等离子体暴露面有原位形成保护层的等离子体处理室部件
专利汇可以提供等离子体暴露面有原位形成保护层的等离子体处理室部件专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 涉及一种 等离子体 暴露面有原位形成保护层的等离子体 处理室 部件，具体而言，一种等离子体处理室的部件，所述部件在其等离子体暴露表面上具有液体保护层。所述液体保护层可以通过供应液体到液体通道并且经由所述部件中的液体供给通道输送所述液体来被补充。所述部件可以是边缘环，所述边缘环包围被 支撑 在所述等离子体处理设备中的衬底 支架 上的 半导体 衬底，其中等离子体产生并用于处理所述半导体衬底。可替代地，所述液体保护层可以被 固化 或充分冷却以形成固体保护层。，下面是等离子体暴露面有原位形成保护层的等离子体处理室部件专利的具体信息内容。
1.一种等离子体处理室的部件，等离子体在所述等离子体处理室中产生并用于处理半导体衬底，所述部件包括至少一个等离子体暴露表面以及用于供应等离子体相容液体到所述部件的所述等离子体暴露表面上以在所述等离子体暴露表面上形成液体保护层的装置。
2.如权利要求1所述的部件，其中，
(a)所述用于供应液体的装置包括所述部件中的液体供给通道，其中所述液体供给通道被配置为分配所述液体到所述部件的所述等离子体暴露表面使得所述液体在所述等离子体暴露表面上形成所述液体保护层；
(b)所述用于供应液体的装置包括在所述部件中的液体通道，其中所述液体通道与所述部件中的所述液体供给通道流体连通，使得所述液体通道能通过所述液体供给通道供应所述液体到所述部件的所述等离子体暴露表面上；
(c)所述用于供应液体的装置包括所述部件中的第一和第二液体通道，其中所述第一和第二液体通道与第一组和第二组液体供给通道流体连通，使得每个液体通道可以通过所述液体供给通道供应不同的等离子体相容液体到所述部件的所述等离子体暴露表面；并且/或者
(d)所述用于供应液体的装置包括所述部件中的液体流入通道和液体流出通道，其中所述液体流入通道和所述液体流出通道与所述部件中的液体通道流体连通，使得被供应到所述部件的液体可以往来于所述部件循环。
3.如权利要求2所述的部件，其中，
(a)所述部件是多孔陶瓷，并且所述液体供给通道是所述多孔陶瓷的孔，并且所述孔被配置为通过所述多孔陶瓷的孔输送所述液体到所述部件的所述等离子体暴露表面；或者(b)所述部件是由金属材料制成的，并且所述液体供给通道是毛细管尺寸的孔的形式，所述毛细管尺寸的孔被配置为输送所述液体到所述部件的所述等离子体暴露表面。
4.如权利要求1所述的部件，其中所述部件是被配置为包围半导体衬底的边缘环，所述半导体衬底被安装在所述等离子体处理室中的衬底支架上，并且
(a)所述边缘环具有倾斜的上表面；
(b)所述边缘环具有平坦上表面；
(c)所述边缘环包括内部环形唇缘；
(d)所述边缘环包括外部环形唇缘；
(e)所述边缘环是由氧化铝、矾土、氧化硅、石英、硅、碳化硅、钇铝石榴石、氧化钇、氟化钇、氧化铈、氮化铝、石墨或它们的组合形成；
(f)所述边缘环包括镶嵌其中的一个或多个射频电极；
(g)所述边缘环包括加热器；
(h)所述边缘环中形成有台阶；
(i)所述等离子体暴露表面是所述边缘环的垂直表面；并且/或者
(j)所述等离子体暴露表面是所述边缘环的上表面。
5.如权利要求2所述的部件，其中所述部件是包括衬底支撑表面的衬底支架，所述衬底支撑表面以悬挂方式将半导体衬底支撑在所述衬底支架的上表面的凹口上并且所述等离子体暴露表面包围所述凹口。
6.如权利要求5所述的衬底支架，其中，
(a)所述等离子体暴露表面是所述衬底支架的倾斜上表面；
(b)所述等离子体暴露表面是所述衬底支架的平坦上表面；
(c)所述等离子体暴露表面上形成有台阶，其中所述台阶由所述衬底支架的上表面上的所述凹口限定；
(d)所述等离子体暴露表面是所述衬底支架的垂直表面；
(e)所述等离子体暴露表面是所述衬底支架的上表面；
(e)所述衬底支架包括内部环形唇缘；并且/或者
(f)所述衬底支架包括外部环形唇缘。
7.如权利要求1所述的部件，其中，
(a)所述部件是由氧化铝、矾土、氧化硅、石英、硅、碳化硅、钇铝石榴石、氧化钇、氟化钇、氧化铈、氮化铝、石墨或它们的组合形成；并且/或者
(b)所述部件包括在其等离子体暴露表面上的微型槽，其中所述微型槽被配置为引导被供应到所述部件的所述等离子体暴露表面的液体。
8.一种等离子体处理室的衬底支撑组件，等离子体在所述等离子体处理室中产生并被用于处理半导体衬底，所述衬底支撑组件包括如权利要求4所述的边缘环。
9.一种半导体等离子体处理设备，包括：
真空室，各个半导体衬底在所述真空室中被处理；
与所述真空室流体连通的处理气体源，其用于供应处理气体到所述真空室中；
射频能量源，其适于在所述真空室中将所述处理气体激发成等离子体状态；
如权利要求1所述的部件，其中所述用于供应所述等离子体相容液体的装置包括所述部件中的供给通道；以及
液体源，其输送所述等离子体相容液体到所述供给通道。
10.如权利要求9所述的半导体等离子体处理设备，其中，
(a)所述设备是电感耦合等离子体处理设备；
(b)所述设备是电容耦合等离子体处理设备；
(c)所述设备是电子回旋共振等离子体处理设备；
(d)所述设备是螺旋波等离子体处理设备；或者
(e)所述设备是微波等离子体处理设备。
11.如权利要求9所述的半导体等离子体处理设备，其中，
(a)所述等离子体相容液体以预定压力被存储在所述液体源中，使得所述液体源与所述真空室之间的压差迫使所述液体朝着所述部件的所述等离子体暴露表面流入所述液体供给通道中，其中所述预定压力可以被控制使得所述部件的所述等离子体暴露表面上的液体层的厚度可以维持在预定厚度；或者
(b)所述液体源包括泵，其中所述泵被配置为朝着所述部件的所述等离子体暴露表面泵送所述等离子体相容液体，使得所述部件的所述等离子体暴露表面上的液体的厚度可以维持在预定厚度。
12.如权利要求9所述的半导体等离子体处理设备，其中，
(a)所述部件是边缘环；
(b)所述部件与衬底支撑组件的粘结层相邻，其中被供应到与所述粘结层相邻的所述部件的所述等离子体暴露表面上的所述等离子体相容液体被配置为供应到所述等离子体暴露表面使得所述液体覆盖所述粘结层；并且/或者
所述部件与封边相邻，所述封边被配置为包围所述衬底支撑组件的粘结层，其中被供应到与所述封边相邻的所述部件的所述等离子体暴露表面上的所述等离子体相容液体被配置为供应到所述等离子体暴露表面使得所述液体覆盖所述封边。
13.如权利要求9所述的半导体等离子体处理设备，其中，
(a)所述等离子体相容液体是可固化液体；
(b)所述等离子体相容液体包括在所述部件的所述等离子体暴露表面上彼此发生反应以形成固化材料的固化层的两种单独的液体；
(c)所述等离子体相容液体是可流动的氧化物前体；
(d)所述等离子体相容液体是硅树脂基液体；
(e)所述等离子体相容液体是离子流体；
-6
(f)所述等离子体相容液体在约20℃具有约10 托以下的蒸气压力；
(g)所述等离子体相容液体是全氟聚醚；
(h)所述等离子体相容液体具有约800g/mol至5,000g/mol的分子量；
(i)所述等离子体相容液体具有大于约1,000g/mol的分子量；
(j)所述等离子体相容液体在约120℃以下的温度形成固体；
(k)所述等离子体相容液体在约80℃以下的温度形成固体；并且/或者
(l)所述等离子体相容液体选自由以下各项组成的组：苯基甲基硅氧烷，二甲基环硅氧烷，四甲基四苯基三硅氧烷，五苯基三甲基三硅氧烷，1-乙基-3-甲基咪唑双{(三氟甲基)磺酰基}酰胺，1-辛基-3-甲基咪唑双(三氟甲磺酰)亚胺，1-丁基-3-甲基咪唑二氰胺，氢氟乙烯，四氟乙烯，全氟氧杂环丁烷，1-乙基-3-甲基咪唑氯化物，1-乙基-3-甲基咪唑二氰胺，1-丁基-3，5-二甲基吡啶溴化物，1-丁基-3-甲基咪唑-六氟磷酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑硫酸氢盐，1-丁基-3-甲基咪唑碘化物，1-丁基-3-甲基咪唑甲烷磺酸盐，
1-丁基-3-甲基咪唑甲基碳酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑甲基硫酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑硝酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑辛基硫酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑四氯铝，1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸酯，1-丁基-3-甲基咪唑硫氰酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑甲苯磺酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑三氟醋酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑三氟甲磺酸盐，1-(3-氰基丙基)-3-甲基咪唑双(三氟甲基磺酰)酰胺，1-(3-氰基丙基)-3-甲基咪唑氯化物，1-(3-氰基丙基)-3-甲基咪唑二氰胺，1-癸基-3-甲基咪唑氯化物，1-癸基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐，1,3-二乙氧基咪唑双(三氟甲基磺酰)亚胺，1,3-二乙氧基咪唑六氟磷酸盐，1,3-二羟基咪唑双(三氟甲基磺酰)亚胺，1,3-二羟基-2-甲基咪唑双(三氟甲基磺酰)亚胺，1,3-二甲氧基咪唑双(三氟甲基磺酰)亚胺，1,3-二甲氧基咪唑六氟磷酸盐，1,3-二甲氧基-2-甲基咪唑双(三氟甲基磺酰)亚胺，1,3-二甲氧基-2-甲基咪唑六氟磷酸盐，1,3-二甲基咪唑二甲基磷酸酯，1,3-二甲基咪唑甲烷磺酸盐，1,3-二甲基咪唑甲基硫酸盐，1,2-二甲基-3-丙基咪唑双(三氟甲基磺酰)亚胺，1,2-二甲基-3-丙基咪唑三(三氟甲基磺酰)甲基化物，1-十二烷基-3-甲基咪唑碘化物，1-乙基-2,3-二甲基咪唑四氟硼酸盐，1-乙基-2,3-二甲基咪唑氯化物，1-乙基-2,3-二甲基咪唑乙基硫酸盐，
1-乙基-2,3-二甲基咪唑六氟磷酸盐，1-乙基-2,3-二甲基咪唑碳酸甲酯，1-乙基-3-甲基咪唑醋酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑氨基醋酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑(S)-2-氨基丙酸酯，
1-乙基-3-甲基咪唑双(五氟乙基磺酰)亚胺，1-乙基-3-甲基咪唑双(三氟甲基磺酰)亚胺，1-乙基-3-甲基咪唑溴化物，1-乙基-3-甲基咪唑氯化物，1-乙基-3-甲基咪唑二丁基磷酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑二乙基磷酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑二甲基磷酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑乙基硫酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑碳酸氢盐，1-乙基-3-甲基咪唑碳酸氢盐溶液，1-乙基-3-甲基咪唑硫酸氢盐，1-乙基-3-甲基咪唑氢氧化物溶液，1-乙基-3-甲基咪唑碘化物，1-乙基-3-甲基咪唑L-(+)-乳酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑甲烷磺酸盐，1-乙基-3-甲基-咪唑甲基碳酸盐溶液，1-乙基-3-甲基咪唑甲基硫酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑硝酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑四氯铝，1-乙基-3-甲基咪唑四氯铝，1-乙基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑1,1,2,2-四氟乙烷磺酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑硫氰酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑甲苯磺酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑三氟甲磺酸盐，1-己基-3-甲基咪唑双(三氟甲磺酰)亚胺，1-己基-3-甲基咪唑氯化物，1-己基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐，1-己基-3-甲基咪唑碘化物，1-己基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐，1-己基-3-甲基咪唑三氟甲烷磺酸盐，1-(2-羟乙基)-3-甲基咪唑二氰胺，1-甲基咪唑氯化物，1-甲基咪唑硫酸氢盐，1-甲基-3-辛基咪唑氯化物，1-甲基-3-辛基咪唑六氟磷酸盐，1-甲基-3-辛基咪唑四氟硼酸盐，1-甲基-3-辛基咪唑三氟甲磺酸盐，
1-甲基-3-丙基咪唑碘化物，1-甲基-3-丙基咪唑碳酸甲酯溶液，1-甲基-3-(3,3,4,4,5,
5,6,6,7,7,8,8,8-十三氟辛基)咪唑六氟磷酸盐，1-甲基-3-乙烯基咪唑碳酸甲酯溶液，
1,2,3-三甲基咪唑硫酸甲酯，1,2,3-三甲基咪唑三氟甲磺酸酯丙烯酰胺，1-丁基-3-甲基咪唑醋酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑氯化物，1-丁基-3-甲基咪唑硫酸氢盐，1-丁基-3-甲基咪唑甲烷磺酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑甲基硫酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑硫氰酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑三氟甲磺酸盐，1-乙基-2,3-二甲基咪唑乙基硫酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑醋酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑氯化物，1-乙基-3-甲基咪唑二氰胺，1-乙基-3-甲基咪唑二乙基磷酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑乙基硫酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑硫酸氢盐，1-乙基-3-甲基咪唑氢氧化物溶液，1-乙基-3-甲基咪唑甲烷磺酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑四氯铝，1-乙基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑硫氰酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑三氟甲磺酸盐，1-甲基咪唑氯化物，1-甲基咪唑硫酸氢盐，α,α-[(甲基-9-十八碳烯基亚氨基)二-2,1-乙二基]二(ω-羟基)-聚(氧-1,2-乙二基)甲基硫酸盐，1,2,3-三甲基咪唑硫酸甲酯，1,2,4-三甲基吡唑甲基硫酸盐，四丁基鏻甲磺酸酯，四丁基鏻四氟硼酸盐，四丁基鏻对甲苯磺酸酯，三丁基甲基鏻磷酸二丁酯，三丁基甲基鏻碳酸甲酯溶液，三丁基甲基鏻硫酸甲酯，三乙基甲基鏻磷酸二丁酯，三己基十四烷化鏻双(三氟甲基磺酰)酰胺，三己基十四烷化鏻双(2,4,4-三甲基戊基)次膦酸，三己基十四烷化鏻溴化物，三己基十四烷化鏻氯化物，三己基十四烷化鏻癸酸盐，三己基十四烷化鏻双氰胺，3-(三苯基磷)丙烷-1-磺酸酯，3-(三苯基磷)丙烷-1-磺酸甲苯磺酸酯，
1-丁基-1-甲基哌啶四氟硼酸盐，1-丁基-1-甲基哌啶双(三氟甲基磺酰)亚胺，1-丁基-1-甲基哌啶六氟磷酸盐，4-乙基-4-甲基吗啉甲基碳酸盐溶液，1,2,3-三(二乙基氨基)环丙基双(三氟甲烷磺酰)亚胺，1,2,3-三(二乙基氨基)环丙基二氰胺，环丙基二苯基锍四氟硼酸盐，三乙基锍双(三氟甲基磺酰)亚胺，1-丁基-1-甲基吡咯烷双(三氟甲基磺酰)亚胺，1-丁基-1-甲基吡咯溴化物，1-丁基-1-甲基吡咯烷氯化物，1-丁基-1-甲基吡咯烷二氰胺，1-丁基-1-甲基吡咯烷六氟磷酸盐，1-丁基-1-甲基吡咯烷碘化物，1-丁基-1-甲基吡咯烷甲基碳酸盐溶液，1-丁基-1-甲基吡咯烷四氟硼酸盐，1-丁基-1-甲基吡咯烷三氟甲磺酸盐，1-乙基-1-甲基吡咯烷双(三氟甲基磺酰)亚胺，1-乙基-1-甲基吡咯烷溴化物，1-乙基-1-甲基吡咯烷六氟磷酸盐，1-乙基-1-甲基吡咯烷四氟硼酸盐，
1-丁基-3-甲基吡啶双(三氟甲基磺酰)亚胺，1-丁基-4-甲基吡啶六氟磷酸盐，1-丁基-4-甲基吡啶碘化物，1-丁基-4-甲基吡啶四氟硼酸盐，1-丁基吡啶溴化物，1-(3-氰基丙基)吡啶双(三氟甲基磺酰)亚胺，1-(3-氰基丙基)吡啶氯化物，1-乙基吡啶四氟硼酸盐，N-乙基吡啶溴化物-d10，3-甲基-1-丙基吡啶双(三氟甲磺酰)亚胺，1,2,4-三甲基吡唑甲基硫酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑氯化物，1-丁基-3-甲基咪唑氯化物，1-乙基-3-甲基咪唑甲磺酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑乙基硫酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑二乙基磷酸盐，
1-乙基-3-甲基咪唑二氰酰胺，1-乙基-3-甲基咪唑醋酸盐，三-(2-羟乙基)甲基铵甲基硫酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑硫氰酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑三氟甲磺酸酯，1-乙基-3-甲基咪唑双(三氟甲磺酰)亚胺，1-乙基-3-甲基咪唑碳酸甲酯，1-丁基-3-甲基咪唑碳酸甲酯，苄基二甲基四癸基无水氯化铵，苄基三甲基铵三溴化丙烯酰胺，丁基三甲基铵双(三氟甲基磺酰)亚胺，二乙基甲基(2-甲氧基乙基)铵双(三氟甲基磺酰)亚胺，乙基二甲基丙基铵双(三氟甲基磺酰)亚胺，2-羟乙基-三甲基铵L-(+)-乳酸盐，甲基-三-十八烷基溴化铵，甲基三辛基铵双(三氟甲基磺酰)亚胺，甲基三辛基铵双(三氟甲基磺酰)亚胺，甲基三辛基硫酸氢铵，甲基三辛基硫代水杨酸铵，苯甲酸四丁基铵，四丁基铵双-三氟甲烷磺酰亚胺，四丁基铵十七碳氟辛烷磺酸盐，四丁基氢氧化铵30-水合物，四丁基甲磺酸铵丙烯酰胺，四丁基亚硝酸铵，四丁基全氟丁烷磺酸铵，四丁基铵琥珀酰亚铵，苯硫酚四丁基铵，四丁基铵三溴化丙烯酰胺，四丁基铵三碘化物，四溴十二烷基铵，四氯十二烷基铵，四溴丙烯酰胺十六烷基铵，四溴己基铵丙烯酰胺，四己基硫酸氢铵，四己基碘化铵，四己基四氟硼酸铵，四(癸基)溴化铵，四甲基氢氧化铵五水合物，四辛基溴化铵丙烯酰胺，三丁基甲基氯化铵，三丁基甲基二丁基磷酸铵，三丁基甲基铵碳酸甲酯，三丁基甲基铵硫酸甲酯，三(2-羟乙基)甲基铵硫酸甲酯，三乙基甲基铵二丁基磷酸酯，三乙基甲基铵碳酸甲酯，醋酸胆碱，1-烯丙基-3-甲基咪唑双(三氟甲基磺酰)亚胺，
1-烯丙基-3-甲基咪唑溴化物，1-烯丙基-3-甲基咪唑氯化物，1-烯丙基-3-甲基咪唑二氰胺，1-烯丙基-3-甲基咪唑碘化物，1-苄基-3-甲基咪唑氯化物，1-苄基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐，1-苄基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐，1,3-双(氰基甲基)咪唑双(三氟甲基磺酰)亚胺，1,3-双(氰基甲基)咪唑氯化丙烯酰胺，1-丁基-2,3-二甲基咪唑氯化物，1-丁基-2,3-二甲基咪唑六氟磷酸盐，1-丁基-2,3-二甲基咪唑四氟硼酸盐，4-(3-丁基-1-咪唑基)-1-丁烷磺酸盐，4-(3-丁基-1-咪唑基)-1-丁烷酸三氟甲烷磺酸酯，1-丁基-3-甲基咪唑醋酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑双(三氟甲磺酰)亚胺，1-丁基-3-甲基咪唑溴化物，
1-丁基-3-甲基咪唑氯化物，1-丁基-3-甲基咪唑磷酸二丁酯，1-丁基-3-甲基咪唑六氟锑酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑硫酸氢盐，1-丁基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐，以及它们的混合物。
14.一种在真空室中处理半导体衬底时在等离子体处理设备的部件的等离子体暴露表面上形成液体保护层的方法，所述方法包括从液体源供应等离子体相容液体到所述部件的所述等离子体暴露表面上以便在所述部件的所述等离子体暴露表面上形成液体保护层，其中形成所述液体保护层的所述液体在对所述真空室中的半导体衬底进行等离子体处理期间被原位补充到所述部件的所述等离子体暴露表面。
15.如权利要求14所述的方法，进一步包括：
(a)控制所述液体源与所述真空室之间的压差，使得所述液体源与所述真空室之间的所述压差迫使所述部件中的液体供给通道中的液体朝着所述等离子体暴露表面流动，其中所述压差在处理所述半导体衬底期间能在所述部件的所述等离子体暴露表面上维持预定厚度的所述液体层；或者
(b)朝着所述部件的所述等离子体暴露表面泵送所述液体源中的液体并且在处理所述半导体衬底期间在所述等离子体暴露表面上维持预定厚度的所述液体层。
16.如权利要求14所述的方法，其中，
(a)所述等离子体相容液体被供应到所述部件的所述等离子体暴露表面，使得所述液体保护层具有约0.5微米至4,000微米的厚度；
(b)所述等离子体相容液体被供应到所述部件的所述等离子体暴露表面，使得所述液体保护层具有约100微米或更大的厚度；
(c)所述等离子体相容液体被供应到所述部件的所述等离子体暴露表面上的微型槽中使得被供应到所述部件的所述等离子体暴露表面上的所述液体被所述微型槽引导；
(d)所述等离子体相容液体是可流动的氧化物前体；
(e)所述等离子体相容液体是离子流体；
-6
(f)所述等离子体相容液体在约20℃具有约10 托以下的蒸气压力；
(g)所述等离子体相容液体是全氟聚醚；
(h)所述等离子体相容液体具有约800g/mol至5,000g/mol的分子量；
(i)所述等离子体相容液体具有大于约1,000g/mol的分子量；
(j)所述等离子体相容液体在约120℃以下的温度形成固体；
(k)所述等离子体相容液体在约80℃以下的温度形成固体；并且/或者
(l)所述等离子体相容液体选自由以下各项组成的组：苯基甲基硅氧烷，二甲基环硅氧烷，四甲基四苯基三硅氧烷，五苯基三甲基三硅氧烷，1-乙基-3-甲基咪唑双{(三氟甲基)磺酰基}酰胺，1-辛基-3-甲基咪唑双(三氟甲磺酰)亚胺，1-丁基-3-甲基咪唑二氰胺，氢氟乙烯，四氟乙烯，全氟氧杂环丁烷，1-乙基-3-甲基咪唑氯化物，1-乙基-3-甲基咪唑二氰胺，1-丁基-3，5-二甲基吡啶溴化物，1-丁基-3-甲基咪唑-六氟磷酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑硫酸氢盐，1-丁基-3-甲基咪唑碘化物，1-丁基-3-甲基咪唑甲烷磺酸盐，
1-丁基-3-甲基咪唑甲基碳酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑甲基硫酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑硝酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑辛基硫酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑四氯铝，1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸酯，1-丁基-3-甲基咪唑硫氰酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑甲苯磺酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑三氟醋酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑三氟甲磺酸盐，1-(3-氰基丙基)-3-甲基咪唑双(三氟甲基磺酰)酰胺，1-(3-氰基丙基)-3-甲基咪唑氯化物，1-(3-氰基丙基)-3-甲基咪唑二氰胺，1-癸基-3-甲基咪唑氯化物，1-癸基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐，1,3-二乙氧基咪唑双(三氟甲基磺酰)亚胺，1,3-二乙氧基咪唑六氟磷酸盐，1,3-二羟基咪唑双(三氟甲基磺酰)亚胺，1,3-二羟基-2-甲基咪唑双(三氟甲基磺酰)亚胺，1,3-二甲氧基咪唑双(三氟甲基磺酰)亚胺，1,3-二甲氧基咪唑六氟磷酸盐，1,3-二甲氧基-2-甲基咪唑双(三氟甲基磺酰)亚胺，1,3-二甲氧基-2-甲基咪唑六氟磷酸盐，1,3-二甲基咪唑二甲基磷酸酯，1,3-二甲基咪唑甲烷磺酸盐，1,3-二甲基咪唑甲基硫酸盐，1,2-二甲基-3-丙基咪唑双(三氟甲基磺酰)亚胺，1,2-二甲基-3-丙基咪唑三(三氟甲基磺酰)甲基化物，1-十二烷基-3-甲基咪唑碘化物，1-乙基-2,3-二甲基咪唑四氟硼酸盐，1-乙基-2,3-二甲基咪唑氯化物，1-乙基-2,3-二甲基咪唑乙基硫酸盐，
1-乙基-2,3-二甲基咪唑六氟磷酸盐，1-乙基-2,3-二甲基咪唑碳酸甲酯，1-乙基-3-甲基咪唑醋酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑氨基醋酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑(S)-2-氨基丙酸酯，
1-乙基-3-甲基咪唑双(五氟乙基磺酰)亚胺，1-乙基-3-甲基咪唑双(三氟甲基磺酰)亚胺，1-乙基-3-甲基咪唑溴化物，1-乙基-3-甲基咪唑氯化物，1-乙基-3-甲基咪唑二丁基磷酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑二乙基磷酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑二甲基磷酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑乙基硫酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑碳酸氢盐，1-乙基-3-甲基咪唑碳酸氢盐溶液，1-乙基-3-甲基咪唑硫酸氢盐，1-乙基-3-甲基咪唑氢氧化物溶液，1-乙基-3-甲基咪唑碘化物，1-乙基-3-甲基咪唑L-(+)-乳酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑甲烷磺酸盐，1-乙基-3-甲基-咪唑甲基碳酸盐溶液，1-乙基-3-甲基咪唑甲基硫酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑硝酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑四氯铝，1-乙基-3-甲基咪唑四氯铝，1-乙基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑1,1,2,2-四氟乙烷磺酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑硫氰酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑甲苯磺酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑三氟甲磺酸盐，1-己基-3-甲基咪唑双(三氟甲磺酰)亚胺，1-己基-3-甲基咪唑氯化物，1-己基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐，1-己基-3-甲基咪唑碘化物，1-己基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐，1-己基-3-甲基咪唑三氟甲烷磺酸盐，1-(2-羟乙基)-3-甲基咪唑二氰胺，1-甲基咪唑氯化物，1-甲基咪唑硫酸氢盐，1-甲基-3-辛基咪唑氯化物，1-甲基-3-辛基咪唑六氟磷酸盐，1-甲基-3-辛基咪唑四氟硼酸盐，1-甲基-3-辛基咪唑三氟甲磺酸盐，
1-甲基-3-丙基咪唑碘化物，1-甲基-3-丙基咪唑碳酸甲酯溶液，1-甲基-3-(3,3,4,4,5,
5,6,6,7,7,8,8,8-十三氟辛基)咪唑六氟磷酸盐，1-甲基-3-乙烯基咪唑碳酸甲酯溶液，
1,2,3-三甲基咪唑硫酸甲酯，1,2,3-三甲基咪唑三氟甲磺酸酯丙烯酰胺，1-丁基-3-甲基咪唑醋酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑氯化物，1-丁基-3-甲基咪唑硫酸氢盐，1-丁基-3-甲基咪唑甲烷磺酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑甲基硫酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑硫氰酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑三氟甲磺酸盐，1-乙基-2,3-二甲基咪唑乙基硫酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑醋酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑氯化物，1-乙基-3-甲基咪唑二氰胺，1-乙基-3-甲基咪唑二乙基磷酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑乙基硫酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑硫酸氢盐，1-乙基-3-甲基咪唑氢氧化物溶液，1-乙基-3-甲基咪唑甲烷磺酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑四氯铝，1-乙基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑硫氰酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑三氟甲磺酸盐，1-甲基咪唑氯化物，1-甲基咪唑硫酸氢盐，α,α-[(甲基-9-十八碳烯基亚氨基)二-2,1-乙二基]二(ω-羟基)-聚(氧-1,2-乙二基)甲基硫酸盐，1,2,3-三甲基咪唑硫酸甲酯，1,2,4-三甲基吡唑甲基硫酸盐，四丁基鏻甲磺酸酯，四丁基鏻四氟硼酸盐，四丁基鏻对甲苯磺酸酯，三丁基甲基鏻磷酸二丁酯，三丁基甲基鏻碳酸甲酯溶液，三丁基甲基鏻硫酸甲酯，三乙基甲基鏻磷酸二丁酯，三己基十四烷化鏻双(三氟甲基磺酰)酰胺，三己基十四烷化鏻双(2,4,4-三甲基戊基)次膦酸，三己基十四烷化鏻溴化物，三己基十四烷化鏻氯化物，三己基十四烷化鏻癸酸盐，三己基十四烷化鏻双氰胺，3-(三苯基磷)丙烷-1-磺酸酯，3-(三苯基磷)丙烷-1-磺酸甲苯磺酸酯，
1-丁基-1-甲基哌啶四氟硼酸盐，1-丁基-1-甲基哌啶双(三氟甲基磺酰)亚胺，1-丁基-1-甲基哌啶六氟磷酸盐，4-乙基-4-甲基吗啉甲基碳酸盐溶液，1,2,3-三(二乙基氨基)环丙基双(三氟甲烷磺酰)亚胺，1,2,3-三(二乙基氨基)环丙基二氰胺，环丙基二苯基锍四氟硼酸盐，三乙基锍双(三氟甲基磺酰)亚胺，1-丁基-1-甲基吡咯烷双(三氟甲基磺酰)亚胺，1-丁基-1-甲基吡咯溴化物，1-丁基-1-甲基吡咯烷氯化物，1-丁基-1-甲基吡咯烷二氰胺，1-丁基-1-甲基吡咯烷六氟磷酸盐，1-丁基-1-甲基吡咯烷碘化物，1-丁基-1-甲基吡咯烷甲基碳酸盐溶液，1-丁基-1-甲基吡咯烷四氟硼酸盐，1-丁基-1-甲基吡咯烷三氟甲磺酸盐，1-乙基-1-甲基吡咯烷双(三氟甲基磺酰)亚胺，1-乙基-1-甲基吡咯烷溴化物，1-乙基-1-甲基吡咯烷六氟磷酸盐，1-乙基-1-甲基吡咯烷四氟硼酸盐，
1-丁基-3-甲基吡啶双(三氟甲基磺酰)亚胺，1-丁基-4-甲基吡啶六氟磷酸盐，1-丁基-4-甲基吡啶碘化物，1-丁基-4-甲基吡啶四氟硼酸盐，1-丁基吡啶溴化物，1-(3-氰基丙基)吡啶双(三氟甲基磺酰)亚胺，1-(3-氰基丙基)吡啶氯化物，1-乙基吡啶四氟硼酸盐，N-乙基吡啶溴化物-d10，3-甲基-1-丙基吡啶双(三氟甲磺酰)亚胺，1,2,4-三甲基吡唑甲基硫酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑氯化物，1-丁基-3-甲基咪唑氯化物，1-乙基-3-甲基咪唑甲磺酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑乙基硫酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑二乙基磷酸盐，
1-乙基-3-甲基咪唑二氰酰胺，1-乙基-3-甲基咪唑醋酸盐，三-(2-羟乙基)甲基铵甲基硫酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑硫氰酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑三氟甲磺酸酯，1-乙基-3-甲基咪唑双(三氟甲磺酰)亚胺，1-乙基-3-甲基咪唑碳酸甲酯，1-丁基-3-甲基咪唑碳酸甲酯，苄基二甲基四癸基无水氯化铵，苄基三甲基铵三溴化丙烯酰胺，丁基三甲基铵双(三氟甲基磺酰)亚胺，二乙基甲基(2-甲氧基乙基)铵双(三氟甲基磺酰)亚胺，乙基二甲基丙基铵双(三氟甲基磺酰)亚胺，2-羟乙基-三甲基铵L-(+)-乳酸盐，甲基-三-十八烷基溴化铵，甲基三辛基铵双(三氟甲基磺酰)亚胺，甲基三辛基铵双(三氟甲基磺酰)亚胺，甲基三辛基硫酸氢铵，甲基三辛基硫代水杨酸铵，苯甲酸四丁基铵，四丁基铵双-三氟甲烷磺酰亚胺，四丁基铵十七碳氟辛烷磺酸盐，四丁基氢氧化铵30-水合物，四丁基甲磺酸铵丙烯酰胺，四丁基亚硝酸铵，四丁基全氟丁烷磺酸铵，四丁基铵琥珀酰亚铵，苯硫酚四丁基铵，四丁基铵三溴化丙烯酰胺，四丁基铵三碘化物，四溴十二烷基铵，四氯十二烷基铵，四溴丙烯酰胺十六烷基铵，四溴己基铵丙烯酰胺，四己基硫酸氢铵，四己基碘化铵，四己基四氟硼酸铵，四(癸基)溴化铵，四甲基氢氧化铵五水合物，四辛基溴化铵丙烯酰胺，三丁基甲基氯化铵，三丁基甲基二丁基磷酸铵，三丁基甲基铵碳酸甲酯，三丁基甲基铵硫酸甲酯，三(2-羟乙基)甲基铵硫酸甲酯，三乙基甲基铵二丁基磷酸酯，三乙基甲基铵碳酸甲酯，醋酸胆碱，1-烯丙基-3-甲基咪唑双(三氟甲基磺酰)亚胺，
1-烯丙基-3-甲基咪唑溴化物，1-烯丙基-3-甲基咪唑氯化物，1-烯丙基-3-甲基咪唑二氰胺，1-烯丙基-3-甲基咪唑碘化物，1-苄基-3-甲基咪唑氯化物，1-苄基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐，1-苄基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐，1,3-双(氰基甲基)咪唑双(三氟甲基磺酰)亚胺，1,3-双(氰基甲基)咪唑氯化丙烯酰胺，1-丁基-2,3-二甲基咪唑氯化物，1-丁基-2,3-二甲基咪唑六氟磷酸盐，1-丁基-2,3-二甲基咪唑四氟硼酸盐，4-(3-丁基-1-咪唑基)-1-丁烷磺酸盐，4-(3-丁基-1-咪唑基)-1-丁烷酸三氟甲烷磺酸酯，1-丁基-3-甲基咪唑醋酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑双(三氟甲磺酰)亚胺，1-丁基-3-甲基咪唑溴化物，
1-丁基-3-甲基咪唑氯化物，1-丁基-3-甲基咪唑磷酸二丁酯，1-丁基-3-甲基咪唑六氟锑酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑硫酸氢盐，1-丁基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐，以及它们的混合物。
17.如权利要求14所述的方法，其进一步包括使所述液体循环，并且
(a)通过使所述液体循环通过换热器和所述部件中的液体通道来维持所述等离子体暴露表面在受控温度；
(b)使所述液体循环通过过滤器，使得由于处理所述半导体衬底得到的所述液体中的杂质被去除；并且/或者
(c)使所述液体循环通过放电导管，所述放电导管去除由于暴露于所述等离子体而在所述液体中产生的电荷。
18.如权利要求14所述的方法，其中所述液体以足以补偿在对所述半导体衬底进行等离子体处理期间等离子体溶蚀的所述液体层的速率被连续供应到所述等离子体暴露表面。
19.如权利要求14所述的方法，其中所述液体在对所述半导体衬底进行等离子体处理期间被连续供应到所述液体层的上部并且从所述液体层的下部被抽出，并且其中，(a)所述部件的所述等离子体暴露表面与上面支撑有所述半导体衬底的衬底支撑组件的粘结层相邻，使得被供应到所述部件的所述等离子体暴露表面的液体形成覆盖所述粘结层的环形液体层；
(b)所述部件的所述等离子体暴露表面与包围上面支撑有所述半导体衬底的衬底支撑组件的粘结层的封边相邻，使得被供应到所述部件的所述等离子体暴露表面的液体形成覆盖所述封边的环形液体层；
(c)所述部件的所述等离子体暴露表面与上面支撑有所述半导体衬底的衬底支架相邻，使得被供应到所述部件的所述等离子体暴露表面的所述液体形成覆盖所述衬底支架的表面的环形液体层；并且/或者
(d)所述部件的所述等离子体暴露表面与被配置为支撑所述半导体衬底的衬底支撑组件相邻，使得所述半导体衬底的外周悬挂在所述衬底支架上，其中所述液体层被维持的厚度足以在暴露于所述等离子体的所述液体层的表面与所述半导体衬底的外周的下表面之间提供预定间隙。
20.如权利要求14所述的方法，其中：
(a)所述部件包括多孔陶瓷材料，并且所述液体通过经由所述多孔陶瓷材料被芯吸到所述等离子体暴露表面而被供应到所述等离子体暴露表面；或者
(b)所述液体通过经由所述部件中的毛细管尺寸的孔被供应到所述等离子体暴露表面。
21.如权利要求14所述的方法，其中所述部件的所述等离子体暴露表面是包围所述半导体衬底的边缘环的上表面和/或侧面。
22.一种在等离子体处理设备中的部件的等离子体暴露表面上原位形成固体保护层的方法，所述等离子体处理设备被配置为在真空室中处理半导体衬底，所述方法包括从液体源供应等离子体相容液体到所述部件的所述等离子体暴露表面上以便在所述部件的所述等离子体暴露表面上形成液体保护层，并且固化所述部件的所述等离子体暴露表面上的所述液体保护层，由此所述固体保护层，其中形成所述液体保护层的所述液体是可固化液体。
23.如权利要求22所述的方法，其中所述液体保护层在对所述半导体衬底进行等离子体处理之前被固化在所述等离子体暴露表面上，所述固化的实现方式为：
(a)用所述等离子体的紫外线照射，从而形成所述固体保护层；或者
(b)输送两种液体到所述等离子体暴露表面并且使所述两种液体在所述部件的所述等离子体暴露表面上发生反应以形成固体保护层。
24.如权利要求22所述的方法，其中所述等离子体相容液体是硅树脂基液体，所述硅树脂基液体在固化后形成高纯度硅树脂氧化物固体保护层。
25.如权利要求22所述的方法，其进一步包括在所述真空室中对半导体衬底进行等离子体处理。
26.一种在等离子体处理设备中的部件的等离子体暴露表面上原位形成固体保护层的方法，所述等离子体处理设备被配置为在真空室中处理半导体衬底，所述方法包括：加热等离子体相容固体以形成等离子体相容液体；供应所述等离子体相容液体到所述部件的等离子暴露表面以便在所述部件的所述等离子体暴露表面上形成液体保护层；并且冷却所述部件的所述等离子体暴露表面上的所述液体保护层从而形成所述固体保护层。
27.如权利要求25所述的方法，其进一步包括在所述真空室中对半导体衬底进行等离子体处理。
等离子体暴露面有原位形成保护层的等离子体处理室部件
技术领域
背景技术
发明内容
具体实施方式
1-十二烷基-3-甲基咪唑碘化物，1-乙基-2,3-二甲基咪唑四氟硼酸盐，1-乙基-2,3-二甲基咪唑氯化物，1-乙基-2,3-二甲基咪唑乙基硫酸盐，1-乙基-2,3-二甲基咪唑六氟磷酸盐，1-乙基-2,3-二甲基咪唑碳酸甲酯，1-乙基-3-甲基咪唑醋酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑氨基醋酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑(S)-2-氨基丙酸酯，1-乙基-3-甲基咪唑双(五氟乙基磺酰)亚胺，1-乙基-3-甲基咪唑双(三氟甲基磺酰)亚胺，1-乙基-3-甲基咪唑溴化物，1-乙基-3-甲基咪唑氯化物，1-乙基-3-甲基咪唑二丁基磷酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑二乙基磷酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑二甲基磷酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑乙基硫酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑碳酸氢盐，1-乙基-3-甲基咪唑碳酸氢盐溶液，1-乙基-3-甲基咪唑硫酸氢盐，1-乙基-3-甲基咪唑氢氧化物溶液，
1-乙基-3-甲基咪唑碘化物，1-乙基-3-甲基咪唑L-(+)-乳酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑甲烷磺酸盐，1-乙基-3-甲基-咪唑甲基碳酸盐溶液，1-乙基-3-甲基咪唑甲基硫酸盐，
1-乙基-3-甲基咪唑硝酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑四氯铝，1-乙基-3-甲基咪唑四氯铝，
1-乙基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑1,1,2,2-四氟乙烷磺酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑硫氰酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑甲苯磺酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑三氟甲磺酸盐，1-己基-3-甲基咪唑双(三氟甲磺酰)亚胺，1-己基-3-甲基咪唑氯化物，1-己基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐，1-己基-3-甲基咪唑碘化物，1-己基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐，1-己基-3-甲基咪唑三氟甲烷磺酸盐，1-(2-羟乙基)-3-甲基咪唑二氰胺，1-甲基咪唑氯化物，1-甲基咪唑硫酸氢盐，1-甲基-3-辛基咪唑氯化物，1-甲基-3-辛基咪唑六氟磷酸盐(1-Methyl-3-octylimidazolium hexafluorophosphate)，1-甲基-3-辛基咪唑四氟硼酸盐，1-甲基-3-辛基咪唑三氟甲磺酸盐，1-甲基-3-丙基咪唑碘化物，1-甲基-3-丙基咪唑碳酸甲酯溶液，1-甲基-3-(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-十三氟辛基)咪唑六氟磷酸盐，1-甲基-3-乙烯基咪唑碳酸甲酯溶液，1,2,3-三甲基咪唑硫酸甲酯，1,2,3-三甲基咪唑三氟甲磺酸酯丙烯酰胺，1-丁基-3-甲基咪唑醋酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑氯化物，1-丁基-3-甲基咪唑硫酸氢盐，1-丁基-3-甲基咪唑甲烷磺酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑甲基硫酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑硫氰酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑三氟甲磺酸盐，1-乙基-2,3-二甲基咪唑乙基硫酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑醋酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑氯化物，1-乙基-3-甲基咪唑二氰胺，1-乙基-3-甲基咪唑二乙基磷酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑乙基硫酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑硫酸氢盐，1-乙基-3-甲基咪唑氢氧化物溶液，1-乙基-3-甲基咪唑甲烷磺酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑四氯铝(1-Ethyl-3-methylimidazolium tetrachloroaluminate)，1-乙基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑硫氰酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑三氟甲磺酸盐，1-甲基咪唑氯化物，1-甲基咪唑硫酸氢盐，α,α-[(甲基-9-十八碳烯基亚氨基)二-2,1-乙二基]二(ω-羟基)-聚(氧-1,2-乙二基)甲基硫酸盐(α,α-[(Methyl-9-octadecenyliminio)di-2,1-ethanediyl]bis[ω-hydroxy-poly(oxy-1,2-ethanediyl)]methyl sulfate)，1,2,3-三甲基咪唑硫酸甲酯，1,2,4-三甲基吡唑甲基硫酸盐，四丁基鏻甲磺酸酯(Tetrabutylphosphonium methanesulfonate)，四丁基鏻四氟硼酸盐，四丁基鏻对甲苯磺酸酯，三丁基甲基鏻磷酸二丁酯，三丁基甲基鏻碳酸甲酯溶液，三丁基甲基鏻硫酸甲酯，三乙基甲基鏻磷酸二丁酯，三己基十四烷化鏻双(三氟甲基磺酰)酰胺，三己基十四烷化鏻双(2,4,4-三甲基戊基)次膦酸，三己基十四烷化鏻溴化物，三己基十四烷化鏻氯化物，三己基十四烷化鏻癸酸盐(Trihexyltetradecylphosphonium decanoate)，三己基十四烷化鏻双氰胺，3-(三苯基磷)丙烷-1-磺酸酯，3-(三苯基磷)丙烷-1-磺酸甲苯磺酸酯，
1-丁基-1-甲基哌啶四氟硼酸盐(1-Butyl-1-methylpiperidinium tetrafluoroborate)，
1-丁基-1-甲基哌啶双(三氟甲基磺酰)亚胺，1-丁基-1-甲基哌啶六氟磷酸盐，4-乙基-4-甲基吗啉甲基碳酸盐溶液，1,2,3-三(二乙基氨基)环丙基双(三氟甲烷磺酰)亚 胺 (1,2,3-Tris(diethylamino)cyclopropenylium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide)，1,2,3-三(二乙基氨基)环丙基二氰胺，环丙基二苯基锍四氟硼酸盐
(Cyclopropyldiphenylsulfonium tetrafluoroborate)，三乙基锍双(三氟甲基磺酰)亚胺，1-丁基-1-甲基吡咯烷双(三氟甲基磺酰)亚胺(1-Butyl-1-methylpyrrolidinium bis(trifluoromethylsulfonyl)imide)，1-丁基-1-甲基吡咯溴化物，1-丁基-1-甲基吡咯烷氯化物，1-丁基-1-甲基吡咯烷二氰胺，1-丁基-1-甲基吡咯烷六氟磷酸盐，1-丁基-1-甲基吡咯烷碘化物，1-丁基-1-甲基吡咯烷甲基碳酸盐溶液，1-丁基-1-甲基吡咯烷四氟硼酸盐，1-丁基-1-甲基吡咯烷三氟甲磺酸盐，1-乙基-1-甲基吡咯烷双(三氟甲基磺酰)亚胺，1-乙基-1-甲基吡咯烷溴化物，1-乙基-1-甲基吡咯烷六氟磷酸盐，1-乙基-1-甲基吡咯烷四氟硼酸盐，1-丁基-3-甲基吡啶双(三氟甲基磺酰)亚胺(1-Butyl-3-methylpyridinium bis(trifluormethylsulfonyl)imide)，1-丁基-4-甲基吡啶六氟磷酸盐，1-丁基-4-甲基吡啶碘化物，1-丁基-4-甲基吡啶四氟硼酸盐，1-丁基吡啶溴化物，1-(3-氰基丙基)吡啶双(三氟甲基磺酰)亚胺，1-(3-氰基丙基)吡啶氯化物，1-乙基吡啶四氟硼酸盐，N-乙基吡啶溴化物-d10，3-甲基-1-丙基吡啶双(三氟甲磺酰)亚胺，1,2,4-三甲基吡唑甲基硫酸盐(1,2,4-Trimethylpyrazolium methylsulfate)，
1-乙基-3-甲基咪唑氯化物(1-Ethyl-3-methylimidazolium chloride)，1-丁基-3-甲基咪唑氯化物，1-乙基-3-甲基咪唑甲磺酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑乙基硫酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑二乙基磷酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑二氰酰胺，1-乙基-3-甲基咪唑醋酸盐，三-(2-羟乙基)甲基铵甲基硫酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑硫氰酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐，1-乙基-3-甲基咪唑三氟甲磺酸酯，1-乙基-3-甲基咪唑双(三氟甲磺酰)亚胺，1-乙基-3-甲基咪唑碳酸甲酯，1-丁基-3-甲基咪唑碳酸甲酯，苄基二甲基四癸基无水氯化铵，苄基三甲基铵三溴化丙烯酰胺，丁基三甲基铵双(三氟甲基磺酰)亚胺，二乙基甲基(2-甲氧基乙基)铵双(三氟甲基磺酰)亚胺，乙基二甲基丙基铵双(三氟甲基磺酰)亚胺，2-羟乙基-三甲基铵L-(+)-乳酸盐，甲基-三-十八烷基溴化铵(Methyltrioctadecylammonium bromide)，甲基三辛基铵双(三氟甲基磺酰)亚胺，甲基三辛基铵双(三氟甲基磺酰)亚胺，甲基三辛基硫酸氢铵，甲基三辛基硫代水杨酸铵，苯甲酸四丁基铵，四丁基铵双-三氟甲烷磺酰亚胺，四丁基铵十七碳氟辛烷磺酸盐，四丁基氢氧化铵30-水合物，四丁基甲磺酸铵丙烯酰胺，四丁基亚硝酸铵，四丁基全氟丁烷磺酸铵(Tetrabutylammonium nonafluorobutanesulfonate)，四丁基铵琥珀酰亚铵，苯硫酚四丁基铵，四丁基铵三溴化丙烯酰胺(Tetrabutylammonium tribromide purum)，四丁基铵三碘化物，四溴十二烷基铵，四氯十二烷基铵，四溴丙烯酰胺十六烷基铵(Tetrahexadecylammonium bromide purum)，四溴己基铵丙烯酰胺(Tetrahexylammonium bromide purum)，四己基硫酸氢铵，四己基碘化铵，四己基四氟硼酸铵，四(癸基)溴化铵，四甲基氢氧化铵五水合物，四辛基溴化铵丙烯酰胺，三丁基甲基氯化铵，三丁基甲基二丁基磷酸铵，三丁基甲基铵碳酸甲酯，三丁基甲基铵硫酸甲酯，三(2-羟乙基)甲基铵硫酸甲酯，三乙基甲基铵二丁基磷酸酯，三乙基甲基铵碳酸甲酯，醋酸胆碱，1-烯丙基-3-甲基咪唑双(三氟甲基磺酰)亚胺(1-Allyl-3-methylimidazolium bis(trifluoromethylsulfonyl)imide)，1-烯丙基-3-甲基咪唑溴化物，1-烯丙基-3-甲基咪唑氯化物，1-烯丙基-3-甲基咪唑二氰胺，1-烯丙基-3-甲基咪唑碘化物，1-苄基-3-甲基咪唑氯化物，1-苄基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐，1-苄基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐，1,3-双(氰基甲基)咪唑双(三氟甲基磺酰)亚胺，1,3-双(氰基甲基)咪唑氯化丙烯酰胺，1-丁基-2,3-二甲基咪唑氯化物，1-丁基-2,3-二甲基咪唑六氟磷酸盐，1-丁基-2,3-二甲基咪唑四氟硼酸盐，4-(3-丁基-1-咪唑基)-1-丁烷磺酸盐，4-(3-丁基-1-咪唑基)-1-丁烷酸三氟甲烷磺酸酯，1-丁基-3-甲基咪唑醋酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑双(三氟甲磺酰)亚胺，1-丁基-3-甲基咪唑溴化物，1-丁基-3-甲基咪唑氯化物，1-丁基-3-甲基咪唑磷酸二丁酯，1-丁基-3-甲基咪唑六氟锑酸盐，1-丁基-3-甲基咪唑硫酸氢盐，1-丁基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐，以及它们的混合物。优选地，一种或多种等离子体相容液体的分子量约800至5,000g/mol，并且更优选地一种或多种液体的分子量大于约1,000g/mol。
度等离子体(例如，10 -10 离子/cm)。
例如，如图2A所示，液体保护层300形成在边缘环组件200的上表面300a上，其中边缘环组件200的上表面形成台阶。在衬底的等离子体处理期间，形成液体保护层的液体被反应性离子(即，离子轰击)侵蚀并且作为挥发性蚀刻副产物被从处理室去除，例如在等离子体蚀刻中利用的副产物，然而，形成液体保护层的液体通过在对半导体衬底进行等离子体处理期间从液体源250被连续地供应到边缘环组件的等离子体暴露表面而被原位补充。连续供应液体到边缘环组件的等离子体暴露表面以形成液体保护层，这样能保护上缘环以及具有涂有液体的等离子体暴露表面的其他部件。可以供应液体使得在边缘环组件的等离子体暴露表面上维持预定厚度的液体保护层，其中保护层的厚度可以通过泵252或通过液体源
250与真空室50之间的压差来维持。优选地，液体保护层的厚度约0.5微米至4,000微米，并且更优选地，厚度大于约100微米。液体的厚度可以通过例如干涉仪307之类的高度传感器来确定。本文中使用的术语“约”指的是±10％。
90％，并且更优选地，孔隙度是约10％至50％。
200的外侧面上。
液体额外蓄积在衬底支架118与边缘环组件200之间的间隙180中。液体完全浸没并覆盖粘结层151，因此消除了对封边的需求。形成液体保护层的液体在对半导体衬底120进行等离子体处理期间也被原位补充，其中液体可以被供应使得粘结层151在对半导体衬底进行等离子体处理期间保持被覆盖并且不被侵蚀。
200a的环形通道201b。第一液体可以穿过与第一环形通道201a以及上缘环200a的等离子体暴露表面流体连通的孔205a，并且第二液体可以穿过与第二环形通道201b流体连通的孔205b。第一和第二液体可以在上缘200a的等离子体暴露表面上结合，其中第一和第二液体发生反应以在边缘环组件200的上缘环200a的等离子体暴露表面上形成固体保护层。
270，所述加热器270被配置为加热等离子体相容固体以形成等离子体相容液体。等离子体相容液体然后可以通过液体流入通道225被供应到环形通道201，其中等离子体相容液体可以通过液体供给通道被供应到例如边缘环组件200之类的部件的等离子体暴露表面，从而在等离子体暴露表面上形成液体保护层。液体保护层然后可以冷却以形成固体保护层。
在优选实施例中，液体流入通道和边缘环组件200被控制温度。例如，液体流入通道225可以包括任选的加热器271，并且边缘环组件200的上缘环或下缘环可以包括任选的加热器
272。可替代地，或者除加热器271、272之外，边缘环组件200还可以通过衬底支架118控制温度，其中边缘环组件200对衬底支架118(即，温控基板)吸热。
120支撑在衬底支架118的上表面的凹口(间隙)180上。衬底支架118的等离子体暴露表面301被配置为包围凹口180。衬底支架118包括与液体流入通道225和任选的液体流出通道226流体连通的液体通道，例如，环形通道201(参照图3B)。液体可以被供应到环形通道201中，其中液体可以被迫通过衬底支架118中的液体供给通道流到衬底支架的等离子体暴露表面301，从而在衬底支架118的等离子体暴露表面301上形成液体保护层300。另外，如图3B所示，液体可以往来于衬底支架118循环，使得可以控制期望厚度的液体保护层以及形成在衬底支架118中的凹口180中蓄积的液体的量。当循环时，液体可以被引导通道过滤器326，使得可以去除在对衬底进行等离子体处理期间由液体获得的有害杂质。液体还可以被引导通过换热器325，以便加热或冷却液体，使得在衬底120的等离子体处理期间可以控制与液体热接触的衬底支架118的部分的温度。另外，在等离子体处理过程中由于等离子体暴露而带电的液体-等离子体界面处的液体可以循环通过放电导管328，放电导管去除液体中产生的电荷。
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