子分类：
- G21K1/00： 粒子或电离辐射的处理装置,如聚焦或慢化(中子、带电粒子、中性分子束或中性原子束的产生或加速入H05H 3/00至H05H 15/00)
- G21K2201/00： 处理辐射或粒子的装置
- G21K2207/00： 具体的成像设备或方法,利用电离电磁辐射,如X射线或γ射线
- G21K4/00： 用于将粒子或电离辐射的空间分布转换成可见图像的转换屏幕,如荧光屏(使用X射线增强的摄影过程入G03C5/17 ; 包含发光屏幕的放电管入H01J1/62 ; 用于X射线转换并有光输出的 阴极射线管 入H01J31/50)
- G21K5/00： 照射装置(照射用的放电管入H01J37/00)
- G21K7/00： γ射线或X射线显微镜
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 321 | 具有低热膨胀的玻璃陶瓷 | CN200510052574.4 | 2005-02-21 | CN1657462B | 2011-04-13 | I·米特拉; J·阿尔坎珀 |
| 本发明涉及具有很低或很小的平均热膨胀以及良好抛光性和加工性的新型玻璃陶瓷，涉及根据本发明的玻璃陶瓷的应用和涉及由该玻璃陶瓷制造的光学组件。特别是，提供了含有下列组分的(基于氧化物的重量％)玻璃陶瓷：SiO2Al2O3P2O550-7017-323-12Li2ONa2OK2O2.5-50-20-2MgOCaOBaOSrO0-20.1-40-＜10-2ZnOTiO2ZrO20-41.5-50-2.5。 | ||||||
| 322 | 冷原子干涉测量传感器 | CN200980113274.9 | 2009-03-11 | CN102007371A | 2011-04-06 | 菲利普·博耶; 阿诺德·兰德拉金 |
| 本发明涉及一种冷原子干涉测量传感器(1，1a，1b)，所述冷原子干涉测量传感器包括：原子源(11)；能够产生第一拉曼双频激光束(4，4a，4b)的双频激光器(2)；设置为反射所述第一拉曼双频激光束以生成第二拉曼双频激光束(12)的反射器(7，13)，所述第一激光束和第二激光束沿不同方向传播，以由从所述原子源获得的冷原子发射获得原子干涉条纹；其特征在于，所述反射器(7，13)被进一步设置为使第一光束(4)能够在所述反射器表面(7a，7b，7c，7d，14)多重反射，使得所述第一光束和其多重反射束可以捕获由所述原子源发出的原子，从而获得冷原子。 | ||||||
| 323 | X射线微分干涉相衬成像系统 | CN200810216469.3 | 2008-10-10 | CN101413905B | 2011-03-16 | 牛憨笨; 郭金川; 刘鑫 |
| 本发明涉及一种X射线微分干涉相衬成像系统。适用于医学和无损探伤等领域。系统组成中按照X射线传播方向包括X射线管、滤波器、样品台、相位光栅及X射线探测器，系统中还包括微机和配套的系统管理软件，关键在于：①系统中采用的X射线管中具有呈平行线状分布的、相干高能X射线发射体，发射角为30—50度。②所采用的X射线探测器具有分析光栅和探测器的双重功能，基本组成中包括平行线阵列式X射线转换屏、中继光学系统和面阵探测器或包括平行线阵列式光电导X射线探测器，X射线转换屏或光电导X射线探测器其结构组成和尺寸与上述X射线管中呈平行线状分布的、相干高能X光源及相位光栅对应配套。 | ||||||
| 324 | 离子注入装置、离子注入方法及程序 | CN200980112060.X | 2009-03-24 | CN101983413A | 2011-03-02 | 辻康之 |
| 此离子注入装置，是为了对离子束的电流密度分布作调整，而具备有：透镜要素，是沿着带状离子束的束宽幅方向来排列若干个单位透镜要素，并对于各单位透镜要素所作出的磁场或电场作调整；和控制部，是按照计测出的电流密度分布，而对在透镜要素中所调整的单位透镜要素所作出的磁场或电场的强度作设定。从透镜要素的若干个单位透镜要素中，将对应于所欲作调整的位置的单位透镜要素所作出的磁场或电场的调整强度，由计测出的电流密度分布来求取出来，同时，对于邻接于前述单位透镜要素的单位透镜要素所作出的磁场或电场，而将所求取出的调整强度乘以一定的比例所得到的值，作为磁场或电场的调整强度而求取出来。 | ||||||
| 325 | 微细结构体检查方法、微细结构体检查装置和微细结构体检查程序 | CN200980109275.6 | 2009-03-19 | CN101978241A | 2011-02-16 | 米仓勋; 波木井秀充 |
| 一种微细结构体检查方法，用于检查样品微细结构图案的侧壁角度，其特征在于，具有：在多个SEM条件下拍摄所述样品微细结构图案的SEM照片的工序；测定所述SEM照片中的所述样品微细结构图案的边缘部位的白色带宽度的工序；基于所述白色带宽度随着所述多个SEM条件间的变化产生的变化量，计算出所述样品微细结构图案的侧壁角度的工序。 | ||||||
| 326 | 制造二维准直器元件的方法以及二维准直器元件 | CN201010235369.2 | 2010-07-22 | CN101964217A | 2011-02-02 | 马里奥·艾肯希尔; 迈克尔·梅斯; 丹尼尔·尼德洛纳; 斯蒂芬·沃思 |
| 本发明涉及一种制造用于辐射探测器(2)的2D准直器元件(1)的方法，在该方法中借助快速制造技术逐层地由吸收射线的材料形成交叉的隔片(3，4)，后者沿着方向和z方向对齐并且形成具有至少在2D准直器元件(1)的内部区域中侧面地包围的辐射通道(5)的网格形结构。本发明还涉及一种具有这样的层结构的、用于辐射探测器(2)的二维准直器元件(1)。以这种方式可以在相同高的准直效果的情况下提供一种具有高的精度和强度的准直器装置(8)。 | ||||||
| 327 | 用于放射疗法波束形态的可编程粒子扩散器 | CN200580024563.3 | 2005-07-21 | CN1988933B | 2011-01-19 | 阿兰·斯利斯基; 肯尼斯·加尔 |
| 将可编程路径长度的一个或多个物质插入粒子束以预先确定的方式调整分散角度和波束范围，以便在预先确定的范围内产生预先确定的Bragg顶点分布。物质可以是包括流体的“低Z”和“高Z”物质。带电粒子束扩散器/范围调整器可以包括在粒子束路径中具有相对壁的储液室和驱动器，该驱动器用以在可编程控制器的控制下调整储液室相对壁之间的距离。串行排列的“高Z”以及，独立地，“低Z”储液室可以被使用。当用于放射治疗时，可以通过测量波束强度监控波束，并且可编程控制器可以根据与总剂量预先确定的关系调整“高Z”储液室的相对壁之间的距离以及，独立地，“低Z”储液室的相对壁之间的距离。在治疗期间，波束扩散和调整可以是持续进行的，用以以预先确定的三维分配形式在目标体积中沉积剂量。 | ||||||
| 328 | 用于EUV辐射的光栅、用于制造该光栅的方法和波前测量系统 | CN200880121899.5 | 2008-12-19 | CN101903808A | 2010-12-01 | B·克鲁兹卡; M·G·D·维瑞恩斯; M·D·奈格克; K·F·费尼斯达 |
| 一种用于EUV辐射的光栅，所述光栅包括：多个反射线。每一反射线包括彼此相间布置的多个第一反射点和多个第二反射点。所述第一反射点和所述第二反射点被配置成以满足除以360度余180±10度条件的相互相位差来反射EUV辐射。 | ||||||
| 329 | 粒子射线治疗装置 | CN201010178098.1 | 2010-05-11 | CN101898011A | 2010-12-01 | 蒲越虎 |
| 本发明提供一种粒子射线治疗装置，即使在所需的束能量变更次数较多的情况下，也无需增大偏转电磁铁，而可以高速地变更束能量。其设置有多个具备束能量衰减部的束能量变更部，以使束依次通过多个束能量变更部的方式，使束偏转。在束通过一个束能量变更部的期间，变更其他束能量变更部的束能量衰减量。 | ||||||
| 330 | 用于确定位置的装置和方法 | CN201010178006.X | 2010-05-11 | CN101887124A | 2010-11-17 | 弗朗兹·迪劳夫; 亨德里克·福斯特曼; 格哈特·林德纳; 迈克尔·明奇 |
| 本发明涉及一种用于确定间距(d)的装置(1)和方法。按照本发明，产生192声表面波，并且将所述表面波至少部分地在具有至少一个反射位置(4，41，42，43)的表面(2，21，22，23)上过耦合。最后通过所述装置(1)记录在所述反射位置(4，41，42，43)反射的表面波。根据所述表面波的传播时间确定所述装置(1)相对所述反射位置(4，41，42，43)的间距。通过本发明可以低成本并且灵活地测量间距并因而测量位置。 | ||||||
| 331 | 粒子射线照射装置以及粒子射线治疗装置 | CN200610077808.5 | 2006-04-28 | CN101002978B | 2010-10-13 | 吉田克久 |
| 本发明揭示一种能够减小射程变换器的散射作出的带电粒子射线束直径的增加，提供对被照射物体能在空间上精密照射的射线束直径小的带电粒子射线，同时能够将射程变换器配置在离患者稍远的位置上，消除由于移动的声音等给患者带来的压力的粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置。在带电粒子射线进行照射时改变厚度以使带电粒子射线的能量改变，从而使被照射物体上的带电粒子射线的射程为所希望的值的射程变换器(4)与被照射物体(6)之间，具备根据利用可变射程变换器改变的带电粒子射线的能量控制励磁量，减少由于射程变换器的散射而引起的被照射物体(6)上的带电粒子射线束的直径的增大的4极电磁铁(6)。 | ||||||
| 332 | 用于屏蔽带电粒子束的设备 | CN200580017795.6 | 2005-05-13 | CN1985344B | 2010-09-29 | 张涛 |
| 用来屏蔽带电粒子束的设备。射束屏蔽单元(1)包括固定到支撑板(15)的第一和第二屏蔽板(2，3)。阻止器(4)与5第一屏蔽板(2)机械地连接和电连接。 | ||||||
| 333 | 辐射系统和方法以及光谱纯度滤光片 | CN200880115027.8 | 2008-11-07 | CN101849212A | 2010-09-29 | H·G·斯吉麦尔; T·A·R·范埃姆派尔; G·H·P·M·斯温凯尔斯; M·M·J·W·范赫彭; D·兰拜特斯基 |
| 一种辐射系统(3)，其配置用以产生辐射束(B)。所述系统(3)包括室(3)。该室(3)包括：辐射源(50)，配置用以产生辐射(B)；和辐射收集器(70)，配置用以收集由所述源(50)产生的辐射(B)，以将收集的辐射传送到辐射束发射孔(60)。光谱纯度滤光片(80)提高将要通过所述孔(60)发射的辐射(B)的光谱纯度。滤光片(80)将该室(3)分成高压区域(R1)和低压区域(R2)。 | ||||||
| 334 | 一种高低能X射线输出装置 | CN200510135933.2 | 2005-12-31 | CN1997256B | 2010-08-25 | 唐传祥; 陈怀璧; 刘以农; 程建平; 刘耀红; 李任凯 |
| 本发明涉及X射线源装置，具体涉及高能X射和低能X射线的输出装置。本发明公开的一种高低能X射线输出装置，包括：控制系统，用于控制电子枪电源、微波功率源，通过电子枪和加速装置产生电子束；或控制实现不同的高低能电子束产生的时序；电子枪电源，向电子枪提供电能；微波功率源，用于加速电子直线加速管产生的电子束的速度；电子直线加速管，分别与电子枪电源和微波功率源连接，用于产生高能电子束；高压电子枪电源，向高压电子枪提供电能；高压电子枪，与高压电子枪电源连接，用于产生低能电子束；辐射靶，用于接受电子束产生X射线。本发明应用于放射治疗及医学成像中，或应用于无损检测中。 | ||||||
| 335 | 用于粒子束流的斩波器 | CN200880109650.2 | 2008-09-12 | CN101809676A | 2010-08-18 | W·伦夫特尔; H·坎默林; M·普拉杰 |
| 本发明涉及一种用于粒子束流的斩波器，包括用于粒子束流的强度的控制元件(13)和环状的引导元件(11)。根据本发明，控制元件如此地相对于引导元件被支承，即，使得控制元件上的至少一个支承点能够沿着引导元件的周缘而环绕。与在旋转轴处的支承相比，沿着周缘的支承能够在相同的轴承力下补偿显著更大的干扰力矩。旋转轴总的来说同样是非必要的，从而使得，控制元件可例如构造成环。与根据现有技术的斩波器轮相比，这种斩波器轮引起了明显的重量减轻，其在结果上使得更大的周缘速度并由此使得用于粒子束流的更高的调制频率在同时地有所提高的运行安全性下成为可能。 | ||||||
| 336 | 具有作为电子源的场发射器的大面积指示电子束照射器 | CN200580007663.5 | 2005-03-09 | CN1954402B | 2010-08-04 | 李炳铁; 林永暻; 韩泳焕; 郑永旭; 朴圣姬; 李铁真; 李泰宰 |
| 本发明提供一种电子束照射器，该电子束照射器能用场发射器尖端，在高电流密度下，在宽区域中执行电子束照射。该电子束照射器包括：具有在真空室的外周边纵向地形成的电子束照射窗口的真空室；在真空室内中心地和纵向地放置的阴极，并具有在阴极上形成的场发射器尖端，对应于电子束照射窗口；以及在真空室的一端放置的高压电源，用于朝向阴极施加高压。根据本发明，可以在宽区域中进行电子束照射，而不使用电磁体，以及用高电流密度，而不使用加热器如灯丝或附加电源，由此保证简化的结构以及减小的尺寸。 | ||||||
| 337 | 具有非平行几何场的X射线源 | CN200580022800.2 | 2005-05-23 | CN1981360B | 2010-07-14 | 斯坦利·莱希亚克; 海因兹·巴斯塔; 布鲁斯·兹维克 |
| 一种改进的x射线产生系统产生特别适用于大致柱形或球形的处理装置的收敛或发散的辐射图案。在一个实施方式中，该系统包括位于封闭或凹形的内壁周围的封闭或凹形的外壁。电子发射体位于该外壁的内侧表面，而靶膜位于该内壁的外侧表面。该发射体处的提取电压提取电子，通过加速电压，该电子被朝向该内壁加速。可选地，电子发射可以通过热离子装置。电子与该靶膜的碰撞造成x射线发射，x射线中有相当大一部分发射被定向为通过该内壁而进入到内壁限定的空间中。在一实施方式中，该发射体和靶膜的位置被颠倒，为收敛的图案设立反射而不是透射模式，而为发散的图案设立透射模式。 | ||||||
| 338 | 用于放射治疗的准直仪器 | CN200780053845.5 | 2007-05-24 | CN101755309A | 2010-06-23 | C·W·珀金斯; C·C·克诺克斯 |
| 一种放射治疗仪器，包括：用于产生放射束的装置，所述放射束沿着射束轴引导并且在横向于所述射束轴的第一和第二方向上具有宽度；多叶准直器，其用于选择性地至少在第一方向上限制所述射束的宽度；挡块准直器，其用于选择性地至少在第二方向上限制所述射束的宽度；所述挡块准直器包括隔板，其可移动进出所述射束并且具有在所述射束轴的方向上变化的厚度。该隔板可以具有前边缘，该前边缘比其后面的至少一个区域厚。它还可以具有从其后部向前边缘延伸的脊区域，所述脊区域比相对于其在侧面上偏移的至少一个区域厚。它们可以一起覆盖不能通过动态移动MLC而完全屏蔽的区域。多叶准直器的控制装置可以被布置成将所述多叶准直器的叶片延伸到射束的阴影区域，所述阴影区域由隔板相对较薄的部分阻挡。如果脊区域从该隔板的最后部延伸，该脊区域延伸到该隔板的前边缘，该脊区域是直的，该脊区域是隔板的中心区域，并且如果该脊区域的宽度向着该隔板的前边缘增加，则这将很变得更容易。本发明还涉及一种放射治疗仪器，其包括多叶准直器和挡块准直器，所述挡块准直器包括具有可变厚度的隔板；并且还涉及一种在放射治疗仪器中使用的挡块准直器，该挡块准直器包括隔板，其可移动进出所述射束并且具有在所述射束的方向上变化的厚度。 | ||||||
| 339 | X光散射线阻挡叶片的调节装置 | CN200810130901.7 | 2008-08-29 | CN101658429A | 2010-03-03 | 苑平 |
| 本发明涉及X光散射线阻挡叶片的调节装置。本发明提供一种阻挡叶片的调节装置，包括用于限制球管X光散射线的阻挡叶片和用于安装阻挡叶片的基盘。该基盘包括用于使球管X射线通过的开口，阻挡叶片通过移动来调节、控制通过该基盘开口的X射线，其特征在于：还包括阻挡叶片支撑装置和驱动单元；其中所述的阻挡叶片支撑装置包括滑动柱，阻挡叶片支撑装置与阻挡叶片固定连接且将阻挡叶片安装于基盘开口内；驱动单元控制、改变滑动柱的路径而使滑动柱带动阻挡叶片支撑装置在基盘上作直线运动从而带动其上的阻挡叶片在基盘的开口内作直线运动。本发明的散射线阻挡叶片的调节装置结构简单，占用空间小，可靠性高，同时成本低。 | ||||||
| 340 | 用于非对称射束准直的X射线准直器附加物 | CN200880007815.5 | 2008-03-10 | CN101632135A | 2010-01-20 | H·I·马克 |
| 描述了一种用于X射线管(30)的非对称X射线束准直的设备(10)，其中，所述设备包括：外壳(1)；X射线吸收板(2)，其用于不对称地对X射线进行准直；以及橇状物(3)，其用于移动X射线吸收板。利用本发明的设备，可根据对称X射线束获得不对称X射线束，从而所述设备可用于诸如C型臂系统的传统的对称X射线系统中，并且达到对患者更好的保护。 | ||||||
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