专利汇可以提供Cleaning of silicon wafer专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且PURPOSE: To improve the impurity removal effect by using a nitric acid solution of the required concentration as cleaning liquid.
CONSTITUTION: When silicon wafers made by slicing a single-crystal silicon ingot are cleaned with a nitric acid solution of concentration enough to sufficiently solve impurities without passivating, the impurities such as Cu can be removed more effectively. Using those wafers diminishes defects in breakdown strength an leakage.
COPYRIGHT: (C)1991,JPO&Japio,下面是Cleaning of silicon wafer专利的具体信息内容。
标题 | 发布/更新时间 | 阅读量 |
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