技术领域
[0001] 本
发明属于非晶态
合金制备技术领域,特别涉及一种颜色透明度可调的非晶态硬质耐磨耐蚀涂层及其制备方法。具体说是一种颜色和透明度均可控,从完全不透明的黑
色调到半透明金黄色再调到完全透明的非晶态金属基硬质耐磨耐蚀涂层材料的制备方法。
背景技术
[0002] 与传统晶态材料相比,非晶态金属基材料具有高强度、高硬度、高
耐磨性、高
断裂韧性、优异耐蚀性和高表面光洁度等优异性能。因此,非晶态金属基材料作为硬质耐磨耐蚀涂层不仅可以大幅度提高基体材料包括强度、硬度和耐磨性等在内的
力学性能和耐蚀性能,延长基体
工件的使用寿命,还可以改善基体材料的表面
质量,增加其外观美观度;与此同时,非晶态材料具有优异的低温热塑性成型加工能力,作为防护涂层又能很好的与现有涂层的制备技术相兼容,制备工艺简单,可应用于高精密零部件的表面改性及外观美化。但是,目前非晶态金属基材料通常为具有金属光泽、不透明的涂层材料,本发明提供一种颜色和透明度均可调,从不透明黑色到半透明金黄色再到完全透明的非晶态金属基硬质耐磨耐蚀涂层,最高硬度值可达35GPa,该涂层在包括手机、电脑等IT领域、微纳
电子器件、
汽车、医疗器械、
油气管道、发电、石油钻探、医药化工及
煤炭等行业具有非常重要的应用前景。
发明内容
[0003] 本发明提供了一种颜色透明度可调的非晶态硬质耐磨耐蚀涂层及其制备方法,其特征在于,所述非晶态金属基硬质耐磨耐蚀涂层的颜色和透明度可调;该硬质耐磨耐蚀防护涂层材料的组成通式为(Co,Fe)aBbTacOd;其中a、b、c和d均为
原子百分数,取值范围为:15≤a≤80,10≤b≤35,0≤c≤20,0≤d≤85;
[0004] 所制备涂层为非晶态结构,其颜色和透明度能够从完全不透明的黑色调节到半透明金黄色,再调节到完全透明,在整个范围内进行调控;具有高硬度、高耐磨性、高耐蚀性的特点,能够有效地防护基体材料免受划伤、磨损和锈蚀,延长基体材料的使用寿命。
[0005] 一种颜色透明度可调的非晶态金属基硬质耐磨耐
腐蚀涂层的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
[0006] 1)采用传统的
物理气相沉积的
磁控溅射技术;
[0007] 2)采用粉末靶材和金属合金靶材两种靶材:
[0008] 3)硬质耐磨耐蚀涂层的制备:
[0009] 所述步骤2)靶材制备包括:
[0010] i粉末靶材制备:原料为Co,Fe,Ta,B粉末,将按照靶材组成通式(Co,Fe)aBbTac;其中a、b和c均为原子百分数,取值范围为:35≤a≤80,15≤b≤35,0≤c≤25的比例称量原料;粉末尺度为100微米以下;将称量好的粉末材料充分混合后放入靶材容器中,表面压平即可用于磁控溅射
镀膜;
[0011] ii金属合金靶材制备:原料为
块体Co、Fe、Ta和B,将按照靶材组成通式(Co,Fe)aBbTac;其中a、b和c均为原子百分数,取值范围为:35≤a≤80,15≤b≤35,0≤c≤25)的比例配备原料,混合后采用熔融
铸造的方法制备靶材;
[0012] 所述步骤3)具体的操作步骤:将上述靶材分次放在磁控溅射设备中;预抽
真空至~10-4Pa,通入惰性气体氩气和
氧气,氩气流量基本保持在27sccm,氧气流量按不同组别从0sccm变到3.5sccm;工作气压为0.7-0.8Pa,每次溅射30min后冷却30min,总计溅射时间随所需溅射厚度调整;得到的涂层材料是一系列含氧量不同的非晶态金属基材料;由于不同组别中工作气体的氧流量从0sccm变到3.5sccm,则获得一系列颜色和透明度可调的涂层材料。
[0013] 所述高纯惰性气体Ar的纯度大于99.999wt%。
[0014] 本发明的有益效果为:
[0015] 1.以CoFeTaB材料为原料,采用工业化制备
薄膜涂层的传统方法物理气相沉积磁控溅射技术制备出颜色和透明度可调,从完全不透明黑色到半透明金黄色,再到完全透明的硬质耐磨耐蚀非晶态金属基防护涂层材料。
[0016] 2.制备出的非晶态金属基涂层最高硬度值为35GPa,且具有良好的耐磨性和耐蚀性能。
[0017] 3.制备出的涂层的颜色和透明度可调,可以根据氧含量的不同调节产品外观色泽。
[0018] 4.该涂层制备工艺简单、原材料价格便宜,且环境友好,是一种性能优异的硬质耐磨耐腐蚀涂层材料。
附图说明
[0019] 图1是
实施例1中CoFeTaB非晶态合金材料的XRD图谱和透射电镜图片,表明所制备涂层材料为非晶态结构。
[0020] 图2是实施例1中CoFeTaB非晶态合金材料镀在手机
铝外壳上的外观图。
[0021] 图3是实施例2中CoFeTaB非晶态金属基氧化物材料的透射电镜图片,表明所制备涂层材料为非晶态结构。
[0022] 图4是实施例2中半透明的金黄色CoFeTaB非晶态金属基氧化物涂层。
[0023] 图5(a)和(b),分别是实施例1中CoFeTaB非晶态合金和实施例2中CoFeTaB非晶态金属基氧化物的硬度测试。其中完全黑色、不透明的样品的硬度达到了35GPa,半透明金黄色的涂层硬度约为20GPa,基底
硅片的硬度为17GPa左右。
[0024] 图6是实施例3中完全透明CoFeTaBO非晶态氧化物镀在手机铝外壳上的外观图。
[0025] 图7为实施例4中不同氧含量的CoFeTaB非晶态金属基样品的外观图。
[0026] 图8为实施例4中不同氧含量的CoFeTaB非晶态金属基样品的透过率测试图(以溅射时氧流量不同进行分组)。
具体实施方式
[0027] 本发明提供一种硬质耐磨耐蚀非晶态金属基涂层材料及其制备方法。其颜色和透明度可调;下面结合实施例对本发明予以说明。
[0028] 实施例1
[0029] 制备黑色不透明的Co50Fe25Ta15B10的非晶态金属涂层,并镀于铝制手机外壳表面。图1为该涂层的结构表征,表明所制备涂层为完全非晶态结构;图2为镀在铝制手机外壳的外观图。
[0030] 具体操作步骤如下:以Co50Fe25Ta15B10为靶材;将铝制手机外壳置于磁控溅射设备中,预抽真空至~10-4Pa,通入惰性气体氩气,流量为27sccm,工作气压为0.7Pa,每次溅射30min后冷却30min,总计溅射时间为1.5小时,在铝制手机外壳表面得到溅射厚度约为
400nm的完全不透明的黑色非晶态合金薄膜Co50Fe25Ta15B10;硬度约为35GPa,通过XRD和透射电镜图片表征其结构特征(见图1),通过
纳米压痕仪测试其硬度(图5(a))。
[0031] 实施例2
[0032] 制备金黄色半透明的Co18Fe10Ta0.3B8O63.7涂层(图3和图4)。
[0033] 具体操作步骤如下:以Co50Fe25Ta15B10为靶材,将磁控溅射设备预抽真空至~10-4
Pa,通入惰性气体氩气,流量为27sccm,通入氧气,流量为2.0sccm。工作气压为0.8Pa,每次溅射30min后冷却30min,总计溅射时间为1.5小时,溅射厚度约为400nm。制备得到含氧量较高的Co18Fe10Ta0.3B8O63.7涂层;该涂层为半透明的金黄色非晶态金属基薄膜(见图3和图4),硬度约为21GPa。通过XRD和透射电镜图片表征其非晶态结构特征,通过纳米压痕仪测试其硬度(图5(b))。
[0034] 实施例3
[0035] 制备完全透明的Co6Fe3Ta0.1B6O84.9薄膜涂层,并镀于铝制手机外壳表面(图6)。
[0036] 具体操作步骤如下:以Co50Fe25Ta15B10为靶材,将磁控溅射设备预抽真空至~10-4Pa,通入惰性气体氩气,流量为27sccm,通入氧气,流量为2.5sccm。工作气压为0.8Pa,每次溅射30min后冷却30min,总计溅射时间为0.5小时,溅射厚度约为100nm的含氧量高的完全透明Co6Fe3Ta0.1B6O84.9薄膜涂层,所制备的涂层材料为完全透明的非晶态氧化物薄膜。
[0037] 实施例4
[0038] 采用粉末靶材Co43Fe20Ta5.5B31.5制备一系列颜色和透明度可调的CoFeTaB非晶态金属基涂层样品(如图7所示)。
[0039] 具体操作步骤如下:将磁控溅射设备预抽真空至~10-4Pa,通入惰性气体氩气,流量为27sccm,通入氧气,流量为0-3.5sccm。工作气压为0.8Pa,每次溅射30min后冷却30min,总计溅射时间为0.5小时,溅射厚度约为100nm。
[0040] 所制备的涂层材料为颜色和透明度均可调的非晶态金属基涂层材料,通过透过率测试仪测试其透过率特性(如图8所示)。
[0041] 以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉
本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应该以
权利要求的保护范围为准。