子分类：
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 141 | Dual coat ceramic layer prepared by single firing | US736569 | 1976-10-28 | US4110487A | 1978-08-29 | Richard G. Rion |
| A process and resulting product are disclosed characterized by superimposing two layers of essentially dry, differing frit compositions onto a substrate and then firing only once to form a dual coat coherent ceramic layer. The composition of the two frits is such that the first or base coat fuses and stabilizes during the firing operation at temperatures below that at which the second or cover coat fuses and stabilizes. Desirably, the first layer forms an amorphous glass adherent to the substrate that is predominantly an alkaline oxide borosilicate glass and preferably an alkaline borofluorosilicate glass. | ||||||
| 142 | Volatilizable frit composition forming oxidation-inhibiting vapors | US710732 | 1976-08-02 | US4084975A | 1978-04-18 | William D. Faust |
| A frit composition is disclosed adapted to be applied to a metal substrate containing iron and fired to form a ceramic coat. The frit composition comprises a primary devitrifiable frit adapted to fuse at a firing temperature and upon cooling form devitrified particles; and a secondary frit containing a volatilizable metal oxide adapted to form at a firing temperature substantially an amorphous glass and precipitate crystals of the volatilizable metal oxide. The crystals at least partially volatilize at the firing temperature to provide protective vapors effective to inhibit oxidation of the substrate. Upon cooling, the amorphous glass of the secondary frit bonds the devitrified particles of the primary frit one to another. Preferably, the devitrified particles of the primary frit provide a porous ceramic coat such as on a surface of a self-cleaning cooking device exposed to cooking residues. In this case, the primary frit may also contain an oxidation catalyst. | ||||||
| 143 | Method for manufacturing porcelain enamel frit | US38450964 | 1964-07-22 | US3278284A | 1966-10-11 | DOLAH HARRY J VAN; LINHART OTTO C; ARTHUR KIEFER |
| 144 | 真空断熱部材、それに用いる封止材料、及び真空断熱部材の製造方法 | JP2016195350 | 2016-10-03 | JP2018058709A | 2018-04-12 | 内藤 孝; 吉村 圭; 橋場 裕司; 立薗 信一; 青柳 拓也; 三宅 竜也 |
【課題】 低温で気密封止でき、かつ断熱性能の高い真空断熱部材を提供する。 【解決手段】 第一の基材と、第一の基材と空間をもって対向するように配置された第二の基材と、第一の基材と第二の基材の間に形成される内部空間の周縁に設けられた封止部と、を備え、封止部はガラス相と金属相とを含み、金属相はガラス相よりも内部空間側に形成されていることを特徴とする真空断熱部材。 【選択図】図2A |
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| 145 | バナジウム系フリット材料、結合剤、及び/又は溶媒、並びにその製造方法 | JP2014550408 | 2012-12-21 | JP6310860B2 | 2018-04-11 | デニス ティモシー エー. |
| 146 | 導電性ペースト、及びガラス物品 | JP2016557512 | 2015-10-07 | JP6296315B2 | 2018-03-20 | 次本 伸一 |
| 147 | 断熱部材及び低融点ガラス組成物、並びに封止材料ペースト | JP2015552389 | 2014-11-28 | JP6256480B2 | 2018-01-10 | 内藤 孝; 立薗 信一; 吉村 圭; 橋場 裕司; 青柳 拓也; 児玉 一宗; 小野寺 大剛; 藤枝 正 |
| 148 | ４２０℃以下の加工温度を有するテルル酸塩接合ガラス | JP2017517689 | 2015-09-28 | JP2017533164A | 2017-11-09 | ゲーデケ，ディーター; スリダーラン，スリニバサン |
| 本発明は、ガラス、特に、加工温度420℃以下での真空断熱ガラス製造用のガラス板の接合のためのガラスに関し、対応する複合ガラス、及び、対応するガラスペーストに関する。また、本発明は、本発明に係るガラスペーストを使用して製造された真空断熱ガラスと、その製造方法と、本発明のガラス及び/又は複合ガラス及びガラスペーストの使用に関する。本発明に係るガラスは、次の成分をモル%で含むことを特徴とする:V2O55〜58モル%と、TeO240〜90モル%、及び、ZnO 38〜52モル%、又は、Al2O31〜25モル%、又は、MoO31〜10モル%、又は、WO31〜10モル%、又は、これらの組み合わせから選択される少なくとも一つの酸化物。 | ||||||
| 149 | 発光ダイオードの色変換用基板及びその製造方法 | JP2017516314 | 2015-08-07 | JP2017531818A | 2017-10-26 | ギ ヨン イ、; ユン ソク オ、; ヒョン ス ムン、 |
| 本発明は、発光ダイオードの色変換用基板及びその製造方法に係り、より詳しくは、QD(quantum dot)だけでなくQDが担持された構造体もまた、白色光の実現のための色変換機能を持つ発光ダイオードの色変換用基板及びその製造方法に関する。このために、本発明は、発光ダイオード上に配置される第1ガラス基板;前記第1ガラス基板と対向するように形成される第2ガラス基板;前記第1ガラス基板と前記第2ガラス基板との間に配置され、中空部が形成されており、黄色蛍光体と低融点フリットガラスとの混合物からなる構造体;前記中空部に充填されるQD;及び前記第1ガラス基板と前記構造体の下面との間及び前記第2ガラス基板と前記構造体の上面の間にそれぞれ形成される封止材を含むことを特徴とする発光ダイオードの色変換用基板を提供する。 | ||||||
| 150 | セラミックカラーペースト及びセラミックカラー並びにセラミックカラー付きガラス及びその製法 | JP2014507646 | 2013-03-13 | JP6153514B2 | 2017-06-28 | 耀広 林; 黒田 浩太郎; 浩太郎 黒田; 将史 鈴木 |
| 151 | 導電性ペースト、及びガラス物品 | JP2016531179 | 2015-05-15 | JP6098858B2 | 2017-03-22 | 次本 伸一 |
| 152 | 断熱部材及び低融点ガラス組成物、並びに封止材料ペースト | JP2015552389 | 2014-11-28 | JPWO2015087718A1 | 2017-03-16 | 内藤 孝; 内藤 孝; 信一 立薗; 圭 吉村; 裕司 橋場; 拓也 青柳; 一宗 児玉; 大剛 小野寺; 正 藤枝; 藤枝 正 |
| 一対の基板と、気密封止部と、を含み、気密封止部は、一対の基板の間の外周部に設けられ、一対の基板の間に空間を形成し、その空間が真空或いは減圧の状態にあり、気密封止部を構成する封止材料は、低融点ガラスを含み、低融点ガラスは、酸化バナジウム、酸化バリウム、酸化リン及び酸化タングステンを含み、酸化物換算で次の2つの関係式V2O5+BaO+P2O5+WO3≧90及びV2O5>BaO>P2O5>WO3(式中、単位はmol%)が成り立つ断熱部材が開示されている。これにより、環境負荷への影響を低減し、気密性の維持と耐酸性の向上とを実現する。 | ||||||
| 153 | 半導体接合保護用ガラス組成物の製造方法、半導体装置の製造方法及び半導体装置 | JP2014514287 | 2012-05-08 | JP5827398B2 | 2015-12-02 | 六鎗 広野; 伊東 浩二; 小笠原 淳; 伊藤 一彦 |
| 154 | 樹脂封止型半導体装置及び樹脂封止型半導体装置の製造方法 | JP2014514286 | 2012-05-08 | JP5827397B2 | 2015-12-02 | 小笠原 淳; 伊東 浩二; 伊藤 一彦; 六鎗 広野 |
| 155 | Semiconductor junction protective glass composition, a method of manufacturing a semiconductor device and a semiconductor device | JP2012549168 | 2012-05-08 | JP5508547B1 | 2014-06-04 | 浩二 伊東; 淳 小笠原; 一彦 伊藤; 広野 六鎗 |
| 少なくともＳｉＯ
２と、Ｂ
２ Ｏ
３と、Ａｌ
２ Ｏ
３と、ＣａＯ、ＭｇＯ及びＢａＯのうち少なくとも２つのアルカリ土類金属の酸化物とを含有し、かつ、Ｐｂと、Ａｓと、Ｓｂと、Ｌｉと、Ｎａと、Ｋと、Ｚｎとを実質的に含有しないことを特徴とする半導体接合保護用ガラス組成物。
本発明の半導体接合保護用ガラス組成物によれば、鉛を含まないガラス材料を用いて、従来の「珪酸鉛を主成分としたガラス材料」を用いた場合と同様に、高耐圧の半導体装置を製造することが可能となる。 また、Ｚｎを実質的に含有しないことから、耐薬品性（特に耐フッ酸性）が高くなり、高信頼性の半導体装置を製造することが可能となる。 また、シリコン酸化膜をエッチング除去する工程などでガラス層をレジストで保護する必要がなくなるため、工程を簡略化できるという効果も得られる。 |
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| 156 | Insulation paste for metal core board and an electronic device | JP2010513404 | 2008-06-19 | JP2010531044A | 2010-09-16 | 直人 仲島; 真佐樹 浜口; 明 稲葉 |
| 本発明の絶縁ペーストは、（ａ）ガラス粉末と、（ｂ）有機溶剤とを含み、ガラス拡散抑制剤としてアルミナ（Ａｌ 2 Ｏ 3 ）および酸化チタン（ＴｉＯ 2 ）の一方または両方が前記ペースト中に含有され、このガラス拡散抑制剤の含有量は、前記ペースト中の無機成分の含有量に基づいて１２〜５０重量％である。 | ||||||
| 157 | Methods for making vitreous layer on the metal surface | JP54240198 | 1998-04-09 | JP4147496B2 | 2008-09-10 | ヘルムート シュミット; マルチン メニッヒ; ゲルハルト ヨンシュカー |
| 158 | Methods for making vitreous layer on the metal surface | JP54240198 | 1998-04-09 | JP2001518979A | 2001-10-16 | ヘルムート シュミット; マルチン メニッヒ; ゲルハルト ヨンシュカー |
| (57)【要約】 開示されているのは、装飾性で、引掻き耐性であり、腐食を阻害するガラス質層を金属表面に作製する方法である。 本発明方法は、金属表面に適用されるコーティング組成物が、１種以上の一般式(I)のシラン、 ［式中、基Xは、同一または互いに異なって、加水分解性基またはヒドロキシル基であり、基Rは、同一または互いに異なって、水素、12個までの炭素原子を有するアルキル、アルケニルまたはアルキニル基、および6〜10個の炭素原子を有するアリール、アラルキルおよびアルカリール基を示し、nは0、1または2である、但し、n=1または2を有する少なくとも１種のシランが使用される］又はそれから誘導されるオリゴマーの、a)ナノスケールSiO 2粒子および／またはb)アルカリおよびアルカリ土類金属の酸化物および水酸化物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物の存在下での、加水分解および重縮合を包含する方法によって得られるコーティング組成物を該金属表面上に適用することにより特徴付けられる。 それから生じるコーティングは、熱的に圧縮され、ガラス質層を形成し得る。 | ||||||
| 159 | Glass film forming method | JP31936689 | 1989-12-08 | JP2937369B2 | 1999-08-23 | NAKAJIMA MIKIO |
| 160 | Enameled*heattresistant metal*machined product | JP8551079 | 1979-07-05 | JPS5511195A | 1980-01-25 | YOZEFU BURATEIRU |
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