子分类：
- G21K1/00： 粒子或电离辐射的处理装置,如聚焦或慢化(中子、带电粒子、中性分子束或中性原子束的产生或加速入H05H 3/00至H05H 15/00)
- G21K2201/00： 处理辐射或粒子的装置
- G21K2207/00： 具体的成像设备或方法,利用电离电磁辐射,如X射线或γ射线
- G21K4/00： 用于将粒子或电离辐射的空间分布转换成可见图像的转换屏幕,如荧光屏(使用X射线增强的摄影过程入G03C5/17 ; 包含发光屏幕的放电管入H01J1/62 ; 用于X射线转换并有光输出的 阴极射线管 入H01J31/50)
- G21K5/00： 照射装置(照射用的放电管入H01J37/00)
- G21K7/00： γ射线或X射线显微镜
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 141 | 一种叶片驱动结构和多叶准直器 | CN201310590425.8 | 2013-11-20 | CN104658629A | 2015-05-27 | 张剑; 包光中; 刘晓龙; 刘剑 |
| 本发明提供一种叶片驱动结构和多叶准直器。所述叶片驱动结构中，叶片由丝杠驱动机构控制，其中，丝杠驱动机构的螺母固定在叶片上，丝杠的一端固定在螺母内，另一端与一个电机固定连接。使用时，由电机控制丝杠转动，从而带动所述螺母沿着丝杠的延伸方向移动，进而控制所述叶片移动。上述技术方案中，通过丝杠的转动可精确地控制所述叶片的移动精度；此外丝杠控制机构与叶片的面积较小，采用上述叶片驱动结构的多叶准直器，可有效提高各叶片的排列紧凑度，从而提高各叶片形成的放射射野的适形度。 | ||||||
| 142 | 用于集装箱或车辆检查系统的对准系统和对准方法 | CN201410767544.0 | 2014-12-11 | CN104634796A | 2015-05-20 | 李荐民; 李玉兰; 李元景; 于昊; 宗春光; 顾菁宇; 喻卫丰; 宋全伟; 王伟珍; 孙尚民; 刘以农; 李君利; 唐传祥 |
| 本发明公开了一种用于集装箱或车辆检查系统的对准系统、检查系统和对准方法。检查系统包括射线源、准直器以及安装在探测器臂上的探测器模块，射线源、准直器以及探测器模块布置成形成检查通道，射线源发射的射线束经过准直器入射到被检查物体，由探测器模块收集被衰减的射线束以完成检查。对准系统包括测量模块，所述测量模块布置成接收从准直器发出的射线束并通过测量射线束确定射线源和准直器的位置和方向。该对准方法可以更加准确地测量射线源中心点、探测器笔端中心线及准直器中心线的对准程度。 | ||||||
| 143 | 线扫描装置 | CN201010537488.3 | 2010-11-05 | CN102188775B | 2015-05-20 | 井上淳一 |
| 本发明的目的在于提供一种可以谋求可靠性提高的线扫描装置。本发明具备：照射喷嘴(2)，照射线扫描射束；照射位置传感器(11)，检测线扫描射束的照射位置；运算处理电路部(13)，测定在照射位置传感器(11)检测出的照射位置的线扫描射束的停留时间；照射控制部(14)，利用照射位置传感器(11)检测出的照射位置和运算处理电路部(13)测定出的停留时间，对线扫描射束进行扫描控制。根据该线扫描装置(1)，利用线扫描射束的照射位置及与该照射位置对应的停留时间，对线扫描射束进行扫描控制，由此可以更可靠地防止射束向错误位置的照射或过量照射，从而可以谋求线扫描装置的可靠性的提高。 | ||||||
| 144 | 一种用于参考γ辐射场的γ射线准直器 | CN201410679413.7 | 2014-11-24 | CN104599735A | 2015-05-06 | 罗鹏; 祝娇; 徐卫峰; 郑文祥; 傅晨雨; 代传波; 许浒; 郭智荣 |
| 本发明涉及核辐射计量校准技术领域，提供一种用于参考γ辐射场的γ射线准直器，包括准直光阑，所述准直光阑的光路呈圆台型，准直光阑的入射窗呈喇叭状，准直光阑的发射窗在光路边缘的基础上外扩，在准直光阑的内表面加工有若干环形槽，所述环形槽的截面呈三角形，且同一截面中所有三角形的顶点均在同一水平面上，所有三角形的底边均在同一光路边缘上，该环形槽的三角形截面形状根据放射源γ射线能量的不同而不同，用于对不同能量散射γ光子进行反向散射。本发明能提高参考γ辐射场准直器的降低散射γ光子能力，提高辐射场的均匀性和准确度。 | ||||||
| 145 | 放射线图像变换面板 | CN201380045508.7 | 2013-08-01 | CN104584138A | 2015-04-29 | 樱井纯; 铃木克彦; 清水一伸; 上村刚士 |
| 放射线图像变换面板具备：支撑体；辉尽性荧光体层，其设置在支撑体的表面上，由多个柱状结晶构成；以及第1激励光吸收层，其设置在辉尽性荧光体层上，多个柱状结晶各自具有在支撑体侧螺旋状地层叠而成的螺旋构造部、以及从螺旋构造部向第1激励光吸收层延伸而成的柱状部，辉尽性荧光体层蓄积入射的放射线，经由第1激励光吸收层照射有激励光，由此将与蓄积的放射线对应的光经由第1激励光吸收层射出。 | ||||||
| 146 | 叠层型X线滤波栅、其制造装置及制法 | CN201510062246.6 | 2015-02-05 | CN104575657A | 2015-04-29 | 胜见雪人; 町井芳文; 长谷川惠一; 长谷川博恒; 吉原丰; 吉田政人; 佐藤秀信 |
| 本发明提供具有形态保持性、刚性、耐久性的叠层型X线滤波栅。本发明涉及的叠层型X线滤波栅(14)的特征在于，以在具有X线透射性的片材(2)的上面形成包含X线吸收剂涂装层(4)和空隙层(5)的规定图形的印刷层(3)的已印刷片材(1)作为单位层，由将多片的所述已印刷片材(1)以片材(2)和印刷层(3)在叠层方向上交替配置的方式叠层了的已印刷片材叠层体(13)构成，通过夹着片材(2)并上下对向叠层的多个X线吸收剂涂装层(4)形成X线吸收部(10)，通过夹着片材(2)并上下对向叠层的多个空隙层(5)形成X线透射部(12)。进而，也可以在最上面配置具有X线透射性的上侧板(20)，在最下面配置具有X线透射性的下侧板(18)。 | ||||||
| 147 | 一种多倾斜角复合多层膜劳厄透镜及其设计方法 | CN201510021478.7 | 2015-01-15 | CN104575656A | 2015-04-29 | 周亮; 岳帅鹏; 常广才; 李明; 刘鹏 |
| 本发明公开了一种多倾斜角复合多层膜劳厄透镜。本发明的透镜包括m个沿垂直于入射光方向排列的倾斜型多层膜劳厄透镜；其中，每一所述倾斜型多层膜劳厄透镜内的所有膜层与入射光具有相同的夹角；该多倾斜角复合多层膜劳厄透镜能够实现衍射极限聚焦；m大于2；靠近中心区域的倾斜型多层膜劳厄透镜的膜层厚度较大，其膜层与入射光具有较小的夹角；靠近外层区域的倾斜型多层膜劳厄透镜的膜层厚度较小，其膜层与入射光具有较大的夹角。该具有与Wedge MLL相接近的聚焦性能，且易于加工实现。 | ||||||
| 148 | 电子束聚焦电极以及使用该电极的电子枪 | CN200910007066.2 | 2009-02-09 | CN101587812B | 2015-04-29 | 白瓒郁; 斯利瓦斯塔瓦·阿努里格; 金钟玟; 金善一; 孙永睦; 朴健植; 苏镇奎 |
| 本发明公开了一种电子束聚焦电极以及利用该电极的电子枪，所述电子束聚焦电极包括：板，所述板具有多边形通孔；形成在所述通孔的至少一条边上的至少一个突出部分。通过利用这种电子束聚焦电极，可以减小矩形横截面的电子束的发散现象。此外，可以提高电子枪的输出，并容易聚焦电子束。 | ||||||
| 149 | 一种热中子闪烁屏的制备方法 | CN201410743533.9 | 2014-12-08 | CN104538078A | 2015-04-22 | 刘阳; 郭庐阵; 刘哲; 骆志平 |
| 本发明涉及一种中子辐射测量材料的制备方法。为解决现有热中子闪烁屏的探测效率较低，部分热中子闪烁屏原料昂贵且难以获取等问题，本发明提供了一种热中子闪烁屏的制备方法。该法包括以下步骤：(一)以ZnS(X)粉末和H310BO3粉末混合球磨制得预制粉料；(二)以带有凹槽的铝板作为基板；(三)将预制粉料熔融并煅烧得到熔融料液，将熔融料液倒入铝板凹槽内，自然冷却至室温，得到热中子闪烁屏。本发明的热中子闪烁屏的制备方法在采用成本较低的H310BO3为原料的情况下，通过改变工艺路线获得了探测效率更高、综合物理性能更好的热中子闪烁屏，其中子位置灵敏探测效率提高了约10％，避免了使用6LiF作为热中子闪烁屏制备原料所带来的高成本问题。 | ||||||
| 150 | 时间选通阴极发光图像的去卷积 | CN201180045250.1 | 2011-09-16 | CN103261879B | 2015-04-22 | 珍·伯尼 |
| 一种产生阴极发光图像的方法，其包括以下步骤：产生强度可调节的带电粒子束；在样品上聚焦所述带电粒子束；瞬时选通由所述样品发出的阴极发光，从而提供时间选通阴极发光；针对样品上不同带电粒子束位置测量时间选通阴极发光用以产生阴极发光图像，对阴极发光图像去卷积，以改进所述阴极发光图像的分辨率。本发明还提供了实施该方法的装置。 | ||||||
| 151 | 波前测量装置和波前测量方法 | CN201210269373.X | 2012-07-31 | CN102914374B | 2015-04-22 | 近藤刚史 |
| 本发明公开了波前测量装置和波前测量方法。一种波前测量装置，包括：由光形成周期模式的光学元件，具有用于检测光的像素的检测器，以及基于检测器的检测结果来计算透过样本或被样本反射的光的波前中的多个位置处的波前信息的计算机。检测器检测由光形成的第一周期模式以及由光形成的并且在相位上从第一周期模式进行了偏移的第二周期模式。计算机通过使用在检测到第一周期模式时在像素中的第一像素中检测到的结果、在检测到第一周期模式时在像素中的第二像素中检测到的结果以及在检测到第二周期模式时在第一像素中检测到的结果来计算多个位置中的一个位置处的波前信息，其中，第二像素位于离第一像素在三个像素以内的位置处。 | ||||||
| 152 | 粒子束流照射装置及粒子束流照射装置的控制方法 | CN201180018393.3 | 2011-02-07 | CN102883777B | 2015-04-22 | 塙胜词; 井关康; 角谷畅一; 古川卓司; 稻庭拓; 佐藤真二; 野田耕司 |
| 本发明提供了一种能够对每一粒子束流的剂量进行高可靠性测量并且能够对由瞬间粒子束流发射导致的泄露剂量进行高灵敏度测量的粒子束流照射装置。根据本发明的粒子束流照射装置包括：发射控制部分，其控制粒子束流的发射和终止；控制部分，其顺次改变相对于患区的粒子束流的照射位置；第一和第二放射量测定器，其测量被引导到患区的粒子束流的放射剂量率；以及异常确定部分，其累积在每一预定的确定时间段内从第一和第二放射量测定器输出的放射剂量率，以计算第一和第二部分剂量测量值，并且执行第二异常确定，所述第二异常确定在以下的至少一种情况下确定存在异常并且输出用于终止粒子束流的发射的互锁信号：第一部分剂量测量值超出预定的第一参考范围的情况，以及第二部分剂量测量值超出预定的第二参考范围的情况。 | ||||||
| 153 | 电磁波发生器和使用充电粒子的振荡的比特产生器 | CN201380037362.1 | 2013-03-08 | CN104488145A | 2015-04-01 | 赵胜来 |
| 一种电磁波发生器，包括：彼此相对且彼此分隔开的第一电极和第二电极；可充电粒子，被布置在第一电极和第二电极之间；电压源，在第一电极和第二电极之间施加电压；以及天线，电连接到第一电极和第二电极中的一个，并且由于基于所施加的电压的感应电流振荡而辐射电磁波。 | ||||||
| 154 | EUV投射曝光设备的反射镜布置及其操作方法，及EUV投射曝光设备 | CN201380039384.1 | 2013-07-16 | CN104487899A | 2015-04-01 | B.比特纳; N.韦伯拉; S.施奈德; R.施奈德; H.瓦格纳; R.伊利夫; W.保尔斯 |
| 一种微光刻的EUV投射曝光设备的反射镜布置，包含多个反射镜，所述多个反射镜各具有在EUV光谱范围中为反射的层(32)及具有主体(34)，可对所述层施加EUV辐射。在此情况下，该多个反射镜的至少一个反射镜(32)具有包含具有负热膨胀系数的材料的至少一个层(36)。此外，还描述了一种操作反射镜布置及投射曝光设备的方法。布置至少一个热源，以便以有目标的方式局部施加热至该至少一个反射镜的具有负热膨胀系数的该至少一个层。 | ||||||
| 155 | 粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置 | CN201080060087.1 | 2010-03-31 | CN102686276B | 2015-04-01 | 岩田高明 |
| 本发明的目的在于获得消除扫描电磁铁的磁滞影响、且在光栅扫描、混合扫描中实现高精度射束照射的粒子射线照射装置。包括：扫描电源(4)，该扫描电源(4)输出扫描电磁铁(3)的励磁电流；以及照射控制装置(5)，该照射控制装置(5)控制扫描电源(4)，照射控制装置(5)包括扫描电磁铁指令值学习生成器(37)，该扫描电磁铁指令值学习生成器(37)对预扫描的结果进行评价，在评价的结果不满足规定的条件的情况下，更新励磁电流的指令值(Ik)，来执行预扫描，将评价的结果满足规定的条件的励磁电流的指令值(Ik)输出到扫描电源(4)，该预扫描是基于由扫描电源(4)输出的励磁电流的指令值(Ik)的、一系列的照射动作。 | ||||||
| 156 | 射线过滤装置和双能X射线检查系统 | CN201410838393.3 | 2014-12-30 | CN104464871A | 2015-03-25 | 康克军; 陈玉梅; 刘耀红; 阎忻水; 印炜; 管伟强 |
| 本发明提供一种射线过滤装置。所述射线过滤装置设置在X射线源前，并且所述射线过滤装置能够在允许高能量X射线和低能量X射线通过的第一状态和只允许高能量X射线通过的第二状态之间切换。本发明还提供一种双能X射线检测系统，包括：双能X射线源和射线过滤装置。本发明的射线过滤装置体积小，结构简单，易于应用双能X射线检测系统，不会引起检测系统的结构改变。 | ||||||
| 157 | 折叠光路激光冷却原子装置 | CN201410578787.X | 2014-10-24 | CN104464869A | 2015-03-25 | 屈求智; 叶美凤; 赵剑波; 汪斌; 吕德胜; 刘亮 |
| 一种折叠光路激光冷却原子装置，主要由真空十四面体、冷却光源组件、反射镜组件、中转镜组件以及反亥姆赫兹磁场线圈构成，本发明集激光扩束准直系统、折叠光路、偏振变换系统、反亥姆赫兹磁场线圈和光功率实时监测于一体，将传统激光冷却磁光阱所需的六路激光减少为两路激光，最大程度的缩小光机系统的体积和重量，简化空间拓扑结构，光机系统力学性能和热环境适应性能极好，可适用于航天级别的严酷环境。本发明样品已经通过了航天级力学振动试验、力学冲击试验、热循环试验和热真空试验等环模考验，能保持长期稳定工作，可作为激光冷原子应用工程的核心光机装置。 | ||||||
| 158 | 紫外激光灭菌系统 | CN201410185936.6 | 2014-05-05 | CN104368020A | 2015-02-25 | 崔祥辰; 庄颂彦; 林幸莹; 黄贞翰; 廖华贤 |
| 本发明提供了一种紫外激光灭菌系统,主要包括有一紫外激光模组,以及一扫描模组,以制成一灭菌扫描仪；该紫外激光模组发出一紫外激光,其中该紫外激光的波长介于200纳米～280纳米之间；扫描模组包括多个接收该紫外激光的反射镜,以及一控制各反射镜转动以调整该紫外激光出射角的控制器,以进行目标物上的灭菌动作；由此,结合激光的准直性优点以及UV-C的杀菌消毒效果,以有效、简单的方式达到节省人力与时间的成本,并且快速而无死角的全面性辐射杀菌与消毒的效果。 | ||||||
| 159 | 格栅和制造用于选择性透射电磁辐射特别是X-射线辐射的格栅的方法 | CN200980130034.X | 2009-08-06 | CN102113060B | 2015-02-25 | G·福格特米尔; R·多沙伊德 |
| 提出了一种用于选择性透射电磁辐射的格栅(1)和制造该格栅的方法。其中，所述格栅(1)包括具有壁(3)的结构元件，所述结构元件包括辐射吸收材料的多个颗粒(19)，其中，所述颗粒(19)烧结在一起，使得在相邻颗粒(19)之间存在孔隙(21)。所述孔隙(21)至少部分填充有第二固态材料。孔隙(21)的填充能够通过将第二材料引入孔隙中中实现，第二材料为液态的，优选地为熔融形式。第二材料本身也能够是辐射吸收的，且可以有助于提高格栅的机械稳定性并增强辐射吸收性质。 | ||||||
| 160 | 放射线治疗装置 | CN201010263943.5 | 2010-08-25 | CN101991919B | 2015-02-25 | 桥本照雄 |
| 本发明公开了一种放射线治疗装置，所述放射线治疗装置具备屏蔽来自放射线源的放射线的放射线光圈装置，将从上述放射线源放射的放射线的照射区域限制在治疗对象部，其特征在于，上述放射线光圈装置具备：由在圆弧状的轨道面具有齿形的多个薄片体形成的一对光圈块体、与上述多个薄片体的各轨道面齿形啮合，独立驱动上述各薄片的多个驱动齿轮、与上述多个驱动齿轮结合，为了上述各薄片体总是向关闭方向移动而向上述驱动齿轮施加力的多个恒载荷重弹簧、与上述多个薄片体的各薄片体结合的多个金属线、抵抗上述多个恒载荷重弹簧产生的力，为了上述各薄片体向打开方向移动而独立卷绕上述多个金属线的多个卷绕装置。 | ||||||
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