序号 专利名 申请号 申请日 公开(公告)号 公开(公告)日 发明人
1 泡沫控制组合物 CN201280008778.6 2012-02-16 CN103370406B 2017-12-22 P·德尔布拉斯尼; L·伽乐兹; 马蒂尔德·居特; J-P·勒克姆
发明提供一种洗涤基材的方法。该方法涉及提供包括表面活性剂和消泡剂的洗涤剂组合物。消泡剂包含表面张至少27mN/m并小于40mN/m的疏流体和分散在疏水流体中的微细固体疏水填料。该方法还涉及用洗涤剂组合物在水介质中洗涤基材。消泡剂不影响洗涤步骤中的起泡。在洗涤步骤中,洗涤剂组合物被施加到基材。该方法还涉及用水漂洗带有所施加的洗涤剂组合物的基材,由此漂洗步骤中的起泡被抑制。
2 一种用于卫浴产品的工件表面处理清洗方法 CN201710674788.8 2017-08-09 CN107470249A 2017-12-15 郭洪明; 童华升
一种用于卫浴产品的工件表面处理清洗方法,它是先将卫浴产品的工件进行常规的表面清洗,将表面清洗后的工件放入一加入有纯的水槽中,至少将工件表面浸没在水槽的纯水中,所述的水槽中安装有紫外线灯管,并用所述的紫外线灯管对工件表面进行照射,照射时间至少0.5小时,然后取出工件后进行烘干;所述的水槽中安装有功率在15—50W的紫外线灯管,所述紫外线灯管对工件表面进行照射的照射剂量至少达到30000μw.s/cm2,且工件在所述水槽中的照射时间以紫外线功率和照射剂量这两个参数综合考量获得;它具有表面处理清洗方便,能消除各类卫浴工件表面可能产生霉变的细菌,保证日后卫浴产品在使用过程中不霉变等特点。
3 聚亚芳基硫醚的制造方法以及聚亚芳基硫醚的制造装置 CN201580011534.7 2015-04-21 CN106062039B 2017-11-14 小林正则; 小泉智义; 松崎光浩; 河间博仁
发明提供一种聚亚芳基硫醚(PAS)的制造方法以及制造装置,其中,在洗涤工序中,防止通过在聚合物粒子的表面附着气体而呈浮在洗涤槽内上部的洗涤液面上的状态的浮起聚合物的生成和向洗涤槽外的溢出,由此有助于高品质的聚合物的稳定生产、聚合物产率的提高、以及环境负荷的减轻。一种PAS的制造方法,其包含聚合工序、分离工序、洗涤工序以及回收工序,其中,在洗涤工序(逆流洗涤工序和/或逆流接触酸处理工序等)中,将性介质喷洒于浮在洗涤槽内上部的水性洗涤液面上的PAS;以及一种PAS的制造装置,其配设有具有水性介质喷洒单元的洗涤装置(逆流洗涤装置和/或逆流接触酸处理装置等)。
4 一种新能源太阳能路灯用的灯杆清理设备 CN201710477324.8 2017-06-21 CN107252788A 2017-10-17 李德英
发明涉及一种灯杆清理设备,尤其涉及一种新能源太阳能路灯用的灯杆清理设备。本发明要解决的技术问题是提供一种工作量小、省时省、清理干净的新能源太阳能路灯用的灯杆清理设备。为了解决上述技术问题,本发明提供了这样一种新能源太阳能路灯用的灯杆清理设备,包括有底板支撑杆、轮子、固定杆、推手、固定板、电动绕线轮、拉线、第一滑、第一定滑轮弹簧、第二滑块等;底板底部左右两侧均焊接有支撑杆,两支撑杆底端均设有轮子。本发明工人首先左右拨动固定杆,可达到持续喷的效果,如此可先将灯杆上粘贴的广告湿润,然后再控制刮板上下运动,可将灯杆上粘贴的广告刮除。
5 用于衬底漂洗和干燥的方法 CN201480013368.X 2014-03-14 CN105026058B 2017-10-10 卡洛斯·A·丰塞卡; 迈克尔·A·卡尔卡西
公开了一种用于最优化半导体制造中的漂洗和干燥过程的方法。该最优化图在保持低的缺陷数和高的器件良率的情况下最大化处理吞吐量,并且该最优化利用模拟和试验数据来设定漂洗和干燥过程的最优工艺参数。还公开了漂洗液体和吹扫气体喷嘴移动的改进方法。
6 一种模具的清洗方法 CN201710509895.5 2017-06-28 CN107159620A 2017-09-15 徐明
发明提供了一种模具的清洗方法,包括如下步骤:步骤一、初步清洗:将待清洗的模具高温煮沸;步骤二、性清洗:利用装有碱性清洗液的喷枪对经过步骤一处理的模具的进行喷射清洗;步骤三、中和清洗:在喷枪中装入能中和碱性清洗液的中和溶液,然后对经过步骤二处理的模具进行喷射清洗;步骤四、稀释清洗:在喷枪中装入稀释液,对经过步骤三处理的模具进行喷射清洗;步骤五、清清洗将经过步骤四处理过的模具放入清水槽中清洗,清洗时间为20分钟;步骤六、烘干:将经过步骤五处理的模具放在40-50℃的环境下烘干。提供一种模具的清洗方法,可以有效清洗模具内部油污,清洁程度高。
7 一种用于食品加工的过滤装置 CN201710247690.4 2017-04-17 CN107138415A 2017-09-08 刘影
发明公开了一种用于食品加工的过滤装置,包括过滤箱,过滤箱的顶部固定连接有进料斗,过滤箱的左侧板上固定连接有箱,过滤箱的内部固定连接有第一过滤网,第一过滤网的下侧设置有第二过滤网,第一过滤网和第二过滤网均呈倾斜状分布在过滤箱的内部,过滤箱内腔的底部固定连接有回收槽,过滤箱的右侧设置有清洗箱,过滤箱通过其左侧设置的输料管与清洗箱连通,清洗箱的左侧设置有净机。本发明可以将清洗之后的水进行净化,除去水中的杂质,然后就可以将水进行循环利用,从而可以不断的对小麦进行清洗,可以节省水资源,能够减少浪费,能够一次性将小麦清洗干净,可以节省大量的时间,使用更加方便。
8 手术器械的真空清理方法 CN201710258765.9 2017-04-19 CN107081298A 2017-08-22 王成友; 李光益; 宋林
发明涉及医疗器械的清洗方法,具体为一种手术器械的真空清理方法,包括以下步骤,步骤1预洗、步骤2酶洗、步骤3漂洗以及步骤4脱。本发明意在提供一种对超微手术器械具有良好清洗效果的清洗方法。
9 清洁晶圆的装置和方法 CN201310136296.5 2013-04-18 CN103871839B 2017-08-22 黄嘉宏; 黃正吉; 杨棋铭
发明涉及了一种清洁晶圆的装置,该装置包括腔室、处在腔室内部的可旋转衬底支持件、位于可旋转衬底支持件上方的喷嘴、面朝下方且与喷嘴流体连接的盖状件。该可旋转衬底支持件被配置成在其上装配一个或多个半导体晶圆。该喷嘴被配置成向一个或多个半导体晶圆上喷洒清洁介质。盖状件的形状具有带有顶部截面区域的顶部边缘和带有底部截面区域的底部边缘。本发明还提供了一种清洁晶圆的装置和方法。
10 用于防止接地故障电流且具有优异去除粉尘效果的多晶硅制备装置 CN201611123111.7 2016-12-08 CN107012507A 2017-08-04 吴珉暻; 姜秉昶; 尹钟寿; 尹民荣
发明涉及用于防止接地故障电流且具有优异的去除粉尘效果的多晶硅制备装置。所述多晶硅制备装置包括室和陶瓷颗粒层,所述室包括具有打开的下部的外壳和与所述外壳的下部连接的基板,所述陶瓷颗粒层在基板的上表面上,用于防止在过程中产生的硅粉尘与基板直接接触且在所述过程之后与硅粉尘一起被去除。
11 放电装置 CN201480046478.6 2014-09-17 CN105493362B 2017-08-04 世古口美德; 大江信之; 西田弘; 伊豆晃一; 谷口三奈子; 山田庆太郎
提供在高湿度环境或包含盐分的大气环境下也能够维持稳定的放电性能的放电装置。放电装置具备:放电电极(11),其被施加电压而放电;基板(15),其支撑放电电极(11);感应电极(12),其离开放电电极(11)配置;以及绝缘物(14),其将基板(15)和感应电极(12)全部密封。放电电极(11)具有:根部(11a),其被基板(15)支撑;尖端(11b),其从绝缘物(14)的表面(14s)突出;以及锥部(11c),其从根部(11a)往尖端(11b)变细。根部(11a)的外周面(11s)由与氢相比离子化倾向小的材料制成。
12 基板盒清洗装置 CN201380047027.X 2013-09-13 CN104620358B 2017-06-30 坂下俊也
能够使基板盒的各部件在槽主体内分离地进行清洗,并能够使清洗液均匀地遍布而可靠地进行清洗。在未设置基板的状态下清洗基板盒(C),所述基板盒(C)具备底座(Mb)和壳(Ms),并且在内部容纳基板,具备清洗槽(40),所述清洗槽(40)在将基板盒(C)的底座(Mb)和壳(Ms)各部件分离的状态下容纳并清洗这些部件,具备搬送机构,所述搬送机构相对于清洗槽(40)搬送基板盒(C)的各部件,清洗槽(40)构成为具备槽主体(42)和能开闭的盖(43),清洗槽(40)具备:旋转板(44),其在槽主体(42)的底部设置成能够以垂直方向的轴线为中心进行旋转;多个底座支承杆(46),其竖立设置在旋转板(44)上,并在规定的高度位置处对底座(Mb)的外缘的一部分进行支承;和多个壳支承杆(47),其竖立设置于旋转板(44上,并在与底座支承杆(46)不同的规定的高度位置处对壳(Ms)的外缘的一部分进行支承。
13 一种利用声波处理的废桶清洗回收处理方法 CN201710100343.9 2017-02-23 CN106862237A 2017-06-20 范泽辉; 张珏
发明涉及一种废桶清洗回收处理方法。包括以下步骤:废桶破碎、曝气清洗、声波清洗、三次市漂洗和滚筒甩干。本发明通过采用曝气清洗槽、超声波清洗槽和三个市水漂洗槽依次顺序对破碎后的废桶碎片进行清洗,有效的将残留在废桶碎片上的有毒物质洗掉,清洗处理效果好,从而提高了后续回收利用率。
14 一种瓷砖用循环式清洗装置 CN201710094807.X 2017-02-22 CN106824887A 2017-06-13 李金平
发明公开了一种瓷砖用循环式清洗装置,它包括清洗部件,导轨及瓷砖夹具,导轨为循环闭合导轨,并设有第一下降区、第二下降区、第一上升区及第二上升区,第一下降区及第二下降区为“U”型导轨,设置在近地位置;瓷砖夹具设置有1个以上,可分别在所述导轨上安装或拆卸,安装后瓷砖夹具在导轨牵引下运动。本发明通过在导轨上设置有第一、第二上升区及第一、第二下降区,上升区可执行瓷砖清洗前处理或清洗后的烘干晾晒操作;下降区则执行瓷砖清洗操作、挂砖或卸砖操作;由于循环高度的控制以满足挂砖、运输、清洗、晾干及卸砖操作,路径环绕闭合,解决了市场上出现的通过长条清洗线占用空间大,清洗不干净的严重问题,节约人资源。
15 太阳能清洁器 CN201580010481.7 2015-06-02 CN106794492A 2017-05-31 马克·格罗斯曼; 德万·卡梅伦·卡斯特卢奇; 塞德里克·让蒂; 胡安·桑切斯-加西亚; 埃里克·库敏斯
发明提供了一种光伏(PV)模清洁系统,所述系统可包括机器人清洁装置和支持系统。所述支持系统可被配置为将计量填充物提供给所述机器人清洁装置。在一些实施例中,所述机器人清洁装置包括弯曲清洁头。用于在光伏模块上部署机器人清洁装置的各种技术包括往返技术、跳蛙技术以及其他技术。
16 回流机构 CN201611070796.3 2016-11-28 CN106733872A 2017-05-31 项操; 李斌; 王世峰; 刘金成; 郑柳
发明公开一种回流机构,包括:化学溶剂收集槽、清收集槽、化学溶剂循环管、清水循环管、清水进水管、废水排出管、化学溶剂清洗箱及清水清洗箱。化学溶剂清洗箱具有化学溶剂流入口及化学溶剂流出口,清水清洗箱具有清水流入口及清水流出口;化学溶剂收集槽、化学溶剂循环管、化学溶剂清洗箱连通形成水循环回路;清水收集槽、清水循环管、清水清洗箱连通形成水循环回路。通过设置学溶剂收集槽、清水收集槽、化学溶剂循环管、清水循环管、清水进水管、废水排出管、化学溶剂清洗箱及清水清洗箱,形成机械自动化生产,提高了生产效率。
17 皮肤模式化液流冲洗仪 CN201610119993.3 2016-03-03 CN105628886B 2017-05-31 张丽; 高兴华; 齐瑞群; 陈洪铎; 吕润潇
皮肤模式化液流冲洗仪属于模拟特定条件的液流对生物体皮肤的冲洗装置技术领域,尤其涉及一种皮肤模式化液流冲洗仪。本发明提供一种使用方便,使模拟液流冲击皮肤表面标准化的皮肤模式化液流冲洗仪。本发明包括竖向壳体,其结构要点壳体上端设置有竖向进口,壳体侧壁上部设置有横向废液传输口,废液传输口通过竖向第一回收管与壳体下部外侧围绕壳体设置的第二回收管相连,第二回收管上设置有废液回收口;壳体下端周边设置有连接部。
18 一种涂布线夹头清洗机 CN201611246666.0 2016-12-29 CN106694422A 2017-05-24 宋波; 李想; 成厚文
一种涂布线夹头清洗机,包括压板、夹头打开按钮、清洗槽、升降架、毛刷、夹头和热枪,所述清洗槽安装在升降架上,所述毛刷安装在清洗槽中,所述清洗槽中安装有清洗液,所述压板位于清洗槽上方,所述夹头位于压板与清洗槽之间,所述压板的两端与气缸的轴芯相连,所述气缸由夹头打开按钮控制,启动夹头打开按钮时,夹板下压、打开夹头,排气后气缸轴芯回缩,夹板上升、夹头关闭,所述热风枪对着夹头安装。本发明可自动清洁涂布线夹头,从而替代员工作业,节约人,提高效率;清洁效果佳,可彻底清洁夹头表面油墨渣;对涂布线夹头没有任何损伤。
19 内窥镜清洗消毒机 CN201680001646.9 2016-03-24 CN106662545A 2017-05-10 岩崎友和
发明内窥镜清洗消毒机包括:药液容器,其用于贮存药液;浓度测量部,其以渗透膜没入到所述药液中的方式配置于所述药液容器;气体产生部,其包含用于使所述药液的一部分气化而产生气体的气化部,该气体产生部配置于在所述药液中浮起的所述气体接触到所述渗透膜的位置;以及控制部,其连接于所述浓度测量部和所述气体产生部,进行在使所述气体产生部停止的状态下驱动所述浓度测量部的第1控制和在驱动所述气体产生部的状态下驱动所述浓度测量部的第2控制。
20 机械设计处理系统 CN201510687428.2 2015-10-22 CN106607800A 2017-05-03 吴德艳
发明涉及一种机械设计处理系统,包括承载架,承载架左侧上部安装有上活动链接系统,承载架左侧下部设有承载装置,承载装置上部右侧安装有自由升降系统,自由升降系统上部安装有多个工具系统,自由升降系统左侧设有自动伸缩机构,自动伸缩机构左侧安装有下活动链接系统,上活动链接系统和下活动链接系统上铰链设有机械设计系统;承载装置下部安装有清洗液系统;清洗液系统左侧上部安装有分离处理网。该发明系统能有效地针对机械设计进行处理,方便调节处理机械设计系统,并方便调节机械设计系统度,也方便清洗和干燥机械设计系统。
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