磁控溅射靶
专利汇可以提供磁控溅射靶专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且一种 磁控溅射 靶，其包括一个中空靶材以及一个磁靶。所述磁靶收容在所述靶材内。所述磁靶包括一个环状的 支架 以及多个条状磁 铁 。所述多个 磁铁 呈放射状地设置在所述支架上。所述支架上相邻的两个磁铁的磁极相反并在多个相邻的磁铁之间形成多个呈花瓣状分布的多个 磁场 ，所述多个磁场 覆盖 靶材的内外表面且磁场方向交替变化。且覆盖靶材的内外表面。本 发明 磁控溅射靶通过所述磁靶形成的多个花瓣状磁场覆盖靶材内外表面，从而使所述靶材的内外表面均被有效利用，从而提高了靶材的使用效率。，下面是磁控溅射靶专利的具体信息内容。
1.一种磁控溅射靶，其包括一个中空靶材以及一个磁靶，所述磁靶收容在所述靶材内，所述磁靶包括一个环状的支架以及多个条状磁铁，所述多个磁铁呈放射状地设置在所述支架上，所述支架上相邻的两个磁铁的磁极相反并在多个相邻的磁铁之间形成多个呈花瓣状分布的多个磁场，所述多个磁场覆盖靶材的内外表面且磁场方向交替变化。。
2.如权利要求1所述的磁控溅射靶，其特征在于：所述靶材包括一个底板以及一个沿所述底板的边缘垂直延伸而成的侧壁，所述底板及所述侧壁围成一个容置空间，所述磁靶容置在所述容置空间内。
3.如权利要求2所述的磁控溅射靶，其特征在于：所述靶材还包括一个中心柱，所述中心柱由所述底板中心垂直延伸而成，所述侧壁及所述中心柱形成在所述底板的同一侧。
4.如权利要求3所述的磁控溅射靶，其特征在于：所述侧壁相对所述底板的高度与所述中心柱相对所述底板的高度相等。
5.如权利要求3所述的磁控溅射靶，其特征在于：所述中心柱的中心开设有一个开孔，所述中心柱包括一个外壁，且在其外壁上等角度地开设有多个开槽。
6.如权利要求5所述的磁控溅射靶，其特征在于：所述多个磁铁由所述支架的一侧贯穿至另一侧，且所述磁铁穿置在所述支架内侧的部分容置在所述中心柱的开槽内。
7.如权利要求5所述的磁控溅射靶，其特征在于：所述条形磁铁沿所述中心柱轴向的长度等于或者大于所述中心柱的长度。
8.如权利要求1所述的磁控溅射靶，其特征在于：所述磁控溅射靶还包括一个内冷却环，所述内冷却环设置在所述支架的一端，所述内冷却环背离所述支架的一侧表面上环设有一个第一流道。
9.如权利要求1所述的磁控溅射靶，其特征在于：所述内冷却环与所述支架一体成型。
10.如权利要求9所述的磁控溅射靶，其特征在于：所述磁控溅射靶还包括一个外冷却环，所述外冷却环环绕所述内冷却环设置在所述靶材上，所述外冷却环背离所述靶材的一侧表面上环设有一个第二流道。
磁控溅射靶
技术领域
背景技术
发明内容
具体实施方式
116。
高效检索全球专利专利汇是专利免费检索,专利查询,专利分析-国家发明专利查询检索分析平台，是提供专利分析，专利查询，专利检索等数据服务功能的知识产权数据服务商。
我们的产品包含105个国家的1.26亿组数据，免费查、免费专利分析。
专利汇分析报告产品可以对行业情报数据进行梳理分析，涉及维度包括行业专利基本状况分析、地域分析、技术分析、发明人分析、申请人分析、专利权人分析、失效分析、核心专利分析、法律分析、研发重点分析、企业专利处境分析、技术处境分析、专利寿命分析、企业定位分析、引证分析等超过60个分析角度，系统通过AI智能系统对图表进行解读，只需1分钟，一键生成行业专利分析报告。
