子分类：
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 21 | 一种照明模块、照明组件及相机 | CN202410239655.8 | 2024-03-01 | CN117950245A | 2024-04-30 | 刘旸 |
| 本申请实施例提供了一种照明模块、照明组件及相机，涉及到机器视觉技术领域，上述照明模块包括：多色光源及鳞甲透镜，所示鳞甲透镜位于所述多色光源的出光侧，所述鳞甲透镜包括透射区域及反射区域；所述多色光源，包括多个发光模块，其中，所述发光模块用于提供一种颜色/波长的单色出射光或多种颜色/波长的多色混色出射光；所述鳞甲透镜，用于通过所述反射区域对所述出射光进行反射，并通过所述透射区域对所述出射光进行透射，得到均匀光斑。本申请实施例实现了更简易地为机器视觉系统提供多色补光照明。 | ||||||
| 22 | 一种相机调焦机构 | CN202311805717.9 | 2023-12-25 | CN117950244A | 2024-04-30 | 武春风; 李贤坤; 罗义林; 曾书琴; 蹇宝锐; 王贝壳; 刘淞; 戴勋义 |
| 本发明涉及调焦技术领域，特别是一种相机调焦机构，包括安装座、滑动板、分光镜、探测器和驱动机构；安装座上设置有用于通过光线的过光孔；滑动板与安装座滑动连接；分光镜设置在滑动板上并对应过光孔位置；两个探测器均设置在滑动板上，两个探测器分别位于分光镜在滑动板滑动方向的两侧，两个探测器均面对分光镜；驱动机构设置在安装座上，并与滑动板连接，用于驱动滑动板滑动。本发明优点是通过分光镜和两个探测器，将分光镜和两个探测器设置在一个滑动板上，通过滑动板的滑动来使分光镜和探测器整体移动，实现对焦功能。 | ||||||
| 23 | 全介质超表面复合结构太赫兹调制器及其制备方法和应用 | CN202410007504.X | 2024-01-03 | CN117950211A | 2024-04-30 | 佘荣斌; 鲁远甫; 李光元; 刘文权 |
| 本发明公开了一种全介质超表面复合结构太赫兹调制器，包括全介质超表面结构和氧化铟镓锌膜层，所述氧化铟镓锌膜层覆盖在所述全介质超表面结构上；所述全介质超表面结构包括依次层叠的基底和图形层；所述图形层由周期单元组成。本发明全介质超表面复合结构太赫兹调制器兼具有电导率可调谐薄膜材料和超表面调制器的优点，调制深度高，插入损耗小，可以满足太赫兹调制器的要求。 | ||||||
| 24 | 相机模块和包括相机模块的相机装置 | CN202410144104.3 | 2020-05-12 | CN117950201A | 2024-04-30 | 金敬源; 卢炫奎; 金昶年 |
| 根据实施方式的相机模块或相机装置可以包括基部、安置于基部内并在基部内移动的第一透镜组件和第二透镜组件以及安置于基部并固定至基部的第三透镜组件。第一透镜组件包括其中安置有第一透镜的第一透镜镜筒以及其中安置有第一驱动部分的第一驱动器壳体，并且第二透镜组件包括其中安置有第二透镜的第二透镜镜筒。第二驱动部分壳体可以包括第二驱动部分。基部可以包括限制第一透镜组件和第二透镜组件的行程的基部止挡件。第三透镜组件的透镜壳体可以包括用以限制第一透镜组件和第二透镜组件的行程的镜筒止挡件。 | ||||||
| 25 | 光学元件驱动机构 | CN202311412498.8 | 2023-10-27 | CN117950149A | 2024-04-30 | 吴嘉哲; 胡朝彰; 罗钰乔 |
| 本公开提供了一种光学元件驱动机构，用以容纳一第一光学元件，包括一固定组件、一活动部以及一驱动组件。活动部配置以连接一第二光学元件，第二光学元件对应于第一光学元件，并且活动部可相对固定组件运动。驱动组件配置以驱动活动部相对固定组件运动。固定组件包括一第一容纳空间，配置以容纳第一光学元件。 | ||||||
| 26 | 一种花箐染料杂化稀土离子的纳米材料、制备方法及应用 | CN202410102989.0 | 2024-01-24 | CN117946684A | 2024-04-30 | 杨运旭; 申奥; 郝晓慧; 张立锋; 张攀庆 |
| 本发明涉及一种花箐染料杂化稀土离子的纳米材料、制备方法及应用。纳米材料包括NaYF4：Ce+4,Sm3+,Nd3+纳米UCNPs核壳结构，并且在所述材料表面修饰有能增强红外光吸收的七甲川化箐染料CYMB‑S及能增强可见光吸收的其它表面修饰成分。本发明制备的一定形貌结构的近红外染料/稀土离子杂化纳米材料，通过对最大吸收波长在～820nm附近的近红外染料的光照激发，引起相应稀土离子的能量转换及其发光显色机制转换，获得在可见光区有较大吸收增强的可视化纳米稀土材料，并应用于免处理CTP印刷版材。 | ||||||
| 27 | 含硅高抗刻蚀分子玻璃光刻胶化合物及其制备方法和应用 | CN202211339899.0 | 2022-10-28 | CN117946151A | 2024-04-30 | 杨国强; 张巳亮; 郭旭东; 胡睿; 王双青 |
| 本发明属于光刻技术领域，具体涉及一种含硅高抗刻蚀分子玻璃光刻胶化合物及其的制备方法和及应用。本发明所提供的化合物分子结构简洁，分子量可控，合成步骤简单，且其具有较高的热稳定性，烘烤中不析出，光刻中不易变性；所提供的负性分子玻璃光刻胶具有较好的成膜性，较高的热稳定性，储存不易变性，且粘度低，使用过程中无需额外使用溶剂稀释。该化合物制备的光刻胶在基片上通过旋涂法可以得到均匀的薄膜，其配方可用于365nm光刻、248光刻、193nm光刻、极紫外光刻及电子束光刻等现代光刻技术中。通过电子束曝光显影，曝光图形具有较高的对比度，优异的分辨率，及较好的灵敏度。 | ||||||
| 28 | 非感光性表面改性剂、处理液和层叠体 | CN202311425875.1 | 2023-10-30 | CN117946008A | 2024-04-30 | 御子柴惠美子 |
| 本发明的课题在于提供能够进一步提高金属层与树脂层之间的密合性的非感光性表面改性剂、处理液和层叠体。本发明的非感光性表面改性剂是用于形成介于金属层与感光性树脂层之间的表面改性层的非感光性表面改性剂，含有含氮杂环化合物，并且在用盐酸清洗后的上述金属层上使用上述非感光性表面改性剂形成上述表面改性层时，温度25℃的纯水在上述表面改性层的表面上的接触角相对于在上述金属层的表面上的接触角(相对基准值：1.0)为0.8以下。 | ||||||
| 29 | 图像聚焦方法、装置、计算机设备和存储介质 | CN202410179237.4 | 2024-02-18 | CN117729431B | 2024-04-30 | 余月萍; 沈佩雯; 徐狄权 |
| 30 | 一种硬掩模保护的硅光波导表面氧化平滑方法 | CN202410166404.1 | 2024-02-06 | CN117706685B | 2024-04-30 | 杨荣; 余巨峰; 余明斌 |
| 31 | 一种薄型液晶投影显示LED偏光光源及液晶电视 | CN202410103857.X | 2024-01-25 | CN117631423B | 2024-04-30 | 毕永杞; 唐双喜; 徐丽丽; 孙春彦; 李浪舟; 吴振宇; 钟海兵 |
| 32 | 用于光刻机预对准系统的硅片放置装置 | CN202311453004.0 | 2023-11-03 | CN117471865B | 2024-04-30 | 刘正伟; 朱凯彬; 魏益波 |
| 33 | 长续航的相机防水壳 | CN202310837838.5 | 2023-07-07 | CN116954001B | 2024-04-30 | 王稳 |
| 34 | 一种针对晶圆的曝光方法及曝光装置 | CN202310872926.9 | 2023-07-14 | CN116859680B | 2024-04-30 | 李显杰; 钱文欢; 袁征; 钱聪 |
| 35 | 含羟胺的稳定溶液、含羟胺的半导体清洗液、其制备方法及用途 | CN202211219099.5 | 2022-10-08 | CN115595217B | 2024-04-30 | 侯军; 申海艳; 吕晶; 任浩楠 |
| 36 | 方法、IC裸片以及半导体装置 | CN202210794653.6 | 2019-12-11 | CN115268222B | 2024-04-30 | 苏海尔·加拉希 |
| 37 | 音圈马达和摄像头模块 | CN202210311673.3 | 2014-12-30 | CN114679528B | 2024-04-30 | 朴相沃; 李圣民; 李准泽 |
| 38 | 一种镜头的焦距调整结构、镜头及终端 | CN202011289621.8 | 2020-11-17 | CN114509855B | 2024-04-30 | 陈朝喜 |
| 39 | 原稿压合板开合装置及办公机器 | CN202111252496.8 | 2021-10-27 | CN114488730B | 2024-04-30 | 小川觉司 |
| 40 | 投影仪系统调节方法、装置、电子设备及可读存储介质 | CN202210192920.2 | 2022-02-28 | CN114428440B | 2024-04-30 | 卞振峰 |
QQ群二维码
意见反馈
意见反馈