一种高余辉强度的发光陶瓷及其制备方法
专利汇可以提供一种高余辉强度的发光陶瓷及其制备方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本公开提供了一种高余辉强度的发光陶瓷，所述发光陶瓷 自下而上 的结构为：坯体层、面釉层、粘结层、 发光层 、透明层和图案层。所述发光陶瓷通过添加了粘结层，从而实现了发光层与坯体的结合强度，且还添加了透明层，所述透明层可以实现对发光层的封闭效果，提高对雨 水 侵蚀、酸 碱 腐蚀 耐受性，可以有效地提高发光 陶瓷砖 的使用寿命，同时还便于清洁表面污渍和粘结物。，下面是一种高余辉强度的发光陶瓷及其制备方法专利的具体信息内容。
1.一种高余辉强度的发光陶瓷，其特征在于，所述发光陶瓷自下而上的结构为：坯体层、面釉层、粘结层、发光层、透明层和图案层。
2.根据权利要求书1中所述的高余辉强度的发光陶瓷，其特征在于，所述面釉层的材料组分为：SiO2、Al2O3、Fe2O3、TiO2、CaO、MgO、K2O、Na2O、ZnO和ZrO2；优选地所述面釉层的材料各组分的质量百分含量为：SiO2为60％-65％、Al2O3为15％-25％、Fe2O3为0.1％-0.2％、TiO2为
0.1％-0.3％、CaO为1.5％-2.5％、MgO为1.2％-3.0％、K2O为3.5％-4.5％、Na2O为1.0％-
3.0％、ZnO为0.1％-0.5％和ZrO2为3.0％-5.0％。
3.根据权利要求书1中所述的高余辉强度的发光陶瓷，其特征在于，所述粘结层和透明层使用的材料均为低温釉；优选地所述低温釉的组分为：SiO2、Al2O3、Fe2O3、TiO2、CaO、K2O、Na2O、B2O3、BaO和Li2O，优选地所述低温釉各组分的质量百分含量为：SiO2为40％-50％、Al2O3为10％-14％、Fe2O3为0.01％-0.02％、TiO2为0.01％-0.02％、CaO为5％-8％、K2O为
1％-2％、Na2O为1％-2％、B2O3为25％-30％、BaO为3％-8％和Li2O为1％-3％。
4.根据权利要求书3中所述的高余辉强度的发光陶瓷，其特征在于，所述发光层是由低温釉和发光材料混合而成；优选地所述低温釉和发光材料添加的质量比例为(50：50)-(80：
20)；优选地所述发光材料为稀土Eu和Dy共掺杂的SrAl2O4、Sr2MgSi2O7、CaA12O4、Ca2MgSi2O7发光材料中一种或多种。
5.如权利要求1-4任意一项所述的高余辉强度的发光陶瓷的制备方法，其特征在于，所述制备方法的具体步骤为：
(1)将面釉涂布在陶瓷坯体上，然后进行烧制，获得具有面釉的陶瓷砖半成品；
(2)利用皮带布料在具有面釉的陶瓷砖半成品上铺平低温釉干粒，形成低温釉粘结层；
(3)利用皮带布料在低温釉粘结层上铺平低温釉与发光材料的混合物，形成发光层；
(4)利用皮带布料在发光层上铺平低温釉干粒，形成透明层，然后进行烧成，得到发光陶瓷砖半成品；
(5)利用低温色料在发光陶瓷半成品的透明层上涂布一层图案，形成图案层，然后进行低温热处理，得到发光陶瓷砖产品。
6.根据权利要求书5中所述的高余辉强度的发光陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中的烧制的温度为1180-1225℃，优选地所述烧制的时间为55-65min。
7.根据权利要求书5中所述的高余辉强度的发光陶瓷的制备方法，其特征在于，所述低温釉干粒的厚度为0.5-1mm，优选地所述低温釉干粒的粒度为20-40目。
8.根据权利要求书5中所述的高余辉强度的发光陶瓷的制备方法，其特征在于，所述发光层的厚度为2-3mm，优选地所述发光层的粒度为20-40目。
9.根据权利要求书5中所述的高余辉强度的发光陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤(4)中的烧成的温度为830-860℃，烧成的时间为45-55min。
10.根据权利要求书5中所述的高余辉强度的发光陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤(5)中低温色料为玻璃墨水；优选地所述涂布的方法为数码喷墨打印或丝网印刷工艺；
优选地所述低温热处理的温度为600-660℃，低温热处理时间为35-50min。
一种高余辉强度的发光陶瓷及其制备方法
技术领域
背景技术
3.5％-4.5％、Na2O为1.0％-3.0％、ZnO为0.1％-0.5％和ZrO2为3.0％-5.0％。
具体实施方式
60％、Al2O3 25％、Fe2O3 0.2％、TiO2 0.3％、CaO2.5％、MgO3.0％、K2O 2.5％、Na2O 3.0％、ZnO0.5％和ZrO2 3.0％；所述发光材料为稀土Eu和Dy共掺杂的SrAl2O4和Ca2MgSi2O7发光材料。
2.2％、ZnO 0.1％和ZrO2 3.5％；所述发光材料为稀土Eu和Dy共掺杂的SrAl2O4的发光材料。
1.27％、Na2O为1.48％、B2O3为27.05％、BaO为4.78％和Li2O为2.56％；面釉层的材料各组分的质量百分含量为：SiO2 63.3％、Al2O3 21％、Fe2O30.2％、TiO2 0.2％、CaO2.5％、MgO2.0％、K2O3.5％、Na2O3.8％、ZnO0.5％和ZrO2 3％；所述发光材料为稀土Eu和Dy共掺杂的SrAl2O4、Sr2MgSi2O7、CaA12O4和Ca2MgSi2O7的发光材料。
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