| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 1 | 紫外光照射装置 | CN201610161502.1 | 2016-03-21 | CN106169316A | 2016-11-30 | 长尾宣明; 头川武央; 佐佐木良树 |
| 本发明提供一种能够高效地对流体照射紫外光的紫外光照射装置。其为对流体照射紫外光(12)的紫外光照射装置(30)，其具备深紫外光发光元件(31)、紫外光滤波器(32)以及旋流结构体(33)。深紫外光发光元件(31)为向上方发出深紫外光的元件，其具有接受在放电空间(10)内产生的激发光而发出紫外光的发光层(4)。紫外光滤波器(32)吸收或反射波长为200nm以下的光的80％以上。旋流结构体(33)具有使从外部流入的流体旋转的筒状结构体(14)和按照使在筒状结构体(14)旋转的流体流出到外部的方式导向的锥状结构体(13)。 | ||||||
| 2 | 中子捕捉疗法装置 | CN201610118023.1 | 2016-03-02 | CN105938731A | 2016-09-14 | 酒井文雄; 田中浩基 |
| 本发明提供一种中子捕捉疗法装置，其能够实现硼中子捕捉疗法的可靠性的提高。本发明的中子捕捉疗法装置(1)对被照射体(M)照射中子束(N)，使被照射体(M)内的硼和中子进行反应，所述中子捕捉疗法装置(1)为如下结构，具备：中子束照射部(4)，对被照射体(M)照射中子束(N)；及硼浓度测定部(32)，由中子束照射部(4)照射中子束(N)时实时测定被照射体(M)内的硼的浓度。 | ||||||
| 3 | 用于产生紫外光的灯系统和方法 | CN201180035026.4 | 2011-07-15 | CN103038572B | 2016-09-14 | 詹姆斯·M·博苏克; 格雷格·哈内尔; 爱德华·C·麦吉; 詹姆斯·史密斯 |
| 用于产生紫外光的装置以及操作紫外光源的方法。所述装置可包括：围绕内部空间的微波腔室(16)；具有联接到微波腔室(16)的灯头(28)的光源(10)；紫外线(UV)透射构件(88)，该紫外线(UV)透射构件(88)被定位在灯面(32)上方并且在内部空间下方以在其间限定充气部(116)；以及与充气部以流体连通方式联接的排气系统(100)。灯头(28)具有灯面(32)，紫外光(34)和冷却空气(30)可以通过该灯面发出。该UV透射构件(88)被构造成使紫外光(34)透射到内部空间中并且将冷却空气(30)从该内部空间转向。所述排气系统(100)被构造成从充气部(116)排出冷却空气(30)。 | ||||||
| 4 | 放射线治疗计划装置 | CN201310345445.9 | 2013-08-09 | CN103656877B | 2016-08-17 | 平山嵩佑; 藤本林太郎; 长峰嘉彦 |
| 本发明提供一种放射线治疗计划装置，根据操作者设定的关于照射方向、处方剂量等的条件，缩短通过反复计算来计算最佳的照射条件时的计算时间。根据照射到点的射束的轴与计算点之间的距离，将从照射到照射位置的射束向计算点的关于放射剂量的贡献，即放射剂量阵列A、B分割为照射至各点的射束向相距射束轴的距离为L以下的目标区域内的计算点的放射剂量阵列AM、BM，和向相距射束轴的距离比L大的目标区域内的计算点的放射剂量阵列AS、BS，同时在进行反复计算时，将包含放射剂量阵列AS、BS的看作常数。此外，在满足更新条件的情况下，使用在该时刻计算出的点照射量和放射剂量阵列A、B的值，对目标函数进行再计算并进行更新。 | ||||||
| 5 | 具有增强的IR发射的井下源 | CN201080065565.8 | 2010-06-16 | CN102884604B | 2016-06-29 | M·T·佩勒莱特; C·M·琼斯; M·L·毛瑞斯 |
| 提供具有增强的低频（例如，近红外）发射的光源。一些公开的实施例包括灯丝和至少一个再辐射器元件。灯丝将再辐射器元件加热到稳态温度，该稳态温度是灯丝绝对温度的至少四分之一。如在此公开的，由再辐射器元件提供的增加的表面积提供了来自光源的增强的IR辐射。表面的图案化或纹理化可以进一步增加再辐射器元件的表面积。阐释诸如盘、环、管等的各种形状并可以将其组合以便定制光源的谱发射分布。一些具体的实施例将灯泡上的涂层作为再辐射器元件。涂层可以被设置成遮挡来自灯丝的光或增强来自灯丝的光，这取决于具体的应用。各种再辐射器元件可设置在灯泡内或在灯泡外。 | ||||||
| 6 | 控制离子植入均匀度的装置与技术 | CN201480032406.6 | 2014-05-02 | CN105264634A | 2016-01-20 | 斯坦尼斯拉夫·S·托多罗夫; 乔治·M·葛梅尔; 理查·艾伦·斯普林克; 诺曼·E·赫西; 法兰克·辛克莱; 常胜武; 约瑟·C·欧尔森; 大卫·罗杰·汀布莱克; 库尔·T·岱可-路克 |
| 一种控制离子植入机中的离子束的系统，包括检测器以沿着垂直于离子束的传播方向的第一方向，进行所述离子束的多个束电流量测。所述系统也包括分析组件与调整组件。所述分析组件用以基于所述多个束电流量测来判定束电流轮廓，所述束电流轮廓包括沿着所述第一方向的束电流的变化。当束电流轮廓指示束高度低于阀时，所述调整组件沿着所述第一方向调整所述离子束的高度。 | ||||||
| 7 | 一种辐照室影像采集装置 | CN201510545339.4 | 2015-08-31 | CN105206317A | 2015-12-30 | 朱焕铮; 许森飞; 陈建博; 倪振天 |
| 本发明提供的一种辐照室影像采集装置，包括安装在辐照室内的电子加速器和束下传输装置，所述辐照室一侧的辐照墙外安装有影像采集装置，所述影像采集装置包括至少两个L型反射弯管，且相邻两个L型反射弯管之间通过连接管相连接，所述每个L型反射弯管的折弯处均设置有反射镜，其中最上方L型反射弯管的前端开口正对辐照室，最下方L型反射弯管的后端开口处设置摄像装置。通过图像的多次反射，采集图像信息，在射线经过多次反射，衰减射线的强度，避免射线对摄像设备造成损坏。 | ||||||
| 8 | 极紫外光源的靶材料供应装置 | CN201380053831.9 | 2013-09-25 | CN104885161A | 2015-09-02 | S·德地亚; G·O·瓦斯恩冦; P·M·包姆加特; N·R·鲍尔林 |
| 一种用于极紫外(EUV)光源的靶材料供应装置，包括管，该管包括第一端、第二端、以及限定在第一端和第二端之间的侧壁。管的外表面的至少一部分包括电绝缘材料，第一端接收增压的靶材料，且第二端限定一孔口，增压的靶材料通过该孔口流过以产生靶材料液滴流。所述靶材料供应装置还包括位于管的外表面上的导电涂层。该涂层被配置为将管的外表面电连接至地从而减少外表面上的表面电荷。 | ||||||
| 9 | 粒子束位置监视装置及粒子射线治疗装置 | CN201280002289.X | 2012-01-20 | CN103339529B | 2015-08-12 | 本田泰三; 原田久; 蒲越虎; 池田昌广; 花川和之; 大谷利宏; 片寄雅; 山田由希子 |
| 本发明的粒子束位置监视装置的目的在于即使是在受到伴随带电粒子束的照射而产生的放射线的影响的情况下，也能缩短带电粒子束的照射位置的取得间隔。粒子束位置监视装置(30)具备：多个位置监视器(4)；以及粒子束数据处理装置(11)，该粒子束数据处理装置(11)基于从多个位置监视器(4)输出的多个信号对带电粒子束(1)的状态进行运算处理，粒子束数据处理装置(11)具有：多个信道数据转换部(21)，该多个信道数据转换部(21)对于从位置监视器(4)输出的多个信号执行AD转换处理；对应于每个位置监视器(4)的位置尺寸处理部(23)，该位置尺寸处理部(23)基于进行了AD转换处理后的电压信息对粒子束(1)的粒子束位置进行计算；以及综合控制部(40)，该综合控制部(40)在粒子束(1)对照射对象(15)进行照射的期间对多个信道数据转换部(21)进行控制，使得对与多个信号对应的每个位置监视器(4)在错开的定时执行AD转换处理。 | ||||||
| 10 | 包括通过投影光学装置的光操纵的依赖图案的邻近匹配/调节 | CN201110353442.0 | 2011-11-09 | CN102566299B | 2015-01-21 | 冯函英; 曹宇; 叶军 |
| 本发明公开了包括通过投影光学装置的光操纵的依赖图案的邻近匹配/调节。此处描述的是匹配光刻投影设备与参考光刻投影设备的特性的方法，其中所述匹配包括优化投影光学装置特性。投影光学装置可以用于对光刻投影设备中的波前成形。根据此处的实施例，所述方法可以通过利用使用传递交叉系数的偏导数的泰勒级数展开或线性拟合算法加快所述方法。 | ||||||
| 11 | 调节粘着性的方法 | CN201280045063.8 | 2012-09-12 | CN103814093A | 2014-05-21 | 罗宾·E·赖特; 内德林·B·约翰逊; 哈尔·A·拉弗勒三世 |
| 本发明公开了调节带有粘合剂的基底的粘着性的方法。所述方法包括通过使粘合剂层经受来自辐射源的辐射输出来调节所述粘合剂层的粘着性。所述辐射输出的至少一部分具有小于200纳米的波长。 | ||||||
| 12 | 容器灭菌测量装置及测量方法 | CN201310297936.0 | 2013-07-16 | CN103536947A | 2014-01-29 | 约恩·克鲁格; 埃伯哈德·福尔; 汉斯·朔伊伦 |
| 一种容器（10）灭菌设备，具有电荷载体产生装置（2）和加速装置（4）以及出射窗（12）。所述电荷载体产生装置（2）用于产生电荷载体，所述加速装置（4）用于沿着预设方向（Z）在壳体（6）内加速电荷载体，所述电荷载体通过所述出射窗（12）从所述壳体（6）中射出。该设备还包括传感器单元（20）以用于捕捉表征从出射窗（12）射出的电荷载体的至少一个测量值。根据本发明，所述传感器单元（20）具有第一传感器装置（22）和第二传感器装置（24）。所述第一传感器装置（22）与所述出射窗（12）相对设置，从而检测沿第一预设方向（Z）从所述出射窗（12）流向所述第一传感器装置（22）的电荷载体；所述第二传感器装置（24）与所述出射窗（12）相对设置，从而检测沿第二预设方向（X）从所述出射窗（12）流向所述第二传感器装置（24）的电荷载体。每个传感器装置（22,24）相对独立地检测表征从出射窗（12）射出的电荷载体的测量值（M1,M2）。 | ||||||
| 13 | 测试元件的不合格标记的标记方法 | CN200810149720.9 | 2008-09-19 | CN101430328B | 2013-06-12 | J·K·罗帕; W·芬克; M·弗兰克; G·施米特; S·迪克; P·斯图本博德 |
| 测试元件的不合格标记的标记方法。该测试元件(112，114，116；246，254)适于检测样品(220)中的至少一种待分析物。对至少一些测试元件(112，114，116；246，254)提供包含有关测试元件(112，114，116；246，254)之缺陷信息的缺陷标记。该测试元件(112，114，116；246，254)具有至少一种辐射敏感材料(202)。使该测试元件(112，114，116；246，254)暴露于至少一种辐射(156)，该辐射(156)适于在辐射敏感材料(202)中引发形式为至少一种光学可检测的变化的标记。 | ||||||
| 14 | 粒子射线照射装置及具备该装置的粒子射线治疗装置 | CN201180023612.7 | 2011-06-22 | CN102905761A | 2013-01-30 | 蒲越虎; 原田久; 本田泰三 |
| 本发明的目的在于提供一种能以简单的结构来检查扫描机构等的动作、从而可靠性更高的粒子射线照射装置。包括：对扫描出的粒子束(4)的一部分进行屏蔽的粒子束屏蔽体(6)；对扫描出的粒子束(4)与该粒子束屏蔽体(6)发生碰撞时所产生的即时信号进行检测的即时信号检测器(11)；以及信号比较装置(12)，该信号比较装置(12)预测并求出由预先决定的扫描图案所产生的即时信号的产生图案，并将其作为比较用信号时间图案来进行存放，该信号比较装置(12)将检测信号时间图案与所存放的比较用信号时间图案进行比较，以对粒子束的扫描或粒子束屏蔽体(6)的异常进行检测，其中，所述检测信号时间图案是根据预先决定的扫描图案来将粒子束进行扫描并对目标照射粒子束时由即时信号检测器(11)所检测出的信号的时间图案。 | ||||||
| 15 | 产生用于生物学、放射化学、聚合物化学以及放射治疗物理学的低能量二次电子的方法 | CN201180013544.6 | 2011-03-11 | CN102791371A | 2012-11-21 | D.霍德; R.梅萨特; J-F.阿拉德; T.布拉斯塔维希努 |
| 本公开文本涉及在生物材料中产生低能量电子的方法和系统。该生物材料被支撑物支撑在一定位置中。利用聚焦机构将激光束脉冲指向生物材料中的目标区域。由此在目标区域中产生低能量电子丝。该方法和系统可以用于放射治疗、放射化学、灭菌、纳米颗粒包覆、纳米颗粒产生等用途。 | ||||||
| 16 | 从外源进行内部能量活化的等离子体激元辅助系统和方法 | CN200980116914.1 | 2009-03-11 | CN102026719A | 2011-04-20 | 小弗雷德里克·A·博尔克; 图安·沃-丁 |
| 一种在置于人工容器中的介质中产生改变的方法和系统。所述方法在介质附近放置等离子体激元试剂和能量调节剂中的至少之一。所述方法施加引发能量穿过所述人工容器至介质。所述引发能量与所述等离子体激元试剂或所述能量调节剂相互作用，以直接或间接地在所述介质中产生变化。所述系统包括引发能量源，其设置为对介质施加引发能量以活化等离子体激元试剂或能量调节剂。 | ||||||
| 17 | 一种高低能X射线输出装置 | CN200510135933.2 | 2005-12-31 | CN1997256B | 2010-08-25 | 唐传祥; 陈怀璧; 刘以农; 程建平; 刘耀红; 李任凯 |
| 本发明涉及X射线源装置，具体涉及高能X射和低能X射线的输出装置。本发明公开的一种高低能X射线输出装置，包括：控制系统，用于控制电子枪电源、微波功率源，通过电子枪和加速装置产生电子束；或控制实现不同的高低能电子束产生的时序；电子枪电源，向电子枪提供电能；微波功率源，用于加速电子直线加速管产生的电子束的速度；电子直线加速管，分别与电子枪电源和微波功率源连接，用于产生高能电子束；高压电子枪电源，向高压电子枪提供电能；高压电子枪，与高压电子枪电源连接，用于产生低能电子束；辐射靶，用于接受电子束产生X射线。本发明应用于放射治疗及医学成像中，或应用于无损检测中。 | ||||||
| 18 | 测试元件的不合格标记的标记方法 | CN200810149720.9 | 2008-09-19 | CN101430328A | 2009-05-13 | J·K·罗帕; W·芬克; M·弗兰克; G·施米特; S·迪克; P·斯图本博德 |
| 测试元件的不合格标记的标记方法。该测试元件(112，114，116；246，254)适于检测样品(220)中的至少一种待分析物。对至少一些测试元件(112，114，116；246，254)提供包含有关测试元件(112，114，116；246，254)之缺陷信息的缺陷标记。该测试元件(112，114，116；246，254)具有至少一种辐射敏感材料(202)。使该测试元件(112，114，116；246，254)暴露于至少一种辐射(156)，该辐射(156)适于在辐射敏感材料(202)中引发形式为至少一种光学可检测的变化的标记。 | ||||||
| 19 | 未滤波的放射治疗 | CN200780006088.6 | 2007-02-20 | CN101421006A | 2009-04-29 | E·I·帕塞; J·J·费尔德迈尔 |
| 这是使用不具有平坦滤波器的直线加速器在IMRT和3D适形γ辐射剂量输送中的一种新技术。该技术通过减少分散到周围的正常组织的辐射和减少电子污染提高了病人的放射治疗。其增加了剂量率以缩短治疗时间。几十年来，直线加速器与光子平坦滤波器一起使得剂量分布更加均匀，其中光子平坦滤波器用于产生平面注量的光子分布。然而，这些滤波器都导致注量衰减和光束污染。现在，在如强度调制放射治疗(IMRT)的技术时期，平坦滤波器的功能变得多余。现在平坦滤波器由于减少了注量并增加了散射而仅仅降低了光束的效率。我们的技术涉及用于复杂治疗的平坦滤波器的移除。其利用逆向计划与多叶准直器形成剂量分布。 | ||||||
| 20 | 差异光化学和光力学加工 | CN02813508.3 | 2002-05-03 | CN1524272A | 2004-08-25 | B·皮尔斯 |
| 本发明涉及一种将物质选择性暴露于特定波长的电磁能中以引起或促进所需作用的方法，其中每波长电磁能具有足够的通量密度。该方法包括，但不限于破坏、消毒、变性、杀虫、损伤或脱水一或多种物质，更具体地，本发明涉及将物质，其中可以含有物质的混合物，经受电磁能，同时其光谱特性表现出物质内或物质混合物内的光谱差异，施加能量以引起由吸收差异导致的波长依赖性反应。这种附加的外加能量表现在分子的振动、旋转、磁和电状态变化或量子跃迁，通常该方法采用的波长范围大约是1光秒到10电子伏，或者能级低于离子化能级的波长。 | ||||||
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