子分类：
- B08B3/041： ..{清洁运动中的工件}
- B08B3/044： ..{利用搅动内置有液体和物品或材料的容器的方式(通过超声振动的方式入B08B3/12;搅动清洁桶或圆柱体入B08B9/12D;具有摇动,振荡或振动机械装置的搅拌器入B01F11/00)}
- B08B3/045： ..{利用带孔的容器,如篮,或在液体槽中浸入和搅动的架(利用多孔的滚筒入B08B3/06)}
- B08B3/048： ..{溢流式清洁,例如水槽中的水溢满了物品容置槽}
- B08B3/06： ..利用里面放置有物品或材料的带孔的滚筒, {(B08B3/042优先)}
- B08B3/08： ..具有化学作用或溶解作用的液体(使用的物质,参见有关的类)
- B08B3/10： ..对液体或被净化物体进行附加处理的,如用加热,电力,振动
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 81 | 一种氧化铝陶瓷片处理工艺 | CN201610060447.7 | 2016-01-29 | CN105565856A | 2016-05-11 | 杨莉 |
| 一种氧化铝陶瓷片处理工艺，步骤如下：（1）蒸馏水清洗：将陶瓷片放置在100%纯水中清洗，烘干；（2）酮洗：将清洗过的陶瓷片放置在40-50%丙酮中浸泡，烘干；（3）碱洗：将酮洗过陶瓷片置于80-90%碳酸钠溶液中浸泡，烘干；（4）酸洗：将步骤（3）中烘干的陶瓷片放置在10%硫酸溶液内浸泡，烘干；本发明的有益效果是：硬度大，耐磨性能极好，重量轻，表面吸附力强，是未经处理的陶瓷片的表面吸附力的10-20，通过胶水与橡胶结合后非常牢固、耐用。 | ||||||
| 82 | 一种节水洗手间 | CN201610073538.4 | 2016-02-02 | CN105544662A | 2016-05-04 | 茹朝贵; 王曼俪 |
| 一种节水洗手间，主要包括洗手台和蹲厕，在洗手台下方设有水箱，洗手盆中的水通过洗手盆下水直接流入水箱，水箱通过冲水管与蹲厕连通，在冲水管的进水端设有流量阀，流量阀与设在墙壁或洗手台侧板上的冲水键相连，在水箱靠近顶壁的侧壁上设有溢流口，溢流管的一端与溢流口相连，溢流管的另一端与处于流量阀下游的冲水管相连，水箱多余的水从溢流管流到冲水管再流到蹲厕，将水箱设在洗手台里，能够接收洗手盆产生的废水，利用废水来冲刷蹲厕，起到节水的作用。 | ||||||
| 83 | 一种氧化铝陶瓷片处理工艺 | CN201610062455.5 | 2016-01-29 | CN105541401A | 2016-05-04 | 孙英 |
| 一种氧化铝陶瓷片处理工艺，步骤如下：（1）蒸馏水清洗：将陶瓷片放置在100%纯水中清洗，烘干；（2）酮洗：将清洗过的陶瓷片放置在40-50%丙酮中浸泡，烘干；（3）碱洗：将酮洗过陶瓷片置于10-20%碳酸钠溶液中浸泡，烘干；本发明的有益效果是：硬度大，耐磨性能极好，重量轻，表面吸附力强，是未经处理的陶瓷片的表面吸附力的10-20，通过胶水与橡胶结合后非常牢固、耐用。 | ||||||
| 84 | 一种氧化铝陶瓷片处理工艺 | CN201610062420.1 | 2016-01-29 | CN105541400A | 2016-05-04 | 孙英 |
| 一种氧化铝陶瓷片处理工艺，步骤如下：（1）蒸馏水清洗：将陶瓷片放置在100%纯水中清洗，烘干；（2）酮洗：将清洗过的陶瓷片放置在10-20%丙酮中浸泡，烘干；（3）碱洗：将酮洗过陶瓷片置于40-50%碳酸钠溶液中浸泡，烘干；本发明的有益效果是：硬度大，耐磨性能极好，重量轻，表面吸附力强，是未经处理的陶瓷片的表面吸附力的10-20，通过胶水与橡胶结合后非常牢固、耐用。 | ||||||
| 85 | 一种氧化铝陶瓷片处理工艺 | CN201610062417.X | 2016-01-29 | CN105541399A | 2016-05-04 | 孙英 |
| 一种氧化铝陶瓷片处理工艺，步骤如下：（1）蒸馏水清洗：将陶瓷片放置在100%纯水中清洗，烘干；（2）酮洗：将清洗过的陶瓷片放置在10-20%丙酮中浸泡，烘干；（3）碱洗：将酮洗过陶瓷片置于20-30%碳酸钠溶液中浸泡，烘干；本发明的有益效果是：硬度大，耐磨性能极好，重量轻，表面吸附力强，是未经处理的陶瓷片的表面吸附力的10-20，通过胶水与橡胶结合后非常牢固、耐用。 | ||||||
| 86 | 提纯式真空干燥器及方法 | CN201510949577.1 | 2015-12-18 | CN105509415A | 2016-04-20 | 葛正兴; 沈佳宇; 欧阳兆烽; 陆亚峰; 朱凯波; 朱健 |
| 本发明公开了一种提纯式真空干燥器及方法，所述提纯式真空干燥器包括反应釜，其特征在于，所述反应釜内设有蒸汽分布器和液体分布器，所述液体分布器位于反应釜的上部，蒸汽分布器位于反应釜下部，所述蒸汽分布器与液体分布器之间设有铺料的密网；所述反应釜与真空泵连接，用于抽气排湿；反应釜的釜壁设有可通入加热介质的夹层。本发明在对物料干燥的同时可进行提纯，简化了处理工艺，提高一次加工工艺出产产品的纯度，降低生产成本，节约能源，显著提高生产效率，且可通过全自动化处理的方式实现，适合推广使用。 | ||||||
| 87 | 车辆手持清洁设备 | CN201510411560.0 | 2015-07-14 | CN105499176A | 2016-04-20 | 付军; 李智光; 王晶; 傅康龙; 马勋 |
| 本发明涉及车辆清洁技术领域，具体为一种电量、水量的使用量都较少、使用后无需清理、且清洁效果非常好的车辆手持清洁设备，包括设备本体(1)、毛辊(2)、电机(3)、传动机构(4)；所述毛辊(2)安装在设备本体(1)的下端，所述电机(3)安装在设备本体(1)中，所述传动机构(4)安装在设备本体(1)上，所述电机(3)的传动轴通过传动机构(4)与毛辊(2)联动，所述设备本体(1)的底部设有洒水机构(9)；这样的结构不仅大大降低了用电量、节约了水资源、降低了洗车工作强度，同时结构简单、清洗效果极好。 | ||||||
| 88 | 一种药芯焊丝钢带清洗机 | CN201510837714.2 | 2015-11-26 | CN105344631A | 2016-02-24 | 郇淑江; 信业刚 |
| 本发明属于药芯焊丝加工技术领域，特别涉及一种药芯焊丝钢带清洗机。该药芯焊丝钢带清洗机，包括钢带，钢带依次经过清洗剂池和水池，其特征是：清洗剂池和水池内分别设有两片夹紧钢带的除水棉，两块除水棉外侧分别设有夹紧片，一组夹紧片焊接于清洗剂池内壁，另一组夹紧片焊接于水池内壁。本发明的有益效果是：可快速去除经过清洗后钢带上的水分，防止产生污染，利于快速的烘干，保证了产品质量；结构简单、安装方便、成本低，除水效果好。 | ||||||
| 89 | 用于清洗化妆刷的带纹理的装置 | CN201310063907.8 | 2013-02-28 | CN103519435B | 2016-02-10 | 雷内·泽维尔·费尔霍; 西蒙·罗得里格斯·奥利维拉·泽维尔 |
| 一种用于清洗化妆刷的带纹理的装置包括前面板和互补的后面板，所述前面板和后面板协作以形成用以容纳使用者的手的包覆物。所述前面板覆盖手掌侧并且包含适用于大化妆刷的不同的洗涤纹理、冲洗纹理和后冲洗纹理。所述后面板包含适用于诸如用以涂施眼妆的化妆刷等小化妆刷的不同的洗涤纹理、冲洗纹理和后冲洗纹理。所述装置还包含沿连指手套的拇指段和连指手套的主体的食指侧之间的光滑表面区，以方便在清洗后将刷头挤压在该光滑表面的两个相对部分之间，从而去除多余水分。 | ||||||
| 90 | 一种液体分配器 | CN201510760510.3 | 2015-11-10 | CN105257884A | 2016-01-20 | 栾慰林 |
| 本发明公开了一种液体分配器，包括固设于机架上且内部有进出液通道的静止轴、转动的设于机架上的且开设有多个与进出液通道的出液口对应出液的管道接口的转动外套、密封件，每组密封件均包括固定套设于静止轴外侧的第一环形密封件、固设于转动外套内侧的第二环形密封件、设于转动外套内侧的用于提供驱动第二环形密封件抵紧第一环形密封件的弹性驱动力的弹性件，液体分配器还包括设于静止轴和转动外套之间的用于通入将弹性件压缩的清洗液的清洗通道。本发明装置通过在静止轴和转动外套之间设置清洗通道，通入具有一定压力的清洗液将弹性件压缩，使第二环形密封件和第一环形密封件之间露出可供清洗密封面的间隙，避免了微生物的滋生。 | ||||||
| 91 | 电脑键盘的除污装置 | CN201510721790.7 | 2015-10-30 | CN105251715A | 2016-01-20 | 陈佳英 |
| 本发明公开了一种电脑键盘的除污装置，包括套管，套管包括动力单元和清洗单元，动力单元包括用于放置电池的电源、开关和电动机，电源设置于套管的内壁上，开关设置于套管的外壁上，电动机设置于套管内，且电源与开关、电动机串联；清洗单元包括转轴和连接板，转轴的一端与电动机连接，转轴的另一端与连接板连接，连接板上设有三根连接杆，每根连接杆上连接有储液盒，储液盒外部套接有除污头，且储液盒设有若干个渗透孔。本方案解决了现有清洗键盘的器具效率低、效果差的问题。 | ||||||
| 92 | 卫生和无菌的清洁站 | CN201480010456.4 | 2014-02-23 | CN105246603A | 2016-01-13 | 乌尔斯·霍弗; 安德烈斯·胡贝尔 |
| 本发明公开了一种就地清洁发射站，其具有清洁清管器(16)的清洁室(2)。所述清洁室(2)被配置并构造成使所述清管器在清洁过程中能够被湍流流动的清洁流体完全包围。将能够使所述清管器(16)轴向移动的活塞(3)完全包封在所述清洁室中。所述活塞(3)具有至少一个内部流体通道(10)，所述通道连接面向所述清管器(16)的活塞的前端(6)前面的空间与所述活塞的后端(8)后面的空间。 | ||||||
| 93 | 基板处理装置和基板处理方法 | CN201110344043.8 | 2011-11-02 | CN102479671B | 2016-01-13 | 户岛孝之; 岩下光秋; 上川裕二; 中岛干雄 |
| 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。该基板处理装置在使用高压流体进行被处理基板的处理时，能够防止高压流体经由被设于用于进行该处理的处理容器的配管向其他的设备的流入。在处理容器中，利用超临界状态或者亚临界状态的高压流体对被处理基板进行处理，该处理容器与在流体的流动方向上被分割成第1配管构件以及第2配管构件、并且供流体流通的配管连接。连接-分开机构使上述第1、第2配管构件中的至少一个在将第1配管构件和第2配管构件彼此连接起来的位置与将第1配管构件和第2配管构件分开的位置之间移动，开闭阀分别设于第1、第2配管构件、并且在使上述配管构件分开时被关闭。 | ||||||
| 94 | 光学玻璃胶合镜片去胶工艺 | CN201510580843.8 | 2015-09-14 | CN105149309A | 2015-12-16 | 邹鸳明 |
| 光学玻璃胶合镜片去胶工艺，它涉及一种去胶工艺技术领域。它的去胶工艺为：1、镜片对光轴OK后，使用UV光照射固定，胶水对紫外线后发生化学反应固化，镜片周边就会残留固化后的胶；2、胶合好的镜片直接排在洗净栏上面；3、上好在洗净栏的镜片直接放在BOLI-3洗净液里面浸泡约15分钟；4、浸泡完BOLI-3后镜片放在超纯水系统中洗净3分钟即可；本发明除胶时间短，效果显著。对胶合缝隙无破坏性，对镜片无伤害。 | ||||||
| 95 | CVD生产空间的清洁 | CN201480020750.3 | 2014-03-20 | CN105121342A | 2015-12-02 | 哈拉尔德·赫特莱因; 弗里德里克·波普 |
| 本发明的主题是一种用于清洁生产多晶硅用生产空间的方法，其中，空间包括多个CVD反应器，清洁在两周内进行至少一次。为了进行清洁，使用水性清洁液，清洁CVD反应器的外壳、管道和生产空间的地板。 | ||||||
| 96 | 电子材料的清洗方法和清洗系统 | CN201180013890.4 | 2011-03-02 | CN102844845B | 2015-12-02 | 山川晴义; 床嶋裕人 |
| 一种电子材料清洗系统具备试剂清洗设备(1)、湿式清洗设备(2)和单片式清洗装置(3)。试剂清洗设备(1)具有功能性试剂蓄存槽(6)和介由浓硫酸电解管道(7)与该功能性试剂蓄存槽(6)连接的电解反应装置(8)。该功能性试剂蓄存槽(6)介由功能性试剂供给管道(10)可将功能性试剂(W1)供给于单片式清洗装置(3)。湿式清洗设备(2)具备纯水的供给管道(21)、与氮气源连通的氮气供给管道(22)、以及这些纯水供给管道(21)和氮气供给管道(22)分别连接于其上的内部混合型二流体喷嘴(23)。从二流体喷嘴(23)的前端可喷射由氮气和超纯水形成的液滴(W2)。根据所述电子材料清洗系统，可以缩短电子材料的抗蚀剂的剥离处理所需的时间，进而通过抗蚀剂剥离后的湿式清洗，可以在短时间内确实地除去抗蚀剂残渣。 | ||||||
| 97 | 液处理装置及液处理方法 | CN201210016401.7 | 2012-01-18 | CN102610488B | 2015-11-25 | 东岛治郎; 八谷洋介; 相浦一博; 伊藤规宏; 新藤尚树; 伊藤优树 |
| 本发明提供一种液处理装置及液处理方法，其能够防止由附着在用于支承喷嘴的喷嘴支承臂上的污垢污染处理室内的基板。液处理装置(10)包括：处理室(20)，其在内部设有用于保持基板(W)的基板保持部(21)和配设在该基板保持部(21)的周围的杯(40)；喷嘴(82a)，其用于向保持在基板保持部(21)的基板W供给流体；喷嘴支承臂，其用于支承喷嘴(82a)。在液处理装置(10)中设有用于对喷嘴支承臂(82)进行清洗的臂清洗部(88)。 | ||||||
| 98 | 铜棒清洗装置 | CN201510382032.7 | 2015-07-03 | CN105032824A | 2015-11-11 | 张兴良 |
| 本发明公开了一种铜棒清洗装置，包括筒体，筒体的侧面设有入水口，筒体顶部设有一长条形缺口，缺口处水平设有一块延伸板，筒体底部设有出水口。筒体内盛放铜棒，由入水口先注入清洗液，多余的清洗液从顶部延伸板溢出，当铜棒表面的油污被浸泡浮出后，通过出水口将清洗液和杂质排出，入水口冲入清水冲洗剩余的油污，油污从顶部顺水溢出，以此将铜棒清洗干净。 | ||||||
| 99 | 一种PC镜片粗品的清洗工艺 | CN201510470273.7 | 2015-08-04 | CN105013752A | 2015-11-04 | 高东保; 杨进 |
| 本发明公开了一种PC镜片粗品的清洗工艺，包括以下步骤：吹干—超声波清洗—高纯水清洗—纯水润洗—带有超声波的纯水润洗—脱水—烘干—吹冷，本发明提供的一种PC镜片粗品的清洗工艺，整个加工过程中不涉及酸碱清洗液，生产环境良好，水分利用率高，能够节约能源，并且通过该清洗工艺后的PC镜片表面均匀，不仅透光率高，而且对后续的加硬程序也十分有利。 | ||||||
| 100 | 一种环规自动化清洗装置 | CN201510393253.4 | 2015-07-07 | CN105013750A | 2015-11-04 | 吴光武 |
| 本发明公开了一种环规自动化清洗装置包括：上料单元、传输单元、第一浸泡单元、第一清洗单元、第一干燥单元、第二清洗单元、第二干燥单元、检测单元，实现了自动化对环规进行清洗，清洗效率较高，且清洗效果较好的技术效果。 | ||||||
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