| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 21 | 等离子体处理装置 | CN201380022097.X | 2013-04-24 | CN104470465A | 2015-03-25 | R·S·马森 |
| 一种等离子体处理装置(10)，包括：收容电池(22)的本体部(11)，气瓶(15)，电源电路(21)，以及包括一对电极(18、19)的等离子体生成器(20)。装置还包括可拆卸的施加器部(12)，以及从生成器(20)延伸的用于将所生成的等离子体输送到出口并将形成在出口处的等离子体羽引导到处理区域上的延长导管(14)，所述出口在导管(14)的远端处。环形电极(25)被设置在导管(14)的出口处，并经由延长电导体(26)连接到电源电路(21)。环形电极(25)起到将所生成的等离子体内的电子从排出的等离子体羽带走的作用，从而帮助避免由结果电流导致的任何感觉。可提供电路(17)测量来自电极(25)的电流的电路，电源电路(21)被布置成根据所测电流调整供应到一对电极(18、19)的电力。 | ||||||
| 22 | 用于等离子体处理表面的工艺 | CN201110180474.5 | 2005-11-03 | CN102355789B | 2014-06-11 | 利亚姆·奥奈尔; 彼得·杜宾; 沃尔特·卡斯塔格那 |
| 在等离子体处理表面的工艺中，在具有入口和出口的介电壳体内产生非平衡大气压等离子体，通过该壳体工艺气体从入口流向出口。在至少部分由介质材料形成的容管从壳体出口向外延伸，其中容管的末端形成等离子体出口。待处理的表面位于等离子体出口附近，使得表面与等离子体接触并相对于等离子体出口而移动。 | ||||||
| 23 | 冷等离子体种子处理设备 | CN201210523536.2 | 2012-12-07 | CN103039151A | 2013-04-17 | 邵汉良; 董元华; 缪琴; 钱海波 |
| 本发明公开了一种冷等离子体种子处理设备，包括真空装置以及设置在真空装置内的放电装置和传输装置，在真空装置上设置有筒体进料口和筒体出料口，还包括一进料装置和一出料装置，进料装置包括第一进料斗和第二进料斗，第一进料斗和第二进料斗分别设置有进料盖、进料斗放气阀、进料斗出料口以及进料斗抽真空蝶阀，第一进料斗和第二进料斗的进料斗出料口以及筒体进料口分别通过一进料斗蝶阀与一三通管连接；在所述的第一进料斗和第二进料斗的进料斗抽真空蝶阀上连接有第一抽真空泵机组，出料装置包括第一出料斗和第二出料斗。本发明适用于处理各种作物的种子，处理成本低、速度快、无污染，且作物抗旱、抗病虫害等抗逆能力得到提高，增产效果显著。 | ||||||
| 24 | 用于提供活性气体流的设备 | CN201180029523.3 | 2011-04-13 | CN102934527A | 2013-02-13 | T.B.霍尔贝切; R.T.赖希; P.多布森; C.J.德维里; A.R.T.塔塔雷克 |
| 一种通常为手持式的设备（10）提供部分电离的气态等离子体流以便对治疗部位进行治疗。该设备包括容纳微型等离子体单元（16）的施加器头（52）和多个电极（26、28），在微型等离子体单元（16）中，从气源（22）流动通过单元的气体能够被激励以形成非热气态等离子体，多个电极（26、28）用于从电能的源接收电能以便激励单元中的等离子体形成区（18）中的气体以形成所述等离子体。施加器头（52）能够从该设备拆卸并且可以具有使得其能够被插入人或动物口腔中的尺寸和构造。 | ||||||
| 25 | 治疗器械 | CN201080061666.8 | 2010-11-11 | CN102771193A | 2012-11-07 | G.M.劳埃德; C.J.德韦里; T.B.霍尔贝切 |
| 一种齿间治疗器械，包括用于在适合供口腔治疗使用的温度下生成低温气态等离子体的发生器(16)，以及低温气态等离子体的涂药器(18)。涂药器(18)可以包括用于在齿间引导低温等离子体射流的中空探针元件。可选地，涂药器(18)可以包括具有中空刷头用于容纳低温气态等离子体的齿间刷，刷头具有用于排放低温等离子体的至少一个侧向开口。发生器(16)和涂药器(18)均可构成手持式器械(10)的一部分，手持式器械拥有其自身的包含加压气体的气囊(12)形式的气体供应源以及其自身的电池(20)形式的电源。 | ||||||
| 26 | 用于等离子体处理表面的工艺 | CN201110180474.5 | 2005-11-03 | CN102355789A | 2012-02-15 | 利亚姆·奥奈尔; 彼得·杜宾; 沃尔特·卡斯塔格那 |
| 在等离子体处理表面的工艺中，在具有入口和出口的介电壳体内产生非平衡大气压等离子体，通过该壳体工艺气体从入口流向出口。在至少部分由介质材料形成的容管从壳体出口向外延伸，其中容管的末端形成等离子体出口。待处理的表面位于等离子体出口附近，使得表面与等离子体接触并相对于等离子体出口而移动。 | ||||||
| 27 | 非热等离子体微粒减少系统以及使用该系统的方法 | CN200980119153.5 | 2009-03-25 | CN102046933A | 2011-05-04 | 阿里·沃加特; 理查德·巴克斯 |
| 本发明总体上涉及用于减少气流中微粒物质数量的基于非热等离子体的系统，还涉及使用这样的系统的方法。本发明尤其涉及具有自洁表面的基于非热等离子体的减少微粒物质的系统。尤其可以预期的是减少系统中微粒物质积累的自洁表面，微粒物质积累例如可能导致非热等离子体生成减少，以及因此使系统减少气流中微粒物质数量的能力降低。 | ||||||
| 28 | 微波等离子体灭菌系统及其施放器 | CN200880123007.5 | 2008-11-06 | CN101918044A | 2010-12-15 | 克里斯托弗·保罗·汉科克 |
| 一种灭菌系统，具有可控(例如，可调节地调整)非电离微波辐射源，用于提供与气体(惰性气体或惰性气体的混合物)结合的微波能量，以产生用于对生物组织表面等进行灭菌的低温等离子体。等离子体发生区可以包括在手持式等离子体施放器中。该系统可以包括例如集成在等离子体施放器中的阻抗调节器，被配置为设置等离子体撞击状态和等离子体保持状态。可以将气体和微波能量沿集成的电缆组件传输到等离子体发生区。该集成电缆组件提供了双向气流配置，以允许将残余气体从表面去除。因此，可以进行侵入式表面等离子体处理。该等离子体施放器可以具有多个等离子体发射器以产生等离子体线或包层。 | ||||||
| 29 | 非熱プラズマ | JP2016547579 | 2015-01-22 | JP2017510316A | 2017-04-13 | ホルベック，トーマス，ビックフォード; メイソン，ロドニー，スチュワート |
| 本発明は人体にプラズマを適用するためのプラズマ生成装置に関し、装置は、ガスを含むタンク、タンクと流体接続するプラズマゾーン、及びプラズマゾーンでの放電によりプラズマを生成するための手段を含み、ガスは92%〜99.9%のアルゴン及び0.1%〜8%のクリプトンを含む、又はガスは95%〜99.5%のアルゴン及び0.5%〜5%の水素を含む、又はガスは92%〜99.5%のアルゴン及び0.5%〜8%の亜酸化窒素を含む。【選択図】図4 | ||||||
| 30 | コールドプラズマジェットの発生装置 | JP2012523304 | 2010-07-31 | JP5848705B2 | 2016-01-27 | キンデル、エックハルト; レンブケ、ノルベルト; スティーバー、マンフレート; ティッツ、リュディガー; ウェルトマン、クラウス−ディーター; ヘルウィグ、ルッツ |
| 31 | 真空筐体内においてコールドプラズマを生成する装置、熱化学処理および窒化に対する該装置の使用 | JP2015033726 | 2015-02-24 | JP5798697B2 | 2015-10-21 | フィリップ・モーラン−ペリエ; エルベ・シャバンヌ; ローレ・ポイト |
| 32 | 気相化学種を生成するための装置 | JP2011553504 | 2010-03-09 | JP5782386B2 | 2015-09-24 | ロイド,ジェフリー・モーガン; デヴリー,コーマック・ジョン; ホルベッチ,トーマス・ビックフォード |
| 33 | Plasma processing of the substrate | JP2013520006 | 2011-07-20 | JP2013538288A | 2013-10-10 | マシネ フランソワーズ; ガウディ トーマス; トータント アドリアン; デカン ピエール; リームポール パトリック; カイザー ヴィンセント |
| A process for plasma treating a substrate comprises applying a radio frequency high voltage to at least one electrode positioned within a dielectric housing having an inlet and an outlet while causing a process gas to flow from the inlet past the electrode to the outlet, thereby generating a non-equilibrium atmospheric pressure plasma. An atomized or gaseous surface treatment agent is incorporated in the non-equilibrium atmospheric pressure plasma. The substrate is positioned adjacent to the plasma outlet so that the surface is in contact with the plasma and is moved relative to the plasma outlet. The flow of process gas and the gap between the plasma outlet and the substrate are controlled so that the process gas has a turbulent flow regime within the dielectric housing. | ||||||
| 34 | Plasma processing apparatus and method | JP2007539632 | 2005-11-03 | JP5180585B2 | 2013-04-10 | オニール、リアム; ドビン、ピーター; カスターニャ、ウォルター |
| Apparatus for plasma treating a surface, comprising a dielectric housing (10)having an inlet (11) and an outlet, a means for causing a process gas to flow from the inlet to the outlet, a means for generating a non-equilibrium atmospheric pressure plasma in the process gas, a tube (13) formed at least partly of dielectric material extending outwardly from the outlet of the housing (10), whereby the end of the tube (14) forms the plasma outlet and the plasma extends from the electrode (12) to the plasma outlet (14), means for moving the surface to be treated relative to the plasma outlet (14) while maintaining the surface adjacent to the plasma outlet (14) and an atomiser for atomising a surface treatment agent positioned within the housing (10). | ||||||
| 35 | Non-thermal atmospheric pressure plasma generating device | JP2012523304 | 2010-07-31 | JP2013501332A | 2013-01-10 | キンデル、エックハルト; レンブケ、ノルベルト; スティーバー、マンフレート; ティッツ、リュディガー; ウェルトマン、クラウス−ディーター; ヘルウィグ、ルッツ |
| 本発明は、プラズマの発生部分において、接地された電極として機能する金属ハウジングを備え、その金属ハウジンング内には、ＨＦジェネレータと、高周波数用の閉じられたフェライト磁心を備えるＨＦ共振コイルと、ガスノズルとして機能する絶縁体と、この絶縁体に取り付けられている高圧電極とが、プロセスガスによって取り巻かれるか、または通過されるように配置されている、大気圧条件下におけるＨＦ励起コールドプラズマの発生装置を提供する。 好ましい実施形態では、取り外し可能な導電性のキャップを備え、そのキャップは前方部分にスリットまたは穴を有する。 本発明は、美容及び医療用材料のプラズマ処理に有効に使用することができる。 本発明により、小型化された携帯型装置内にプラズマノズル及び制御エレクトロニクスを組み込むことによって、または短い高電圧ケーブルを使用することによって、電磁適合性（ＥＭＣ）ガイドラインの遵守が保証され、出力損失を最小化することにより携帯利用を実現することが可能となる。
【選択図】図１ |
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| 36 | Device for generating a gas-phase species | JP2011553504 | 2010-03-09 | JP2012520101A | 2012-09-06 | デヴリー，コーマック・ジョン; ホルベッチ，トーマス・ビックフォード; ロイド，ジェフリー・モーガン |
| 本発明は、非熱気体化学種（２４）を生成するための装置（１０）を提供しており、前記非熱気体化学種（２４）は装置から発せられる気体プラズマプルームの形態をしている気体プラズマの流れであってもよいとされる。 装置は、単数気体又は複数気体（１４）を加圧下に保持し、気体を放出させて反応生成器（１６）を通るアプリケーター（１８）への気体の流れを形成するための気体カプセル又は圧力容器（１２）を備えている。 気体カプセルから放出された気体は反応生成器の中でエネルギーを印加されて、気体プラズマを形成する。 装置は、例えば歯の洗浄や漂白に使用できるよう、手で保持して操作するように適合されている。
【選択図】図１ |
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| 37 | 저압 플라즈마를 이용한 생체 조직 처리 장치 및 방법 | KR1020157016390 | 2013-10-21 | KR1020150120938A | 2015-10-28 | 스르프,조세프; 꼬로우스,조세프; 힌터코프,얀 |
| 본발명은, a) 고주파수전자기장을생성하는변압기(1); b) 변압기(1)에전기적으로연결될수 있는프로브(2); 및 c) 변압기(1)에의해생성된고주파수전자기장을제어하는제어장치(3) 를포함하는, 저압플라즈마를이용한생체조직(G) 처리장치에관한것으로, 변압기(1)에의해생성된전자기장의전력이대응하는애플리케이션에대하여자동으로설정될수 있게하는안전장치(30)가상기제어장치(3)와관련된다. | ||||||
| 38 | 플라즈마 시스템 | KR1020077010259 | 2005-11-03 | KR101192974B1 | 2012-10-22 | 오닐리암; 도빈피터; 카스태그나월터 |
| Apparatus for plasma treating a surface, comprising a dielectric housing (10)having an inlet (11) and an outlet, a means for causing a process gas to flow from the inlet to the outlet, a means for generating a non-equilibrium atmospheric pressure plasma in the process gas, a tube (13) formed at least partly of dielectric material extending outwardly from the outlet of the housing (10), whereby the end of the tube (14) forms the plasma outlet and the plasma extends from the electrode (12) to the plasma outlet (14), means for moving the surface to be treated relative to the plasma outlet (14) while maintaining the surface adjacent to the plasma outlet (14) and an atomiser for atomising a surface treatment agent positioned within the housing (10). | ||||||
| 39 | 저온 플라즈마 입자상 물질 감소 시스템 및 그 이용 방법 | KR1020107023435 | 2009-03-25 | KR1020110009659A | 2011-01-28 | 오구트알리; 바쿠스리차드 |
| 본 발명은 대체로 가스 스트림에서 입자상 물질의 양을 감소시키는 저온 플라즈마 기반 시스템과 그러한 시스템을 사용하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 특히 셀프 클리닝 표면을 갖는 저온 플라즈마 기반 입자상 물질 감소 시스템에 관한 것이다. 특히, 상기 시스템에서 저온 플라즈마 발생의 감소의 원인으로서 입자상 물질 집합을 감소시키는 셀프 클리닝 표면이 예상되므로 그러한 시스템의 능력은 가스 스트림에서 입자상 물질의 양을 감소시킨다.
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| 40 | 低温プラズマオゾン発生器 | JP2018537737 | 2016-10-06 | JP2018531211A | 2018-10-25 | ユバール ロダン; メイア バダロブ; モティー ビゼル |
| 本発明は、低温プラズマオゾン発生器であって、流入ガスポートと、少なくとも1つの入側電極であって、当該入側電極が、当該入側電極の実質的に周辺部に複数の孔を有しており、前記複数の周辺部の孔が前記流入ガスポートと流体連通しており、前記複数の周辺部の孔が、前記乾燥ガスが前記周辺部の孔を通過するのを可能にするように形成されている、少なくとも1つの入側電極と、少なくとも1つの出側電極であって、当該出側電極が、当該出側電極の中心部に少なくとも1つの孔を有しており、前記少なくとも1つの孔が、ガスが前記孔を通過するのを可能にするように形成されており、前記入側電極と前記出側電極とが、前記入側電極と前記出側電極との間に前記高電圧交流電流を維持するように形成されている、少なくとも1つの出側電極と、前記入側電極と前記出側電極との間の少なくとも1つのスペーサであって、当該スペーサが、前記入側電極と前記出側電極との間に一定幅のギャップを維持するように形成されている、少なくとも1つのスペーサと、流出ポートとを含む、低温プラズマオゾン発生器を提供する。 | ||||||
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