子分类：
- G21K1/00： 粒子或电离辐射的处理装置,如聚焦或慢化(中子、带电粒子、中性分子束或中性原子束的产生或加速入H05H 3/00至H05H 15/00)
- G21K2201/00： 处理辐射或粒子的装置
- G21K2207/00： 具体的成像设备或方法,利用电离电磁辐射,如X射线或γ射线
- G21K4/00： 用于将粒子或电离辐射的空间分布转换成可见图像的转换屏幕,如荧光屏(使用X射线增强的摄影过程入G03C5/17 ; 包含发光屏幕的放电管入H01J1/62 ; 用于X射线转换并有光输出的 阴极射线管 入H01J31/50)
- G21K5/00： 照射装置(照射用的放电管入H01J37/00)
- G21K7/00： γ射线或X射线显微镜
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 301 | 用于显示X射线图像的医学查看系统 | CN201080007128.0 | 2010-02-08 | CN102307527A | 2012-01-04 | J·H·罗伯茨 |
| 一种医学查看系统，包括X射线源、用于限制所述X射线源的X射线辐射输出的准直器以及平面X射线探测器，其中，所述准直器是能调节的，使得通过所述X射线探测器采集的后续X射线图像包括具有易变圆角的矩形形状。所采集的X射线具有介于圆形形状和矩形或方形形状之间的形状。然后在显示单元上显示所采集的具有这种形状的图像，其中，所述图像的边界远离于所述显示单元的指定屏幕区域的边界，以便在显示器上界定间隙。当旋转所采集的图像时，所述圆角向所述屏幕的边界移动并且尺寸设计成使得它们永远不会与显示器的边界相交。屏幕30的所使用区域比例如借助图像增强器拍摄的圆形图像的使用区域大出约30％。 | ||||||
| 302 | 用于在惰性气氛下利用高能辐射固化的设备和方法 | CN200580021042.2 | 2005-06-17 | CN101304814B | 2011-10-12 | A·戴斯; E·贝克; M·比勒尔 |
| 本发明涉及一种用于通过将可辐射固化的化合物暴露于高能辐射而在惰性气氛下固化所述化合物以生产模塑材料和基体上涂层的设备和方法。 | ||||||
| 303 | X射线成像设备 | CN200980144193.5 | 2009-11-09 | CN102209494A | 2011-10-05 | 辻井修; 佐藤真; 奥贯昌彦; 清水英; 小仓隆 |
| X射线成像设备，该设置有多X射线源和准直器，在该准直器中，二维形成供X射线通过的多个狭缝，狭缝的尺寸和位置是可调整的。作为第一控制模式，在X射线源改变为不同的X射线源时，控制单元控制狭缝的尺寸和位置以平行地移动检查区域，使得检查方向在改变前后是平行的。并且，作为第二控制模式，在X射线源改变为不同的X射线源时，控制单元控制狭缝的尺寸和位置以旋转检查方向，使得检查区域的中心在改变前后是相同的。 | ||||||
| 304 | 线扫描装置 | CN201010537488.3 | 2010-11-05 | CN102188775A | 2011-09-21 | 井上淳一 |
| 本发明的目的在于提供一种可以谋求可靠性提高的线扫描装置。本发明具备：照射喷嘴(2)，照射线扫描射束；照射位置传感器(11)，检测线扫描射束的照射位置；运算处理电路部(13)，测定在照射位置传感器(11)检测出的照射位置的线扫描射束的停留时间；照射控制部(14)，利用照射位置传感器(11)检测出的照射位置和运算处理电路部(13)测定出的停留时间，对线扫描射束进行扫描控制。根据该线扫描装置(1)，利用线扫描射束的照射位置及与该照射位置对应的停留时间，对线扫描射束进行扫描控制，由此可以更可靠地防止射束向错误位置的照射或过量照射，从而可以实现线扫描装置的可靠性的提高。 | ||||||
| 305 | 在海港等处对货物运载容器的辐射扫描 | CN200710169751.6 | 2004-01-30 | CN101159173B | 2011-09-21 | 保罗·比约克尔霍尔姆 |
| 一种辐射扫描系统，包括紧邻升降机系统的辐射源和辐射探测器，该升降机系统在辐射源和探测器之间移动物体，用于扫描。该辐射源和/或探测器可以由升降机系统支承，或者接近该升降机系统。优选地，辐射源和探测器由该升降机系统支承或者位于升降机系统所限定的轮廓内。该辐射扫描系统特别适用于扫描货物运载容器。例如海运货物运载容器，当它们从轮船上被卸下或者装载到轮船上时。同时还公开了检查物体的方法。 | ||||||
| 306 | 单晶闪烁体材料及其制造方法、放射线检测器和PET装置 | CN200980138423.7 | 2009-09-28 | CN102165107A | 2011-08-24 | 奥田裕之; 冈本直之; 伊藤进朗 |
| 本发明的单晶闪烁体材料的制造方法包括：在含有选自Li、Na、K、Rb、Cs中的1种以上、W和/或Mo、B和氧的熔剂中混合Ce化合物和Lu化合物，在800℃以上、1350℃以下的温度中加热而使上述化合物熔融的工序；和通过对熔融的上述化合物进行冷却，使组成式(CexLu1-x)BO3所示且Ce的组成比例x满足0.0001≤x≤0.05的单晶析出成长的工序。 | ||||||
| 307 | 光谱纯度滤光片、包括这样的光谱纯度滤光片的光刻设备以及器件制造方法 | CN200980132826.0 | 2009-07-29 | CN102132213A | 2011-07-20 | W·A·索尔; M·M·J·W·范赫彭; M·J·J·杰克 |
| 一种光谱纯度滤光片包括孔阑。光谱纯度滤光片被配置成通过配置成吸收第一波长的辐射和允许第二波长的辐射的至少一部分透射通过所述孔阑，来提高辐射束的光谱纯度。所述第一波长大于所述第二波长。光谱纯度滤光片可以用于改善极紫外(EUV)辐射束的光谱纯度。 | ||||||
| 308 | 辐射调制器 | CN200680038429.3 | 2006-07-12 | CN101288131B | 2011-07-13 | A·布拉默; P·内尔达尔; A·克雷克; B·黑格斯特伦 |
| 本发明涉及一种可用于调制辐射系统中辐射束(60)的辐射束调制器(1；100；200；300；400；500；600)。调制器(1；100；200；300；400；500；600)包括辐射调制流体或者液体(120；220；320；420)的多个柱(125；225；325；425；525；625)的阵列和高度调节装置(130；230；330；430；530；630)。高度调节装置(130；230；330；430；530；630)调节多个流体柱(125；225；325；425；525；625)的高度从而所调节的柱(125；225；325；425；525；625)将共同形成目标辐射调制剖面。在第一实施例中，调制器(100；200；300；400)包括毛细管(150；250；350；450)的束，其中输送调制流体(120；220；320；420)以形成柱(125；225；325；425)。对抗流体(140；240；340；440)被输送至毛细管(150；250；350；450)的相对端以将调制流体(120；220；320；420)锁定在调节之间的位置。在第二实施例中，调制器(500；600)包括调制流体(520；620)槽(590；690)，其中棒(570；670)被插入并收回以产生目标辐射调制剖面。 | ||||||
| 309 | 带电粒子癌症疗法患者定位的方法和装置 | CN200980122397.9 | 2009-05-21 | CN102119585A | 2011-07-06 | 弗拉迪米尔·叶戈罗维奇·巴拉金 |
| 本发明包含结合多轴带电粒子辐射疗法使用的患者定位和/或重新定位系统，诸如躺式、半垂直或坐式患者定位、对准和/或控制的方法和装置。患者定位约束任选地包括以下中的一个或多个：座位支架、背部支架、头部支架、臂部支架、膝部支架和脚部支架。所述定位约束中的一个或多个优选为可移动的和/或在计算机控制之下，以便快速定位、重新定位和/或固定患者。所述系统任选地使用与粒子束癌症疗法系统的质子束路径处于大体相同路径的X射线束。产生的图像可用于：相对于所述质子束路径精调身体对准，控制所述带电粒子束路径以准确且精确地靶向肿瘤，和/或系统验证和证实。 | ||||||
| 310 | 格栅和制造用于选择性透射电磁辐射特别是X-射线辐射的格栅的方法 | CN200980130034.X | 2009-08-06 | CN102113060A | 2011-06-29 | G·福格特米尔; R·多沙伊德 |
| 提出了一种用于选择性透射电磁辐射的格栅(1)和制造该格栅的方法。其中，所述格栅(1)包括具有壁(3)的结构元件，所述结构元件包括辐射吸收材料的多个颗粒(19)，其中，所述颗粒(19)烧结在一起，使得在相邻颗粒(19)之间存在孔隙(21)。所述孔隙(21)至少部分填充有第二固态材料。孔隙(21)的填充能够通过将第二材料引入孔隙中中实现，第二材料为液态的，优选地为熔融形式。第二材料本身也能够是辐射吸收的，且可以有助于提高格栅的机械稳定性并增强辐射吸收性质。 | ||||||
| 311 | 用于改变带状离子束的方法及设备 | CN201010558538.6 | 2010-11-19 | CN102110570A | 2011-06-29 | 肯尼思·H·波瑟; 威廉·H·小派克 |
| 本发明涉及用于改变带状离子束的方法及设备。利用一对相对的铁磁条上的多个线圈结构来改变带状离子束。该线圈结构包括连续绕组，其具有每单位长度匝数沿条的长度的预定变化模式。在示例中，一个线圈结构可沿条具有均匀的每单位长度匝数，由此对线圈结构供电可形成跨着条之间的缝隙延伸的、具有四极强度分布的磁场分量。第二线圈结构可具有变化来产生六极磁场强度分布的每单位长度匝数。还可提供额外的线圈结构以产生八极及十极磁场分布。可对线圈供电以产生与条平行的磁场，该磁场沿条的长度发生变化，从而使带状束扭转或变平。 | ||||||
| 312 | 反射镜、光刻设备以及器件制造方法 | CN200980129219.9 | 2009-07-16 | CN102105837A | 2011-06-22 | V·班尼恩; L·斯基曼恩奥克; A·M·雅库尼恩 |
| 本发明的实施例涉及一种反射镜(30)。反射镜包括镜面反射表面和具有外表面的形成轮廓的涂覆层(32a)，其中一个或多个楔形元件由相对于镜面反射表面的外表面形成，和其中一个或多个楔形元件具有在大约10-200mrad范围内的楔角(θ)。形成轮廓的涂覆层可以具有曲面的外表面。形成轮廓的涂覆层可以由下面的材料中的至少一种形成：Be、B、C、P、K、Ca、Sc、Br、Rb、Sr、Y、Zr、Ru、Nb、Mo、Ba、La、Ce、Pr、Pa和U。 | ||||||
| 313 | 放射治疗装置 | CN200980128373.4 | 2009-05-15 | CN102099081A | 2011-06-15 | K·布朗; M·G·汤普森; D·A·罗伯茨; P·M·埃文斯; V·N·汉森 |
| 为治疗MV源实现一致的探测KV源-所谓的“射束视角”源是期望的。已建议使用来自电子窗口的轫致辐射；我们提出用于实现此的实际结构，其可以在治疗束和射束视角诊断束之间容易地切换，能够提供良好的图像分辨率。该辐射源包括电子枪，位于由所述电子枪产生的射束的通道中的一对靶，所述一对靶中的一个靶是具有比其他材料更低的原子序数的材料，以及可从所述射束的通道插入并取回的电子吸收器。在优选形式中，电子枪在真空室中，以及该一对靶位于所述真空室的边界。所述较低原子序数的靶可以是镍以及较高原子序数的靶可以是铜和/或钨。所述电子吸收器可以是碳，并可以位于主准直器内，或在可交换地位于所述射束的通道中的多个主准直器之一内。这种辐射源可以被包括在本发明进一步涉及的放射治疗装置内。可以为低能X-射线而不是高能X-射线优化用于该源的平板成像设备。因此，基于碘化铯的板是合适的。 | ||||||
| 314 | 用于EUV光源的集光器 | CN200480009342.4 | 2004-04-07 | CN1771072B | 2011-06-01 | W·N·帕特洛; J·M·阿尔哥特斯; G·M·布卢门施托克; N·鲍尔林; A·I·叶尔绍夫; I·V·福缅科夫; X·J·潘 |
| 揭示一种从EUV光源EUV集光器反射表面去除碎片的方法与设备，反射表面含第一材料，碎片含第二材料和/或第二材料的化合物。该系统与方法包括一受控的溅射离子源，该溅射离子源包括含溅射离子材料原子的气体；和一把溅射离子材料的原子激发成电离态的激发机构，电离态被选成具有围绕选定能量峰的分布，对第二材料具有高的溅射概率，而对第一材料具有极低的溅射概率。激发机构包括一RF或微波感应机构。气体保持于部分决定选定能量峰的压力，激发机构产生溅射离子材料的离子流入量，从反射器表面形成第二材料的原子溅射密度，它等于或超过第二材料等离子体碎片原子的流入速率。对指定的反射表面期望寿命选择溅射速率。反射表面可被覆盖。集光器包括椭圆镜与包含径向延伸沟道的碎片屏。第一材料是钼，第二材料为锂，离子材料为氦，系统具有从反射表面蒸发第二材料的加热器，激发机构在点火时刻之间连接反射表面，反射表面有阻挡层。集光器是组合了掠入射角反射器壳体的球面镜，通过对反射器壳体上的多层堆选用层材料，壳体可用作光谱滤波器。溅射可结合加热，后者去除锂，前者去除锂化合物，可用等离子体生成的离子作溅射而不用受激的气体原子。 | ||||||
| 315 | 粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置 | CN201010535702.1 | 2010-10-29 | CN102049105A | 2011-05-11 | 岩田高明 |
| 本发明提供一种粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置，其目的在于消除因驱动脊形过滤器而带来的噪音，不会对患者造成不愉快或不安的感觉，并可达到与利用专利文献2的装置可得到的照射剂量分布相同的、均匀的照射剂量分布。本发明包括具有损耗能量因带电粒子束(1)通过的位置而不同的厚度分布的脊形过滤器(6)、将带电粒子束(1)偏转的偏转器(2)、以及控制偏转器(2)以使得带电粒子束(1)通过脊形过滤器(6)的所述厚度分布的控制器。 | ||||||
| 316 | 放射线拍摄装置 | CN201010509084.3 | 2010-10-12 | CN102048554A | 2011-05-11 | 藤田明德 |
| 本发明提供一种放射线拍摄装置。当放射线源与放射线检测器位于标准位置时，通过用放射线网格来遮挡从放射线源照射的放射线射束，从而使得在放射线检测器的检测面显现的吸收箔的影子的排列间距成为放射线检测元件的横向的排列间距的整数倍，并且，确定放射线网格与放射线检测器的位置，以使吸收箔的影子以不跨越与放射线检测元件横向相邻的放射线检测元件的方式显现。 | ||||||
| 317 | 用于X射线的源光栅、用于X射线相衬图像的成像装置和X射线计算层析成像系统 | CN200980112851.2 | 2009-04-13 | CN102047344A | 2011-05-04 | 伊藤英之助; 市村好克; 中村高士; 今田彩 |
| 提供用于X射线等的源光栅，所述用于X射线等的源光栅可增强空间相干性并且被用于X射线相衬成像。用于X射线的源光栅被放置在X射线源和被检对象之间，并被用于X射线相衬成像。用于X射线的源光栅包含由以恒定的间隔(A′)周期性地布置的突出部分形成的多个子光栅(130、120)，所述突出部分各自具有屏蔽X射线(110)的厚度(140)。通过使多个子光栅进行偏移(1/2A′)来多层地层叠所述多个子光栅。 | ||||||
| 318 | 多层反射镜和光刻设备 | CN200980120621.0 | 2009-05-20 | CN102047183A | 2011-05-04 | D·格卢什科夫; V·巴内尼; J·H·J·莫尔斯; L·A·斯基梅诺克; N·N·塞拉斯申科 |
| 一种多层反射镜被构造且被布置以反射具有在2-8nm范围内的波长的辐射。所述多层反射镜具有从由Cr和Sc层，Cr和C层，C和B4C层，U和B4C层，Th和B4C层，C和B9C层，La和B9C层，U和B9C层，Th和B9C层，La和B层，C和B层，U和B层，以及Th和B层构成的组中选出的交替层。 | ||||||
| 319 | 试样夹持器组件 | CN200980117115.6 | 2009-03-16 | CN102027562A | 2011-04-20 | G·默布斯; G·魏; X·徐; J·J·王; R·盖; A·J·罗克伍德; B·因克森 |
| 一种适合于在透射电子显微镜中断层照相检验试样的试样夹持器组件(500)，包括：主体部分(501)，该主体部分(501)取细长构件的形式，所述细长构件安排成可移动地插入显微镜的支柱中；和操纵器部分，该操纵器部分具有第一轴线，操纵器部分包括：试样安装部分(510)，该试样安装部分(510)配置成支承试样；试样平移组件(530)，该试样平移组可操纵，以便相对于主体部分平移试样安装部分；和试样旋转组件(540)，该试样旋转组件(540)结合到主体部分和试样平移组件(530)上，试样旋转组件可操纵，以便绕第一轴线相对于主体部分旋转试样平移组件。 | ||||||
| 320 | 从外源进行内部能量活化的等离子体激元辅助系统和方法 | CN200980116914.1 | 2009-03-11 | CN102026719A | 2011-04-20 | 小弗雷德里克·A·博尔克; 图安·沃-丁 |
| 一种在置于人工容器中的介质中产生改变的方法和系统。所述方法在介质附近放置等离子体激元试剂和能量调节剂中的至少之一。所述方法施加引发能量穿过所述人工容器至介质。所述引发能量与所述等离子体激元试剂或所述能量调节剂相互作用，以直接或间接地在所述介质中产生变化。所述系统包括引发能量源，其设置为对介质施加引发能量以活化等离子体激元试剂或能量调节剂。 | ||||||
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