子分类：
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 相机模块 | CN202280058578.5 | 2022-08-24 | CN117897959A | 2024-04-16 | 黄善慜 |
| 根据本发明的实施方式的相机模块包括：包括透镜的第一本体；联接至第一本体的第二本体；设置在第一本体与第二本体之间的第一基板至第三基板；以及用于将第一基板至第三基板在光轴方向上间隔开的第一支承构件和第二支承构件，其中，第一支承构件包括形成在其侧壁中的孔，第二支承构件包括插入到第一支承构件的凹槽中的突出部分。 | ||||||
| 2 | 量测目标优化 | CN202280055229.8 | 2022-08-17 | CN117897661A | 2024-04-16 | P·P·赫芬斯坦; S·A·米德尔布鲁克斯; M·G·M·M·范卡拉埃吉; M·皮萨连科 |
| 描述了一种设计目标的方法，该方法包括：提供初始数据集，获得初始数据集的模型，使用该模型执行贝叶斯优化以提供改进的模型，使用该改进的模型执行对目标设计的优化。 | ||||||
| 3 | 一种用于洗护系统的图像采集的补光控制方法及洗护设备 | CN202311132906.4 | 2023-09-05 | CN117896875A | 2024-04-16 | 周群 |
| 本发明提供一种用于洗护系统的图像采集的补光控制方法及洗护设备，补光控制方法包括以步骤：S1、接收到洗护信号；S2、图像采集装置开始采集洗护区域的图像，根据所述图像得到图像的亮度值；S3、判断是否图像的亮度值＜第一亮度阈值，若是，进入步骤S4，若否，则进入步骤S5；S4、增加洗护区域的亮度；S5、判断是否图像的亮度值＞第二亮度阈值，若是，进入步骤S6，若否，进入步骤S7；S6、降低洗护区域的亮度；S7、进行洗护。本发明所述的补光控制方法，一、提高了补光控制方法的精准性，进而提高了采集的信息的准确性；二、可节约能源，避免浪费资源。 | ||||||
| 4 | 一种高压LED芯片制备方法及高压LED芯片 | CN202410058868.0 | 2024-01-16 | CN117894886A | 2024-04-16 | 张亚; 张星星; 林潇雄; 胡加辉; 金从龙 |
| 本发明公开了一种高压LED芯片制备方法及高压LED芯片，其中芯片制备方法包括：在衬底上外延生长外延层；由P型半导体层向衬底方向刻蚀直至暴露N型半导体层，以形成N型台面和P型台面；在外延层上涂布正性光刻胶并依次进行软烤、曝光、显影、第一次硬烤、第二次硬烤，得到第一固化胶层；在第一固化胶层上涂布负性光刻胶并依次进行软烤、曝光、坚膜、显影，得到第二固化胶层；对外延层进行刻蚀；去除两层胶层，在外延片上得到包含预设形貌特征的隔离槽；在N型台面和P型台面上制备电极，并在对应隔离槽内制备电极桥，将对应数量的晶粒设为一组，将组内相邻晶粒的不同极性的电极通过电极桥串接。本发明光刻成本低、隔离槽的形貌特征较佳。 | ||||||
| 5 | 一种具有计数结构的碳粉盒 | CN202410091371.9 | 2024-01-23 | CN117891151A | 2024-04-16 | 姚席珍; 陈志光; 李梦洋 |
| 本发明提供了一种具有计数结构的碳粉盒，包括碳粉盒本体，所述碳粉盒本体的一端设置有齿轮端盖，所述齿轮端盖上设置有打印齿轮组件和计数装置，所述计数装置啮合连接于所述打印齿轮组件，所述计数装置包括：计数齿轮，啮合于所述打印齿轮组件，所述计数齿轮的中部均匀设置有若干拨动件和一个扭簧压件；扭簧，一端固定于所述齿轮端盖上，另一端与所述扭簧压件相接触；拨杆组件，位于所述扭簧的上方，两端架设于所述计数齿轮的两侧，当所述计数齿轮转动时，若干所述拨动件通过所述拨杆组件对打印机内的感应元件进行拨动触发；齿轮复位组件，设置于所述计数齿轮的一侧，并挡在所述计数齿轮表面的计数挡块的运转路径上。本发明涉及碳粉盒技术领域。 | ||||||
| 6 | 一种图像形成装置的控制方法及相关设备 | CN202410024488.5 | 2024-01-05 | CN117891150A | 2024-04-16 | 卜富伟; 龚海飞 |
| 本发明涉及图像形成装置领域，尤其涉及一种图像形成装置的控制方法及相关设备。图像形成装置包括：多个图像承载体、一次转印部件、中间转印体、第一驱动部件以及控制单元；各图像承载体用于承载静电潜像，并通过色调剂显影形成色调剂图像；中间转印体，被配置为可抵接或分离图像承载体，以接收图像承载体上的色调剂图像；一次转印部件，用于将中间转印体抵接在图像承载体上，使图像承载体上的色调剂图像转印在中间转印体上；第一驱动部件，用于驱动一次转印部件移动，使中间转印体在与图像承载体抵接和分离的状态下切换；控制单元，在显影充电部件对图像承载体对应的显影部件的供电开启时，控制一次转印部件驱动中间转印体与图像承载体抵接。 | ||||||
| 7 | 图像形成装置 | CN202311069480.2 | 2023-08-23 | CN117891148A | 2024-04-16 | 小木曾佳树 |
| 提供一种图像形成装置，能够通过目视而简便地判别具备无法正常处理的无线标签的印刷介质。根据实施方式，图像形成装置具有通信设备、转印器以及处理器。通信设备与无线标签通信。转印器将通过显影剂形成的显影剂图像转印于具备与通信设备通信的无线标签的介质。处理器在基于通信设备的与无线标签的通信被正常执行了的情况下，以第一控制值控制转印器的动作，而在基于通信设备的与无线标签的通信未正常结束的情况下，以与第一控制值不同的第二控制值控制转印器的动作。 | ||||||
| 8 | 一种光刻对准方法、装置、电子设备及存储介质 | CN202410295754.8 | 2024-03-15 | CN117891147A | 2024-04-16 | 黄远婷; 梁振浪; 王帅; 刘志成 |
| 本申请提供了一种光刻对准方法、装置、电子设备及存储介质，涉及电路电子半导体集成制造技术领域，包括：使用曝光设备将光罩上的图形在晶圆的当层进行曝光，以在切割道上形成每个曝光场对应的当层拼接标识，当层拼接标识由前层拼接标识按照第一预设比例缩放确定；根据当层拼接误差测量图形，确定晶圆当层相邻曝光场之间对应的拼接误差，当层拼接误差测量图形与前层拼接误差测量图形不重合；将拼接误差输入到对准系统，以使对准系统根据拼接误差完成对准。本申请通过晶圆不同层之间拼接标识的错位设计，避免发生拼接标识的二次刻蚀现象，保证同层之间拼接误差测量的有效性，从而保证光刻对准精度。 | ||||||
| 9 | 一种光刻胶的显影方法 | CN202311799865.4 | 2023-12-25 | CN117891145A | 2024-04-16 | 赵延周 |
| 本发明提供一种光刻胶的显影方法，包括以下步骤：提供一半导体衬底，半导体衬底中设有多个间隔排列的凸起结构；于半导体衬底上方形成覆盖凸起结构显露表面的光刻胶，相邻两个凸起结构之间间隙上方的光刻胶的表面形成有凹坑；于光刻胶上表面形成顶部抗反射涂层，并对形成顶部抗反射涂层后的光刻胶进行曝光处理；采用显影液对进行曝光处理后的光刻胶进行显影处理；去除显影处理后位于光刻胶上方的显影液的残留液及顶部抗反射涂层。本发明的光刻胶的显影方法避免了显影处理后光刻胶与显影液长时间接触反应产生生成物残渣进而出现显影缺陷，保证了光刻工艺的稳定性，确保了后续的产品良率。 | ||||||
| 10 | 基于2D重叠判断的光刻热点检测方法 | CN202410193948.7 | 2024-02-21 | CN117891143A | 2024-04-16 | 王孙康宏; 魏丽军; 蒋宇帆; 何悦; 舒文兰; 刘强 |
| 本发明涉及芯片制造技术领域，尤其涉及一种基于2D重叠判断的光刻热点检测方法，该方法包括以下步骤：根据芯片2D版图中的电路模块，划分出多个正交多边形，其中，基于预设分解方法对所述正交多边形进行矩形分解；根据芯片2D版图中划分出来的所述正交多边形，划分出多个匹配区域；确定待匹配芯片2D版图中的精确区域，以及由所述精确区域延伸出的模糊区域；基于预设匹配规则，在每一所述匹配区域中，将所述正交多边形与所述精确区域和/或所述模糊区域进行匹配判断，得到光刻热点检测结果。本发明提高了光刻热点检测的判断速度和匹配效率。 | ||||||
| 11 | 光栅夹持工装及夹持方法 | CN202410177040.7 | 2024-02-08 | CN117891142A | 2024-04-16 | 曹凯; 李冰 |
| 本发明提供一种光栅夹持工装及夹持方法，涉及光刻技术领域。该光栅夹持工装包括夹持组件，夹持组件包括基板，基板的板面沿X向相对的两侧区域均设有条形口，且各条形口均沿X向延伸；基板的第一板面设有调节部件，调节部件的调节端连接有连接臂，连接臂的夹持端设有夹持头，各连接臂一一对应穿过相应的条形口伸出基板的第二板面，夹持头配置为在调节部件的调节下朝向或背离目标光栅移动以卡入或脱离位于目标光栅侧壁的第一卡槽。该光栅夹持工装能够减少夹持及放置目标光栅的过程中对其造成的碰撞损坏，从而确保目标光栅的测量精度及使用寿命。 | ||||||
| 12 | 一种激光器功率的补偿方法及相关设备 | CN202410079669.8 | 2024-01-19 | CN117891140A | 2024-04-16 | 陈乃奇; 陈知瀚 |
| 本发明提供了一种激光器功率的补偿方法及相关设备，方法包括：步骤1：将第一灰度处理成成第一二值图像；步骤2：用摄像装置依次拍摄每一块第一二值图像带的K处区域，得到N组、每组包括K幅、总共有N*K幅第一二值图像带区块图，求出每一组的K幅第一二值图像带区块图的K个第一网点密度，并根据K个第一网点密度求出第一网点密度均值，总共得到N个第一网点密度均值；步骤3：从N个第一网点密度均值中，选出与相邻两个第一网点密度均值偏离较大的那个第一网点密度均值对应的激光器作为目标激光器，对目标激光器进行功率补偿，以使得用N颗激光器曝光感光涂层后得到的图像的色差更加均匀。 | ||||||
| 13 | 装置、装置的控制方法、信息处理装置、信息处理方法、以及物品制造方法 | CN202311332998.0 | 2023-10-13 | CN117891137A | 2024-04-16 | 茂泉纯 |
| 本公开涉及装置、装置的控制方法、信息处理装置、信息处理方法、以及物品制造方法。一种装置包括控制单元，该控制单元被配置为控制用于调整光学系统的成像特性的调整单元。在跨越多个批次的时段中，控制单元测量光学系统的成像特性，并且决定预测公式中的预测系数以将预测公式拟合到在跨越多个批次的时段中通过测量获得的测量数据。预测公式是多项式函数，该多项式函数包括表示成像特性的测量值的改变的项，该成像特性的测量值的改变是由在批次之间改变照明模式和原版中的至少一个引起的。控制单元决定多项式函数的项，使得拟合残差落入允许的范围内。 | ||||||
| 14 | 转印装置 | CN202311237942.7 | 2023-09-25 | CN117891135A | 2024-04-16 | 朴惠贞; 金泰完; 金准基; 权相民 |
| 提供改进成在使基板和模具对齐的过程中模具的位置不改变的转印装置。转印装置包括：第一支承架；第二支承架，配置于第一支承架的下侧，并支承基板；支承单元，支承模具，并结合于第一支承架；以及升降单元，用于使第二支承架升降。支承单元以第一支承架的宽度方向为基准而配置于第一支承架的内侧，并且至少一部分可移动地结合于第一支承架的下部以能够使模具固定于第一支承架。 | ||||||
| 15 | 光刻胶打胶系统及打胶方法 | CN202410292480.7 | 2024-03-14 | CN117891133A | 2024-04-16 | 李国强; 衣新燕; 李明 |
| 本发明涉及光刻技术领域，具体公开了一种光刻胶打胶系统及打胶方法，其中，光刻胶打胶系统包括控制器及依次通过管路连接的供压组件、光刻胶罐、缓冲罐、排泡过滤组件、回吸阀及喷嘴；排泡过滤组件和回吸阀之间的管路上设有流量计，光刻胶罐为两个，且两者之间连接有压差计；该光刻胶打胶系统基于供压组件对光刻胶罐供压即能使喷嘴进行打胶，并基于流量计采集的、能反映打胶效率的光刻胶流量信息控制供压组件调节光刻胶罐内气压以调节打胶效率，具有结构简单、设备成本低、打胶效率可控的特点，并能实现光刻胶罐无缝切换供胶，确保喷嘴打胶速率在切换光刻胶罐时不会产生变化，使得本申请的光刻胶打胶系统能对硅片表面进行连续性均匀打胶。 | ||||||
| 16 | 一种掩模缺陷检测系统 | CN202311660947.0 | 2023-12-05 | CN117891127A | 2024-04-16 | 尹皓玉; 吴晓斌; 沙鹏飞; 方旭晨; 马钺洋; 高梓翔; 张良乐; 王魁波; 谢婉露; 韩晓泉; 李慧; 罗艳; 谭芳蕊 |
| 本公开提供一种掩模缺陷检测系统，包括：极紫外光源、照明转换装置和真空腔体，所述真空腔体内设置有掩模成像系统，所述掩模成像系统由MEMS振镜、平面反射镜、椭球反射镜、极紫外光刻掩模、成像波带片以及第一图像采集装置；所述MEMS振镜能够构建出任意形状的照明模式。经所述照明转换装置调制后的极紫外光依次经过MEMS振镜、平面反射镜、椭球反射镜聚焦到所述极紫外光刻掩模上，被所述极紫外光刻掩模反射的极紫外光经过成像波带片聚焦，最终在第一图像采集装置上成像。相较于现有技术，本申请采用波带片成像，大大降低了系统的成本和装调难度，并通过MEMS振镜扫描可以实现任意形状的照明模式，能够满足极紫外光刻掩模研发中的照明需求。 | ||||||
| 17 | 非矩形光罩的容器及光罩储存盒 | CN202310999334.3 | 2023-08-09 | CN117891126A | 2024-04-16 | 邱铭乾; 庄家和; 陈昱叡; 薛新民 |
| 本发明揭示了一种非矩形光罩的容器及光罩储存盒，非矩形光罩的容器适用于容纳一椭圆形光罩，非矩形光罩的容器包括：一盖及一基座，盖包括一内侧表面和自内侧表面向下延伸的一分隔壁，内侧表面和分隔壁界定出一椭圆形空间；多个光罩保持器，部分延伸至椭圆形空间中，光罩保持器用于抵持椭圆形光罩的一边缘；盖与基座在经过配置安装后，可以在彼此结合的状态下界定出一椭圆形空间，基座具有多个光罩支撑件，光罩保持器与光罩支撑件在经过配置安装后，可以固定支持椭圆形光罩；本发明提供的一种非矩形光罩的容器及光罩储存盒，能够解决现有光罩容器仅能够容纳矩形光罩的问题。 | ||||||
| 18 | 掩模板及其组件、半导体结构及其形成方法和量测方法 | CN202211221064.5 | 2022-10-08 | CN117891125A | 2024-04-16 | 朱宏亮; 段培业; 张天夫 |
| 一种掩模板及其组件、半导体结构及其形成方法和量测方法，由包括第一掩模板和第二掩模板的掩模组件所构成的半导体结构包括：第二图形化金属层，所述第二图形化金属层包括：至少1个第一量测结构和至少1个第一量测结构；根据所述第二图形化金属层的至少1个第一量测结构和至少1个第一量测结构，量测拼接偏移量。根据电学性能测试结果，监控掩模拼接情况，精度更高，能够准确判断图形对准情况，也为线上缺陷扫描增加了监测位置。 | ||||||
| 19 | 光掩模的形成方法 | CN202211293097.0 | 2022-10-21 | CN117891124A | 2024-04-16 | 林俊良 |
| 本发明公开一种光掩模的形成方法，包括以下步骤。提供第一目标图案，其中第一目标图案包括第一图案区以及第二图案区。第一图案区包括块状图案。第二图案区包括多个条状图案。在第二图案区内定义第一侧壁重设区。对第一目标图案执行目标重定义程序，以获取第二目标图案。基于第二目标图案形成光掩模。 | ||||||
| 20 | 用于EUV光刻的相移空白掩模及光掩模 | CN202310044890.5 | 2023-01-30 | CN117891122A | 2024-04-16 | 金用大; 梁澈圭; 禹美京 |
| 公开一种用于EUV光刻的空白掩模，其包含依序形成于衬底上的反射膜、罩盖膜、蚀刻终止膜、相移薄膜及硬掩模膜。所述相移膜含有钌(Ru)，且所述蚀刻终止膜含有铬(Cr)及铌(Nb)。在所述蚀刻终止膜中，铌(Nb)的含量介于20at％到50at％的范围内，且铬(Cr)的含量介于10at％到40at％的范围内。所述硬掩模膜含有钽(Ta)及氧(O)。所述硬掩模膜中的钽(Ta)的含量高于或等于50at％。运用所述空白掩模，有可能在晶片印刷期间实施高分辨率及NILS，且实施DtC。 | ||||||
QQ群二维码
意见反馈
意见反馈