一种背光源的贴膜工艺
专利汇可以提供一种背光源的贴膜工艺专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种 背光 源 的贴膜工艺，包括以下步骤：S1：采用 超 声波 清洗背光模组外框，然后在50-55℃下烘干背光模组外框；S2：将背光模组外框放置在模具上，然后进行除尘和除静电处理；S3：准备 氧 化锆和 二氧化 硅 ，然后将氧化锆和 二氧化硅 混合，制得混合物，以混合物为靶材，利用射频 磁控溅射 技术将混合物 涂装 于背光模组外框上；S4：在背光模组外框上贴扩散膜，然后进行除尘和除静电处理，接着贴下增光膜，再进行除尘和除静电处理，然后贴上增光膜，接着进行除尘和除静电处理，最后贴遮光膜。本发明能够增强背光模组外框与光学膜之间的附着 力 ，且能够便于在贴膜时因对位不准而进行的贴膜 位置 调整，能够提高成品的合格率，工艺简单，使用方便。，下面是一种背光源的贴膜工艺专利的具体信息内容。
1.一种背光源的贴膜工艺，其特征在于，包括以下步骤：
S1：采用超声波清洗背光模组外框，然后在50-55℃下烘干背光模组外框；
S2：将背光模组外框放置在模具上，然后进行除尘和除静电处理；
S3：准备氧化锆和二氧化硅，然后将氧化锆和二氧化硅混合，制得混合物，以混合物为靶材，利用射频磁控溅射技术将混合物涂装于背光模组外框上；
S4：在背光模组外框上贴扩散膜，然后进行除尘和除静电处理，接着贴下增光膜，再进行除尘和除静电处理，然后贴上增光膜，接着进行除尘和除静电处理，最后贴遮光膜；
S5：进行压合，完成背光源的贴膜。
2.根据权利要求1所述的一种背光源的贴膜工艺，其特征在于，所述S1中，采用超声波清洗背光模组外框，然后在51-54℃下烘干背光模组外框。
3.根据权利要求1所述的一种背光源的贴膜工艺，其特征在于，所述S3中，准备氧化锆，以氧化锆为靶材，利用射频磁控溅射技术将氧化锆涂装于背光模组外框上，在背光模组外框上涂装氧化锆层。
4.根据权利要求1所述的一种背光源的贴膜工艺，其特征在于，所述S3中，准备二氧化硅，以二氧化硅为靶材，利用射频磁控溅射技术将二氧化硅涂装于背光模组外框上，在背光模组外框上涂装二氧化硅层。
5.根据权利要求1所述的一种背光源的贴膜工艺，其特征在于，所述S4中，在背光模组外框上贴扩散膜，然后进行除尘，接着用喷雾器在扩散膜上均匀喷上去离子水，再贴下增光膜，用膜刮将扩散膜与下增光膜之间的水慢慢的刮出，然后用胶刮朝四个方向刮干净扩散膜与下增光膜之间的水分，直至无气泡、无折痕。
6.根据权利要求1所述的一种背光源的贴膜工艺，其特征在于，所述S4中，贴上增光膜，然后进行除尘，接着用喷雾器在上增光膜上均匀喷上去离子水，再贴遮光膜，用膜刮将上增光膜与遮光膜之间的水慢慢的刮出，然后用胶刮朝四个方向刮干净上增光膜与遮光膜之间的水分，直至无气泡、无折痕。
一种背光源的贴膜工艺
技术领域
背景技术
发明内容
S2：将背光模组外框放置在模具上，然后进行除尘和除静电处理；
S3：准备氧化锆和二氧化硅，然后将氧化锆和二氧化硅混合，制得混合物，以混合物为靶材，利用射频磁控溅射技术将混合物涂装于背光模组外框上；
S4：在背光模组外框上贴扩散膜，然后进行除尘和除静电处理，接着贴下增光膜，再进行除尘和除静电处理，然后贴上增光膜，接着进行除尘和除静电处理，最后贴遮光膜；
S5：进行压合，完成背光源的贴膜。
具体实施方式
S2：将背光模组外框放置在模具上，然后进行除尘和除静电处理；
S3：准备氧化锆和二氧化硅，然后将氧化锆和二氧化硅混合，制得混合物，以混合物为靶材，利用射频磁控溅射技术将混合物涂装于背光模组外框上；
S4：在背光模组外框上贴扩散膜，然后进行除尘和除静电处理，接着贴下增光膜，再进行除尘和除静电处理，然后贴上增光膜，接着进行除尘和除静电处理，最后贴遮光膜；
S5：进行压合，完成背光源的贴膜。
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