序号 专利名 申请号 申请日 公开(公告)号 公开(公告)日 发明人
41 非熱プラズマを用いて皮膚を処置するための装置 JP2017560219 2016-05-19 JP6385597B2 2018-09-05 ザイダーヴァールト ヤスパー; ファン デル ズワン エドゥアルド アントニウス; モーイブローク ステファン; ナイダム イェロエン クリスティアン
42 非熱プラズマを用いて皮膚を処置するための装置 JP2017560219 2016-05-19 JP2018524040A 2018-08-30 ザイダーヴァールト ヤスパー; ファン デル ズワン エドゥアルド アントニウス; モーイブローク ステファン; ナイダム イェロエン クリスティアン
本発明は、非熱プラズマを用いて皮膚を処置するための装置に関する。該装置は、処置の間に皮膚に当てるための皮膚インタフェース電極を持つ筐体と、該皮膚インタフェース電極において非熱プラズマを生成する生成器と、処置の間以外のときに、該皮膚インタフェース電極を囲む領域を離隔させて、該領域内の該皮膚インタフェース電極において生成された非熱プラズマが、該皮膚インタフェース電極を殺菌するようにする、離隔要素と、を有する。
43 大気圧で複数の低温プラズマジェットを生成するための方法およびデバイス JP2017547072 2015-11-26 JP2017535935A 2017-11-30 プーヴスル、ジャン−ミシェル; ロベール、エリック; ドジア、セバステン; ユニョ、ミシェル; サロン、ヴァネッサ; ダーニー、ティボール
本発明は、対象物(2)を処理するために、大気圧で複数の低温プラズマジェットを生成するための方法(S)であって、前記方法が、プラズマ源(10)を使用して、大気圧で第1低温プラズマジェット(3)を発生させるステップ(S1)と、処理される対象物(2)の近くに基板(20、21、30、32、34)を配置するステップであって、前記基板(20、21、30、32、34)が少なくとも2つの貫通孔を含むステップ(S2)と、大気圧で少なくとも2つの第2低温プラズマジェット(4)を生成するように、プラズマを基板(20)の貫通孔(22)に通すステップ(S3)とを含む方法(S)に関する。【選択図】図1
44 非熱プラズマ JP2016547546 2015-01-22 JP2017503595A 2017-02-02 ビックフォード ホルベック,トーマス; スチュワート メイソン,ロドニー
本発明は人体にプラズマを印加するためのプラズマ生成装置に関し、装置は、気体を含む容器、容器と流体接続するプラズマゾーン、及びプラズマゾーンで放電によりプラズマを生成するための手段を含み、気体は92%〜99.5%のヘリウム、及び0.5%〜8%のアルゴンを含む、又は気体は95%〜99.5%のヘリウム及び1%〜20%のネオンを含む、又は気体は99.95%〜99.99%のヘリウム及び0.01%〜0.05%の酸素を含む。【選択図】図4
45 ガスプラズマ消毒および滅菌装置 JP2014542928 2012-11-14 JP6027624B2 2016-11-16 ハンコック,クリストファー・ポール; モリス,スティーブン
46 低圧プラズマを使用して生物組織を処置するための装置および方法 JP2015548244 2013-10-21 JP2016500318A 2016-01-12 エスエルベー、ヨーゼフ; クーロス、ヨーゼフ; ヒンテルコプフ、ヤン
本発明は、低圧プラズマを使用して生物組織(G)を処置するための装置であって、a)高周波電磁場を発生させるための変圧器(1)と、b)前記変圧器(1)に電気的に結合され得るプローブ(2)と、c)前記変圧器(1)により発生される高周波電磁場を制御するための制御デバイス(3)と、を備える装置に関し、安全デバイス(30)は、前記制御デバイス(3)と関連付けられ、前記変圧器(1)により発生される電磁場の出は、前記安全デバイス(30)により、対応する用途のために自動的に設定され得る。【選択図】図3
47 真空筐体内においてコールドプラズマを生成する装置及び熱化学処理に対する該装置の使用 JP2009549448 2008-02-01 JP5735214B2 2015-06-17 フィリップ・モーラン−ペリエ; エルベ・シャバンヌ; ローレ・ポイト
48 プラズマ治療装置 JP2015507586 2013-04-24 JP2015516219A 2015-06-11 メイソン,ロドニー・スチュワート
プラズマ治療装置(10)が、バッテリ(22)と、ガスシリンダ(15)と、電源回路(22)と、一対の電極(18、19)を備えるプラズマ生成器(20)と、を収納している本体部分(11)を備えている。装置は、更に、脱着式アプリケータ部分(12)と、生成器(20)から延びる細長いダクト(14)であって、生成されたプラズマをダクト(14)の遠位端の出口へ運搬するため及び出口で形成されるプラズマプルームを治療区域上へ方向決めするための細長いダクト(14)と、を備えている。環状電極(25)が、ダクト(14)の出口に配置されていて、細長い電気伝導体(26)を介して電源回路(21)へ接続されている。環状電極(25)は、生成されたプラズマ中の電子を現れてくるプラズマプルームから離して伝導するように作用しており、得られる電流によって何らかの感覚が引き起こされることを回避するのを支援するようになっている。回路(17)が、電極(25)からの電流を測定するために提供されており、電源回路(21)は、一対の電極(18、19)へ供給されるパワーを、測定された電流に依存して調節するように配設されている。【選択図】図1
49 ガスプラズマ消毒および滅菌装置 JP2014542928 2012-11-14 JP2015502788A 2015-01-29 ハンコック,クリストファー・ポール; モリス,スティーブン
非熱プラズマがパルスで発生する滅菌または消毒システムであって、マイクロ波周波数エネルギのパルスを用いて各プラズマパルスを持続させ、マイクロ波エネルギの各パルスの検出可能な特性を用いて、プラズマを衝突させる無線周波数衝突パルスをトリガするシステムが提供される。当該システムは、マイクロ波信号結合器からの信号を条件付け、および/または処理して、パルスの立上がり端または振幅であり得る検出可能な特性に基づいて制御信号を形成するように構成された衝突信号発生回路を含む。
50 Apparatus for delivering a flow of plasma JP2014515275 2012-06-12 JP2014523063A 2014-09-08 ホルベッチ,トーマス・ビックフォード
本発明は、処理領域を処理するための活性種を含むガス状のプラズマを周囲の大気圧において形成するための装置(10)を提供する。 この装置は、処理領域を処理するためのガス状のプラズマを形成するためのプラズマセル(12)を有する。 プラズマセルは、供給源(18)からガスを受け入れるための入口(16)とセルの中で発生した活性種を放出するための出口(20)を有する。 ポリイミドから成る誘電体基板(22)が入口から出口まで運ばれるガスのための流路を取り囲んでいて、流路に沿ってガスを活性化することによって活性種を形成するために誘電体基板の上に電極(26)が形成されている。 プラズマセル(12)の中で発生した活性種が誘電体基板(22)の材料と反応するのを防ぐために、保護コーティングまたはライニング(32)が誘電体基板(22)の内表面上に配置されている。
【選択図】図1
51 Processing unit JP2012539399 2010-11-11 JP2013510695A 2013-03-28 ロイド,ジェフリー・モーガン; デヴリー,コーマック・ジョン; ホルベッチ,トーマス・ビックフォード
口腔の処理において用いるのに適した温度において非熱性ガスプラズマを発生させるための発生器(16)と非熱性プラズマのアプリケーター(18)を有する歯間処理装置。 アプリケーター(18)は、非熱性プラズマの噴射を歯間に指向させるための中空の針状部材を有していてもよい。 あるいは、アプリケーター(18)は、非熱性ガスプラズマを受け入れるための中空の頭部を有する歯間ブラシを有していてもよく、その頭部はプラズマを放出するための少なくとも一つの側方の開口を有する。 発生器(16)とアプリケーター(18)は両者とも、手で持てるサイズの装置(10)の一部を形成していてもよく、この装置は、加圧されたガスを収容するカプセル(12)の形のそれ自体のガス供給源と、電池(20)の形のそれ自体の電源を有する。
【選択図】図2
52 プラズマ生成装置及び方法 JP2010546619 2010-01-12 JPWO2010082561A1 2012-07-05 正巳 鐘ヶ江; 恭一 加藤; 薫 尾上; 大輔 福岡
【課題】高清浄・高純度で、安定した高密度プラズマを生成し、継続的に安定なプラズマを維持できるプラズマ装置を提供する。【解決手段】ガス供給口12及びプラズマ出口13を有する第1のプラズマ生成室10と、第1のプラズマ生成室内の空間に露出しない状態で配置された第1のプラズマ生成手段11と、プラズマ出口を通じて第1のプラズマ生成室で発生したプラズマが供給されるプラズマ供給口22を有する第2のプラズマ生成室20と、第2のプラズマ生成室内の空間に露出しない状態で配置され、第1のプラズマ生成室で発生したプラズマよりも高密度のプラズマを第2のプラズマ生成室内に発生させるための第2のプラズマ生成手段21とを有するプラズマ生成装置。【選択図】図1
53 Use of the device with respect to the apparatus and thermo-chemical process to produce a cold plasma in a vacuum enclosure JP2009549448 2008-02-01 JP2010519680A 2010-06-03 エルベ・シャバンヌ; フィリップ・モーラン−ペリエ; ローレ・ポイト
In apparatus for generating cold plasma in an evacuated vessel using a cathode body (1) with hollow plasma confinement chambers (1a), each chamber is associated with a magnetic field source (2) causing electrons to rotate around its lines of force. The cathode body is provided with a cooling fluid circulating element (3) to extract heat generated by the intense ionic bombardment in each of the hollow chambers.
54 Method of applying a gas plasma in non-thermal to living tissue JP2008508976 2006-04-25 JP2008539007A 2008-11-13 ガトソル、アレキサンダー; バラスブラマニアン、マンジュラ; フリッドマン、アレキサンダー; フリッドマン、グレゴリー; フリッドマン、ゲイリー
Method for the non-thermal treatment of human or animal tissue with high-voltage electrical discharge plasma is disclosed. The disclosed method employs current through plasma and through tissue not for the purpose of heating the tissue, but instead to maintain the plasma proximate to the tissue being treated. Also disclosed is a method of limiting the current through plasma and through tissue to minimize tissue heating by placement of an insulator or semiconductor between an electrode and tissue resulting in generation of a high-voltage discharge similar to a dielectric barrier discharge. The disclosed non-thermal plasma treatment can be employed to promote coagulation of blood, sterilization, disinfection, re-connection of tissue, and treatment of tissue disorders without causing significant thermal tissue damage.
55 低圧プラズマを用いて生体組織を処置するための装置および方法 JP2015528890 2013-06-20 JP6310458B2 2018-04-11 エスエルベー、ヨーゼフ; クーロス、ヨーゼフ; ヒンテルコプフ、ヤン
56 挿入・引出可能なプラズマ放電管装置 JP2017536892 2015-01-12 JP2018504202A 2018-02-15 王守国
挿入・引出可能なプラズマ放電管装置であって、該装置は、手持ち可能なケース(100)に挿入・引出可能に接続されるプラズマ放電管を含み、該プラズマ放電管内に単一電極(101)が設けられ、その外周に他の電極が設けられず、該単一電極(101)がプラズマ電源(107)の1つの出端に接続され、該プラズマ電源(107)のもう1つの出力端がそれ自体の回路のアース線に接続され、該プラズマ電源(107)の入力端は、12V以下の直流電源又は電池に接続され、該プラズマの発生方式は、接触式の管外誘導放電方式、又はガス供給源付きの管内自続放電方式であり、該プラズマ放電管は、準グローの常圧低温プラズマを発生することができる挿入・引出可能なプラズマ放電管装置。発生するプラズマは、敏感表面に対する消毒、滅菌、皮膚組織感染の治療、及び癌細胞の殺滅に適用される。【選択図】図1
57 感染した爪又は感染した皮膚のプラズマ処置 JP2017506691 2015-08-04 JP2017530738A 2017-10-19 プレッジ,ニック; ホルベッチ,トーマス
本発明は、(a)感染した爪又は皮膚にプラズマを当て;(b)感染した爪又は皮膚を再和し;(c)感染した爪又は皮膚にプラズマを当て;そして(d)任意に、感染した爪又は皮膚を再水和する;ことを含み;工程(a)及び(c)のそれぞれにおいて、プラズマを、プラズマ処置した部分の水和レベルがプラズマ処置した部分の当初の湿分含量に基づいて最大で30重量%、好ましくは最大で20重量%低下するまで爪又は皮膚の一部に当てる方法において用いられる、感染した爪又は感染した皮膚の処置において用いるための非熱プラズマに関する。【選択図】図1
58 非熱プラズマを用いるDNAワクチンの経皮デリバリ JP2016536112 2014-12-04 JP2017504575A 2017-02-09 カルガットギ,サミーア; アントナカス,ダフネ・パパス; ツァイ,ツンチャン; グレイ,ロバート・エル
【課題】DNAワクチンをデリバリするメソドロジを提供する。【解決手段】DNAワクチンをデリバリするメソドロジは、一又は複数の孔を開けるのに十分な時間処置エリアにプラズマ処置するプラズマジェネレータの提供を含む。外用DNAワクチンを処置エリアに塗り、暫く待ち、DNAワクチンが一又は複数の孔に移動到達可能とする。実施メソドロジは、DNAワクチンの細胞内摂取が可能とされるに十分なセッティングでの処置エリアへのプラズマ処置をさらに含むメソドロジである。【選択図】図7
59 プラズマ生成装置及び方法 JP2010546619 2010-01-12 JP5891341B2 2016-03-23 鐘ヶ江 正巳; 加藤 恭一; 尾上 薫; 福岡 大輔
60 低圧プラズマを使用して生物組織を処置するための装置および方法 JP2015548243 2013-10-21 JP2016500317A 2016-01-12 エスエルベー、ヨーゼフ; クーロス、ヨーゼフ; ヒンテルコプフ、ヤン
本発明は、低圧プラズマを使用して生物組織(G)を処置するための装置であって、a)高周波電磁場を発生させるための変圧器(1)と、b)前記変圧器(1)に電気的に結合され得るプローブ(2)と、c)前記変圧器(1)により発生される高周波電磁場を制御するための制御デバイス(3)と、を備える装置に関し、情報デバイスは、前記プローブ(2)と関連付けられ、この情報デバイスを用いて、e)前記組織(G)に対する前記装置の電出力の持続時間は、測定され、且つ光学的および/または音響的に知らされ得る、および/または、f)前記組織(G)に対して前記装置により出力される電流強度または電力は、測定可能であり、それが所定の限界値を超える場合には、前記装置の電力供給は、中断される、および/または、g)処置されるべき前記組織(G)からの前記プローブ(2)の処置面の距離は、測定され、且つ光学的および/または音響的に知らされ得る。【選択図】図3
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