12-08 | JP6215450B2 | 2017-10-18 | 青木 孝道; えび名 風太郎; 西内 秀晶; 原 重充; 梅澤 真澄; 関 孝義 |
| 191 | 荷電粒子ビーム発生装置、荷電粒子ビーム照射装置、粒子線治療システムおよび荷電粒子ビーム発生装置の運転方法 | JP2014236712 | 2014-11-21 | JP2016100209A | 2016-05-30 | 津布久 和典; 梅澤 真澄; 伊賀 尚; 飛永 晃司 |
| 【課題】直線加速器の通常の運転周期をできるだけ最短周期より大きく取ると同時にビームの安定性を確保し、円形加速器に対する荷電粒子ビームの入射を任意のタイミングで行うことが可能な荷電粒子ビーム発生装置、荷電粒子ビーム照射装置、粒子線治療システムおよび荷電粒子ビーム発生装置の運転方法を提供する。 【解決手段】シンクロトロン200の入射、加速、出射、減速工程を制御するタイミング制御に対し、出射工程完了後に、直線加速器111は、出射工程完了後タイミング信号に基づき繰り返し運転を停止して待機状態にし、マスタ信号に基づき一定周期での繰り返し運転を開始する。 【選択図】 図4 |
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| 192 | Accelerator and cyclotron | JP2010120716 | 2010-05-26 | JP2011249118A | 2011-12-08 | TSUTSUI YUJI |
| PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an accelerator and a cyclotron that suppress a spread of a beam introduced into an acceleration track.SOLUTION: The cyclotron comprises a spiral inflector 21 which passes a beam made incident from an ion source to introduce the beam into an acceleration track T, and the spiral inflector 21 has a positive electrode 23 and a negative electrode 27 whose gap is made irregular in a cross section orthogonal to a passing track S of the beam as beam converging means of converting a passing beam B. | ||||||
| 193 | x-ray method and apparatus in combination with a charged particle cancer therapy system | JP2011510455 | 2009-05-21 | JP2011523864A | 2011-08-25 | エゴロヴィチ バラキン、ウラジミール |
| The invention comprises an X-ray method and apparatus used in conjunction with charged particle radiation therapy of cancerous tumors. The system uses an X-ray beam that lies in substantially the same path as a charged particle beam path of a particle beam cancer therapy system, has an elongated lifetime, and/or that is synchronized with patient respiration. The system creates an electron beam that strikes an X-ray generation source where the X-ray generation source is located proximate to the proton beam path. By generating the X-rays near the proton beam path, an X-ray path that is essentially the proton beam path is created. Using the generated X-rays, the system collects X-ray images of a localized body tissue region about a cancerous tumor, which are usable for: fine tuning body alignment relative to the proton beam path and/or to control the proton beam path to accurately and precisely target the tumor. | ||||||
| 194 | Circular accelerator, electromagnetic wave generator, and electromagnetic wave imaging system | JP2006260419 | 2006-09-26 | JP4622977B2 | 2011-02-02 | 貴久 永山; 博文 田中; 信行 頭本 |
| 195 | 荷電粒子周回装置用摂動装置 | JP2008510865 | 2007-03-27 | JPWO2007119538A1 | 2009-08-27 | 廣成 山田 |
| 摂動磁場の分布形状を容易に形成できる荷電粒子周回装置用摂動装置を得る。【解決手段】荷電粒子を周回させるための主磁場に対して摂動磁場を部分的に重ねることにより、荷電粒子の軌道に摂動を発生させ、入射した荷電粒子を安定周回閉軌道に取り込む。高周波コイルを備えた磁場発生装置113A,113Bにより発生した磁場の漏れ磁場を利用して摂動磁場を形成する。 | ||||||
| 196 | Circular accelerator, electromagnetic wave generator, and electromagnetic wave imaging system | JP2006260419 | 2006-09-26 | JP2008084572A | 2008-04-10 | TANAKA HIROBUMI; NAGAYAMA TAKAHISA; ZUMOTO NOBUYUKI |
| PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a compact and low-cost circular accelerator having a light source size of several micrometers, and capable of providing a high-luminance X-ray; an electromagnetic wave generator; and an electromagnetic wave imaging system. SOLUTION: This circular accelerator 2 comprises: an electron generation means 1 for generating electrons in a pulse-like form by applying a pulse-like voltage supplied from a high-voltage power source thereto; and a circular accelerator having an electron acceleration means 13 for entering the electrons generated by the electron generation means 1 therein to accelerate the entered electrons, and an electron deflection means 14 for deflecting the entered electrons. In the circular acceleration device, the high-voltage power source includes a circuit element damping at least either of the rise-time waveform of the pulse-like voltage applied to the electron generation means 1 and the fall-time waveform thereof. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT | ||||||
| 197 | Device the ion beam to be used in the heavy ion beam application system to preliminary acceleration | JP2002563747 | 2002-02-05 | JP2004523068A | 2004-07-29 | シェンプ、アルウィン; シュリット、ベルンハルト; ベヒャホルド、アレクサンダー; ラトジンガー、ウルリヒ |
| 本発明は、重イオンビームアプリケーションシステムにおいて使用されるイオンビームを予備加速し、ビームパラメータを最適にマッチングさせる装置であって、高周波４重極加速器（ＲＦＱ）であって、イオンを約８ｋｅＶ／ｕから約４００ｋｅＶ／ｕに加速する複数の交互ステムによって支持される２つのミニベーン対を有する、高周波４重極加速器と、高周波４重極加速器（ＲＦＱ）からもたらされるイオンビームのパラメータを、後続のドリフトチューブ線形加速器（ＤＴＬ）によって要求されるパラメータにマッチングさせる完備したタンク間マッチング部とを備える装置に関する。 | ||||||
| 198 | Septum electromagnet for beam deflection and separation, electromagnet for beam deflection and separation, beam deflecting method | JP2001064712 | 2001-03-08 | JP2002270397A | 2002-09-20 | SAKAI IZUMI |
| PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a septum electromagnet for beam deflection and separation of completely new composition and an electromagnet for beam deflection and separation, and further to provide a beam deflecting method using them. SOLUTION: The septum electromagnet 20 is arranged in a central part, a 1st auxiliary electromagnet 30 is arranged in the front in the beam advance direction, and a 2nd auxiliary electromagnet 40 is arranged backward in the beam advance direction. In a 1st deflection magnetic pole gap 17 of the septum electromagnet 20, a magnetic field B1 directing upward perpendicularly to this paper plane is generated, and in a 2nd deflection magnetic pole gap 19 of the septum electromagnet 20, a magnetic field B2 directing downward perpendicularly to the paper plane is generated. And, by the magnetic fields B1 and B2, a beam on an extraction orbit and a beam on a revolution orbit are made to deflect with only an angle of θ/2 mutually in a reverse direction. Moreover, the deflection of the beam on the revolution orbit is negated by the perpendicularly upward magnetic field B3 in the 1st auxiliary electromagnet 30, and the perpendicularly upward magnetic field B4 in the 2nd auxiliary electromagnet 40. COPYRIGHT: (C)2002,JPO | ||||||
| 199 | Positive ions, negative ion dual-use incident equipment | JP21126194 | 1994-09-05 | JP2600109B2 | 1997-04-16 | 泉 酒井 |
| 200 | Electron storage ring | JP16403389 | 1989-06-28 | JPH0828280B2 | 1996-03-21 | 俊二 垣内; 健治 宮田; 政嗣 西 |
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