一种新型的拜垫
阅读：1027发布：2020-08-23
专利汇可以提供一种新型的拜垫专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且一种新型的拜垫，包括垫体，该垫体的顶面在竖直方向上设有多个通孔，该垫体的顶面上设有数条在 水 平方向上依次布置的条纹，所述垫体的底面均布有多个凸起。所述垫体顶面上的通孔可以增加垫体的透气性，当参拜者跪拜的时间较长时，其膝盖不会出现 潮热 、潮湿等现象，使广大参拜者膝更稳、心更定。所述垫体顶面上的条纹与参拜者的膝盖直接 接触 ，增加膝盖的舒适性。所述凸起可以增加垫体与地面之间的摩擦，具有防滑 支撑 的作用，参拜者在跪拜时不易出现滑动现象，可静心地进行禅拜。，下面是一种新型的拜垫专利的具体信息内容。
一种新型的拜垫
技术领域
[0001] 本实用新型涉及一种佛教用品，具体的说是指一种新型的拜垫。
背景技术
[0002] 宗教是人类社会发展到一定历史阶段出现的一种文化现象，属于社会意识形态。宗教在人类生活中具有多种功能：如可以灭除苦恼不安、获得希望与安心，有助于匡正世道人心、确立伦理道德等。在世界上，宗教主要分为佛教、基督教、伊斯兰教等，而在我国，佛教是主要的宗教文化。
[0003] 在我国的每个寺庙里，通常会摆放许多拜垫，为参拜者在跪拜时提供一个舒适的环境。现有的拜垫仅仅是一个简单的实体垫子，其透气性差，若跪拜的时间较久，参拜者的膝盖容易出现潮热、潮湿等现象，而且现有拜垫的底面是平整的，防滑效果较差，参拜者在跪拜时容易出现滑动。因此，现有拜垫还存在很多不足之处，本发明人经过潜心研究，遂有本案的产生。实用新型内容
[0004] 本实用新型提供的是一种新型的拜垫，其主要目的在于克服现有的拜垫透气性和防滑性较差的问题。
[0005] 为了解决上述的技术问题，本实用新型采用如下的技术方案：
[0006] 一种新型的拜垫，包括垫体，该垫体的顶面在竖直方向上设有多个通孔，该垫体的顶面上设有数条在水平方向上依次布置的条纹，所述垫体的底面均布有多个凸起。
[0007] 进一步的，所述垫体由EVA材料制成。
[0008] 进一步的，所述凸起设有两圈，该两圈凸起内外地设置，每圈凸起由多个间隔布置的凸起组成。
[0009] 进一步的，所述凸起在竖直方向上设有孔。
[0010] 进一步的，所述垫体的顶面设有花纹层，所述垫体的外侧面也设有花纹层。
[0011] 进一步的，所述垫体的横截面呈圆形。
[0012] 由上述对本实用新型的描述可知，和现有技术相比，本实用新型具有如下优点：
[0013] 1、所述垫体顶面上的通孔可以增加垫体的透气性，当参拜者跪拜的时间较长时，其膝盖不会出现潮热、潮湿等现象，使广大参拜者膝更稳、心更定。所述垫体顶面上的条纹与参拜者的膝盖直接接触，增加膝盖的舒适性。所述凸起可以增加垫体与地面之间的摩擦，具有防滑支撑的作用，参拜者在跪拜时不易出现滑动现象，可静心地进行禅拜。
[0014] 2、所述垫体采用EVA材料制成，采用EVA材料制成的垫体弹性好，符合人体力学的科学原理，对参拜者在跪拜时具有明显的保护膝关节的保健功能，且采用EVA材料制成的垫体还具有防燃、易清洗、不易变形等优点。
[0016] 图1为本实用新型的主视图；
[0017] 图2为本实用新型的俯视图；
[0018] 图3为本实用新型的仰视图。
具体实施方式
[0019] 参照图2和图3。一种新型的拜垫，包括垫体1，该垫体1的顶面在竖直方向上设有多个通孔2，该垫体1的顶面上设有数条在水平方向上依次布置的条纹3，所述垫体1的底面均布有多个凸起4，所述垫体1的截面呈圆形。所述凸起4设有两圈，该两圈凸起4内外地设置，每圈凸起4由多个间隔布置的凸起4组成，所述凸起4在竖直方向上设有孔41。所述垫体1顶面上的通孔2可以增加垫体1的透气性，当参拜者跪拜的时间较长时，其膝盖不会出现潮热、潮湿等现象，使广大参拜者膝更稳、心更定。所述垫体1顶面上的条纹3与参拜者的膝盖直接接触，增加膝盖的舒适性。所述凸起4可以增加垫体1与地面之间的摩擦，具有防滑支撑的作用，参拜者在跪拜时不易出现滑动现象，可静心地进行禅拜。所述凸起4上设有孔41使得垫体1在生产时可以节省一定的材料，降低企业的生产成本[0020] 参照图1和图2。所述垫体1由EVA材料制成，EVA材料是乙烯-醋酸乙烯共聚物（化学品英文名称为：ethylene-vinyl acetate copolymer），是现有化学领域中一种常见的生产原料。采用EVA材料制成的垫体1弹性好，符合人体力学的科学原理，对参拜者在跪拜时具有明显的保护膝关节的保健功能，且采用EVA材料制成的垫体1还具有防燃、易清洗、不易变形等优点。所述垫体1的顶面设有花纹层5，所述垫体1的外侧面设有花纹层6，所述花纹层5和花纹层6可以增加垫体1的美观性，让参拜者在禅拜时更加舒心。
[0021] 上述仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动，均应属于侵犯本实用新型保护范围的行为。
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