| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 201 | Circular accelerator and beam incidence method for circular accelerator | JP5433891 | 1991-03-19 | JPH05198398A | 1993-08-06 | HIRAMOTO KAZUO; HIROTA JUNICHI; NISHI MASATSUGU |
| PURPOSE: To accelerate reduction in beam size, shorten beam incidence time, and accumulate a large current by promoting radiation damping after beam incidence without accelerating the beam at the time of incidence and damping betatron vibration. CONSTITUTION: The excitements of a deflecting electromagnet 2, quadrupole electromagnets 3, 8 and an accelerating cavity 4 are set to stably circulate a beam. A bump electromagnet 7 is controlled in such a manner that the central closed orbit is situated from the outer circumferential side of an accelerator to the inner circumferential side, and the emitted beam is circulated while conducting a betatron vibration having the amplitude of the central closed orbit difference. Thus, by providing different amplitudes of betatron vibration while gradually shifting the central closed orbit, the beam can be emitted in the (x), (y) cross-sectional length of a beam duct 5, and the amplitude of betatron vibration is suppressed to minimize the beam size. Thus, the incidence time can be shortened, and the incidence of the beam can be repeated to accumulate a large current. COPYRIGHT: (C)1993,JPO&Japio | ||||||
| 202 | Electron radiation generating device | JP22786490 | 1990-08-29 | JPH0396900A | 1991-04-22 | FURANSHISUKO HERUNANDESU; JIERII CHIYANBAAREIN |
| PURPOSE: To increase the safety to a patient by stopping the generation of electrons when the amplitude of at least one of detection signals exceeds a predetermined reference voltage value. CONSTITUTION: An electron injector 11 generates an injector pulse 5 having a small amplitude so as to generate an electron beam 15 having a low energy level. A switching unit 22 compares the amplitude of the injector pulse 5, which is detected by a detecting means 21 and transmitted with a detection signal 20, with a reference value assigned to the generation of electron radiation. When the injector 11 generates the injector pulse 5 with a large amplitude, the switching unit 22 generates a safe interlock signal 23 immediately. Further, the switching unit 22 generates a disabling signal 24. Consequently, the radiation of electronic radiation of high energy by a head which is possibly dangerous to patient's health is minimized. COPYRIGHT: (C)1991,JPO | ||||||
| 203 | Driving method for electron synchrotron | JP15282888 | 1988-06-21 | JPH01319300A | 1989-12-25 | NAKAYAMA KOICHI; GOMYO YOSHIO |
| PURPOSE: To augment the stored electron current with ease by performing electron beam incidence more than once into an accelerator ring for a predetermined time period, using a low energy electron incidence apparatus of no more than 40MeV. CONSTITUTION: For example, electron beam that is preliminarily accelerated to 15MeV is applied for multi-rotational incidence from an electron incidence apparatus 17 into an accelerator ring 11 for 15 seconds sequential, only for the time of incidence, a pulse electromagnet 13 is energized. As the pulse magnetic field is gradually decreased, betatron oscillation is attenuated and an equilibrium trajectory 18 approaches a mean trajectory 19, until the equilibrium trajectory becomes identical with the mean trajectory 19 at last. Further, an electron is stored along the mean trajectory 19 forcing electron beam multi- rotational incidence as many a time as predetermined in the cycle, and the stored electron current in the accelerator ring 11 is augmented for example to 1A. After that, the stored electron is accelerated at a high frequency accelerator cavity. The stored electron current can be thus augmented to the desired value even when the incidence electron beam is of low energy, and also, acceleration can be made to a predetermined value. COPYRIGHT: (C)1989,JPO&Japio | ||||||
| 204 | JPS57501755A - | JP50336281 | 1981-10-05 | JPS57501755A | 1982-09-24 | |
| 205 | ダイヤモンドまたはダイヤモンド様炭素を利用する誘電体壁加速器 | JP2016514125 | 2014-05-16 | JP6426155B2 | 2018-11-21 | スチュアート,マーティン,エー. |
| 206 | イオンビーム用の荷電変換膜 | JP2017512574 | 2016-04-14 | JPWO2016167311A1 | 2018-02-08 | 村上 睦明; 立花 正満; 多々見 篤 |
| 大強度ビーム使用下においても損傷や放射化を受け難く、高い耐久性を有し、10μm未満の膜厚制御が容易な、イオンビーム用の荷電変換膜を提供することを目的とする。本発明は、炭素成分が96原子%以上、25℃における膜面方向の熱伝導率が800W/mK以上のイオンビーム用の荷電変換膜の単層体又は前記イオンビーム用の荷電変換膜の積層体であり、厚さが10μm未満、100nm以上であるイオンビーム用の荷電変換膜である。 | ||||||
| 207 | 加速器および粒子線照射装置 | JP2016110552 | 2016-06-02 | JP2017216190A | 2017-12-07 | 関 孝義; 青木 孝道; えび名 風太郎 |
| 【課題】大がかりな移動装置を用いることなく、容易にかつ広い範囲に渡った任意のエネルギーのビームを取り出すことが可能な加速器とそれを備えた粒子線照射装置を提供する。 【解決手段】加速器20は、イオン源4と、イオン源4から引き出されたイオンビームを加速する高周波電極3と、イオンビームの周回軌道を発生させるように形成された、等時性磁場を発生させる磁極1と、周回軌道の中に配置された局所磁場発生部2と、イオンビームの軌道を入射軌道調整部6内で変更する角度調整器31と、を備えている。 【選択図】 図6 |
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| 208 | 双方向自由電子レーザー装置 | JP2016040591 | 2016-03-03 | JP2017157728A | 2017-09-07 | 石川 哲也 |
| 【課題】面積利用効率の向上等に寄与しつつ高いエネルギー効率で高強度のレーザー放射光(特に例えば極端紫外線領域の短波長のレーザー放射光)を得る。 【解決手段】自己増幅自発放射機能を持つアンジュレータ1の両側に2台の超電導リニアック3A、3Bを1台ずつ配置する。2台の超電導リニアック3A、3Bは、夫々において加速した電子ビームをアンジュレータ1に対して互いに逆方向から入射し(8A、8B)、これによってアンジュレータ1の両側からレーザー放射光を得る(7B、7A)。超電導リニアック3Bは、超電導リニアック3Aから入射されてアンジュレータ1から出射された電子ビームに対しエネルギー回収のための減速を行い、超電導リニアック3Aは、超電導リニアック3Bから入射されてアンジュレータ1から出射された電子ビームに対しエネルギー回収のための減速を行う。 【選択図】図2 |
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| 209 | 加速器及び粒子線照射装置 | JP2016507949 | 2014-12-08 | JPWO2016092621A1 | 2017-04-27 | 孝道 青木; 風太郎 えび名; 秀晶 西内; 重充 原; 原 重充; 真澄 梅澤; 孝義 関; 関 孝義 |
| エネルギーが異なるイオンビームを効率良く出射できる加速器を提供する。加速器4は、円形のリターンヨーク5A,5Bを含む円形の真空容器を有する。入射用電極18が、真空容器の中心軸Cよりも、リターンヨーク5B内のビーム出射経路20の入口側に配置される。磁極7A〜7Fが、リターンヨーク5B内で入射用電極18の周囲において入射用電極18から放射状に配置される。凹部29A〜29Fが、リターンヨーク5Bの周方向で磁極7A〜7Fと交互に配置される。真空容器内において、入射用電極18を中心とする複数のビーム周回軌道が存在する軌道同心領域、及びこの領域の周囲に、入射用電極18から偏心した複数のビーム周回軌道が存在する軌道偏心領域が形成される。軌道偏心領域では、入射用電極18とビーム出射経路20の入口の間でビーム周回軌道が密になり、入射用電極18を基点にしてビーム出射経路20の入口の180°反対側でビーム周回軌道相互間の間隔が広くなる。 | ||||||
| 210 | プラズマ推進機およびプラズマ推進力を生成するための方法 | JP2014549517 | 2012-12-19 | JP6120878B2 | 2017-04-26 | ラリガルディ，セルジュ |
| 211 | シンクロトロン用入射器システム、およびシンクロトロン用入射器システムの運転方法 | JP2015550226 | 2013-11-26 | JPWO2015079487A1 | 2017-03-16 | 山本 和男; 和男 山本; 定博 川崎; 博光 井上 |
| シンクロトロン用入射器システムであって、第一のイオンを発生する第一イオン源と、第一のイオンの電荷質量比よりも小さい電荷質量比の第二のイオンを発生する第二イオン源と、第一のイオンと第二のイオンのいずれのイオンも加速可能な能力を有するプリ加速器と、第一のイオンと第二のイオンのいずれかのイオンをプリ加速器に入射させるように構成された低エネルギビーム輸送路と、プリ加速器から出射される加速後の第一のイオンのみを加速する、自己収束型のポスト加速器とを備えるようにした。 | ||||||
| 212 | 高周波加速器の製造方法、高周波加速器、および円形加速器システム | JP2015502654 | 2013-02-28 | JP6041975B2 | 2016-12-14 | 菅原 賢悟; 花川 和之; 岸井 保人; 山本 和男 |
| 213 | RF粒子加速器のための加速器セグメント及び該加速器セグメントを用いた粒子を加速するための方法 | JP2013511583 | 2011-04-04 | JP6038778B2 | 2016-12-07 | オリヴァー・ハイト |
| 214 | シンクロトロン用入射器システム、およびシンクロトロン用入射器システムの運転方法 | JP2015550226 | 2013-11-26 | JP6033462B2 | 2016-11-30 | 山本 和男; 川崎 定博; 井上 博光 |
| 215 | 光陰極高周波電子銃空洞装置 | JP2012536436 | 2011-09-26 | JP5828429B2 | 2015-12-09 | 浦川 順治; 照沼 信浩; 高富 俊和 |
| 216 | 荷電粒子蓄積リングへのビーム入射方法及びそのシステム | JP2012548555 | 2010-12-13 | JP5718940B2 | 2015-05-13 | 山田 廣成; 長谷川 大祐 |
| 217 | プラズマ推進機およびプラズマ推進力を生成するための方法 | JP2014549517 | 2012-12-19 | JP2015509262A | 2015-03-26 | ラリガルディ，セルジュ |
| 本発明は、小型プラズマ推進機に関し、推進燃料ガスの注入手段の内部及び出口付近で、マイクロ中空カソード放電によってプラズマを点火すること、上記注入手段は磁気によるものであり、その下流に点火部を有していること、磁化されたプラズマの電子を、上記注入手段の出口においてジャイロ磁気回転させること、電子サイクロトロン共鳴(ECR)によってプラズマを維持し、上記注入手段は金属であるとともに電磁(EM)放出のためのアンテナとして用いられ、上記注入手段の出口におけるECRプラズマの容量は、上記EM波の共鳴キャビティとして用いられること、反磁性力により磁気ノズルの中のプラズマを加速し、放出されたプラズマが電気的に中性であることを含んでいる。 | ||||||
| 218 | 多方向荷電粒子線癌治療方法及び装置 | JP2014108569 | 2014-05-26 | JP2014209485A | 2014-11-06 | BALAKIN VLADIMIR YEGOROVICH |
| 【課題】陰イオンビームを集束させ、陰イオンビームを陽子又はH+ビームといった陽イオンビームに変換し、シンクロトロンに陽イオンビームを注入する装置の提供。【解決手段】真空チューブ320と、真空チューブ320内の長手方向の荷電粒子ビーム経路に沿って移動する荷電粒子を集束するように構成されているイオンビーム集束システム350であって、イオンビーム集束システム350は、当該荷電粒子ビーム経路のセクションの周囲を囲む第一集束電極360,370と、当該荷電粒子ビーム経路を少なくとも部分的に妨害する複数の導電性経路を備える第二集束電極372とを備え、直列加速器390であって、直列加速器390が、炭素フォイル395を備え、炭素フォイル395が真空チューブ320の壁に機械的に結合されていて、陰イオンビーム経路319の陰イオンから電子を奪い、陽子イオンビーム経路262を形成する装置。【選択図】図3 | ||||||
| 219 | Improved septum magnet | JP2014528932 | 2012-08-30 | JP2014525670A | 2014-09-29 | 圭 杉田 |
| 本発明は、少なくとも１つの電気コイルデバイス（６ａ、６ｂ、７ａ、７ｂ）を含む、磁界生成デバイス（１、３２）に関し、前記電気コイルデバイス（６ａ、６ｂ、７ａ、７ｂ）の少なくとも１つの横断面において、導電体が、少なくとも第一の角度範囲内で円弧（８、２８）に基本的に沿って配置され、少なくとも第二の角度範囲内で前記円弧から偏移（９、１８、２９）し、少なくとも１つの磁気ヨークデバイス（２、１９、２１、２２、２３、２５）が、前記第一の角度範囲の一部に少なくとも沿って配置される。 | ||||||
| 220 | 荷電粒子蓄積リングへのビーム入射方法及びそのシステム | JP2012548555 | 2010-12-13 | JPWO2012081070A1 | 2014-05-22 | 廣成 山田; 大祐 長谷川 |
| 外部から入射する荷電粒子(電子)を摂動装置(パータベータ)によって周回させる蓄積リングに荷電粒子ビーム(電子ビーム)を入射する方法であって、摂動装置に、電流強度がサイン波で変化する励磁電流を連続的に流した状態で、励磁電流の周期の2倍以上の時間、蓄積リングに荷電粒子ビームを入射する。これにより、サイン半波を使用する従来の共鳴入射法よりも大きい電流を蓄積リングに蓄積することができ、強度が大きいX線を発生させることができる。 | ||||||
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