首页 / 国际专利分类库 / 化学;冶金 / 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆 / 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆(在表面上使用液体或其他流体材料的一般涂覆入B05;挤压法制造包覆金属的产品入B21C 23/22;通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置, 例如B21D 39/00,B23K;采用电极并通过作用于工件的高度集中电流加工金属入 B23H;玻璃的金属化入C03C;砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B 41/00;涂料、合成漆、天然漆入C09D;金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入 C23D;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制入 C23F;单晶膜生长入C30B;半导体器件的制造入H01L ;印刷线路的制造入H05K)
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序号 专利名 申请号 申请日 公开(公告)号 公开(公告)日 发明人
121 一种提升件防腐性能的加工工艺 CN201710670617.8 2017-08-08 CN107502847A 2017-12-22 周正明
发明公开了一种提升件防腐性能的加工工艺,包括如下步骤:(1)表面预处理、(2)燃烧除油处理、(3)表层复合处理、(4)热浸锌处理。本发明各工艺步骤搭配合理,有效改善了对铸铁件的加工处理效果,提升了其耐磨、耐腐、强度等性能,明显延长了铸铁件的使用寿命,具有很强的市场竞争
122 一种耐腐蚀高导磁率的基软磁复合材料及其制备方法 CN201710543241.4 2017-07-05 CN107498035A 2017-12-22 林海; 张和平; 万美云; 邢朝东
发明公开一种耐腐蚀高导磁率的基软磁复合材料,由以下重量份的原料组成:铁粉40-55,纳米高岭土9-15,正酸乙酯20-32,十二烷基苯磺酸钠4-7,聚乙烯吡咯烷13-22,甲基丙烯酸甲酯17-35,乙醇适量,去离子适量,引发剂2-6,饱和NaCl溶液适量,硅酸2-6,氯化石蜡2-4,铝粉2-6,乙醇铝3-10,乙二醇适量。本发明制备得到化硅网状结构覆盖在纳米高岭土与铁粉混合颗粒表面,之后与甲基丙烯酸甲酯原位聚合,得到聚甲基丙烯酸甲酯接枝包覆磁性颗粒,提高材料的致密性,降低气孔率,提高绝缘性以保护铁粉颗粒被氧化腐蚀,提高材料的比饱和磁感应强度,软磁材料的磁能积高,磁性稳定。
123 基板结构的制造方法及基板结构 CN201410301559.8 2014-06-27 CN105023848B 2017-12-22 罗昱凯; 陈世宏; 郭昱甫; 陈群霖; 陈璟文
一种基板结构的制造方法及基板结构。该基板结构的制造方法包括:直接形成一第一金属层于一基底上;直接形成一第一保护层于该第一金属层上;藉由使用包括一硫醇基的一化合物来直接形成一第二保护层于该第一保护层上;图形化该第二保护层以形成具有暴露该第一保护层的一开口的一图案;以及形成一第二金属层于该第二保护层的该开口内,且直接形成于该第一保护层上。本发明是相比传统实际操作更有效率且更符合成本效益的方法来发展图形化结构于基板上。
124 用于辐射管的支承装置 CN201380069232.6 2013-01-02 CN104995470B 2017-12-22 马西米亚诺·比松
一种辐射管支承装置,该辐射管支承装置能够在用于热处理、用于连续生产线的炉中使用,连续生产线用于对由金属片制成的条带或面板或由或其它金属制成的其它产品进行锌和退火,该辐射管支承装置包括限制至炉的壁的炉侧壁支承件(20、120)、设置有管状元件(12、112)的辐射管支承件(10、110)和在管状元件(12、112)与炉侧壁支承件(20、120)之间的防粘接装置,该防粘接装置用于支承辐射管并且允许辐射管进行侧向摆动,从而避免粘接在炉侧壁支承件(20、120)上。
125 金属薄膜烷或烷处理 CN201410075121.2 2014-03-03 CN104051250B 2017-12-22 E·希罗; S·豪克卡
对一些金属膜的负面作用可以通过使所述膜与包含烷或烷的处理剂接触而减小或预防。在一些实施方案中,使NMOS栅极堆叠中的一个或多个膜在沉积期间或之后与包含硅烷或硼烷的处理剂接触。
126 一种太阳能选择性吸收涂层、制备方法及光热转换装置 CN201710697199.1 2017-08-15 CN107490204A 2017-12-19 张金柱; 王立成; 李爱丽; 张安
发明提供了一种太阳能选择性吸收涂层、制备方法及光热转换装置,所述太阳能选择性吸收涂层由底层至表层依次包括红外反射层、厚度为10-50nm的金属氮化物层、吸收层和减反层,所述吸收层为石墨烯材料层。所述太阳能选择性吸收涂层的热稳定性高,不易变质,吸收率高,发射率低,并且制备工艺简单,易于控制,吸收层的附着强,与其相邻的层之间的结合力强,不易脱落,成膜速度快,致密性好,适用于光热转化装置。
127 一种奥氏体不锈酸洗钝化剂及其制备方法 CN201710661113.X 2017-08-04 CN107488858A 2017-12-19 季吉清
发明公开了一种奥氏体不锈酸洗钝化剂,包括如下重量份组分:过化氢1~4份、氟酸1~2份、硝酸0.6~1.5份、椰油酰胺丙基羟磺酸甜菜2~3份、十二烷基二甲基氧化胺0.5~0.8份、聚丙烯酰胺0.2~0.3份、硫脲0.6~1.5份、乌洛托品0.1~0.5份、环氧硬脂酸辛酯0.1~0.7份、5~12份。该奥氏体不锈钢酸洗钝化剂对不锈钢表面的氧化物具有很好的去除作用,去除率达到99%以上,该产品性质温和,不会对不锈钢表面产生二次破坏,具有商业应用价值。
128 一种氮化涂层的制备方法 CN201610411125.2 2016-06-13 CN107488850A 2017-12-19 马景元
发明提供一种氮化涂层的制备方法,涉及一种金属涂层制备技术领域。该发明包括以下步骤:备料:打磨:清洗:预涂:干燥:高温扩散。本发明方法简单,成本低,提高了碳氮化钛增强钛基复合涂层的制备效率,从根本上解决了等离子体化学气相沉积、中温化学气相沉积、空心阴极离子、离子束辅助沉积、粉末冶金真空烧结激光熔覆等方法存在的问题,开辟了碳氮化钛增强钛基复合涂层制备的新途径。
129 一种焊接件发黑处理方法 CN201710696361.8 2017-08-15 CN107488846A 2017-12-19 周正明
发明公开一种焊接件发黑处理方法,包括以下操作步骤:(1)将焊接件表面清洗干净后,放入发黑液A中浸泡处理15-20min;(2)将经过步骤(1)处理的焊接件进行超声处理20-30min;(3)将经过步骤(2)处理的焊接件放入发黑液B中,浸泡处理8-12min后,取出;(4)将经过步骤(3)处理的焊接件放入封闭液中,浸泡处理5-10min后,取出,洗净,烘干,制得成品。本发明提供的焊接件表面发黑的处理方法,操作方法简单,制得的发黑膜,黑亮、结合好、耐蚀性强,处理工艺稳定,成品率高,可用于大批量的生产。
130 防电腐蚀滚动轴承 CN201480016798.7 2014-01-07 CN105051240B 2017-12-19 虻川志向
一种防电腐蚀滚动轴承(1),其具备金属制的外轮(2)和藉由多个滚动体(5)所配置的金属制的内轮(3),在外轮(2)或内轮(3)的外表面(21)、(31)通过等离子体法形成有防电腐蚀用的陶瓷喷镀皮膜(10)。使被覆的外轮(2)或内轮(3)的外表面(21)、(31)的表面粗糙度为Ra:0.5μm~2.0μm,使陶瓷喷镀皮膜(10)的组成为化物的含量:98.0重量%~99.5重量%、氧化物的含量:0.5重量%~2重量%,使陶瓷喷镀皮膜(10)的膜厚为50μm~100μm,使陶瓷喷镀皮膜(10)的体积电阻率为1013Ωcm~1016Ωcm,使绝缘击穿电压为35kV/mm以上。
131 磁控溅射腔室及磁控溅射设备 CN201410107896.3 2014-03-21 CN104928635B 2017-12-19 杨玉杰; 邱国庆; 王厚工
发明提供的磁控溅射腔室及磁控溅射设备,其包括承载件和环形磁体组件,其中,承载件用于承载环形磁体组件,并使其与磁控溅射腔室内的等离子体隔离;环形磁体组件环绕在靶材的外围,且位于靠近靶材的位置处,用以在进行溅射沉积工艺时,产生可提高靶材边缘区域的磁场强度的辅助磁场,从而可以增加自靶材边缘区域溅射出粒子的数量,且减少自靶材中心区域溅射出的粒子数量,进而可以提高基片边缘区域的薄膜厚度,减小基片中心区域的薄膜厚度。本发明提供的磁控溅射腔室,其不仅可以更灵活地调节磁控溅射腔室内产生的磁场的分布和强度,而且还可以在能够获得低应的薄膜的前提下,提高薄膜厚度的均匀性。
132 对电感耦合的等离子体沉积反应器的工艺气管理 CN201310412808.6 2013-09-11 CN103668117B 2017-12-19 F·阿洛克塞; R·B·米利根盖
披露了关联于加工半导体衬底的硬件和方法的实施例。一示例性薄膜沉积反应器,包括:工艺气分配器,该工艺气分配器包括:被定位以将等离子气提供给薄膜沉积反应器中的等离子发生区的等离子气馈给进口以及被定位以将薄膜前体气提供给等离子发生区的下游的前体气馈给进口;绝缘的密闭容器,其被配置成在薄膜沉积反应器中将等离子发生区维持在降低的压下;以及电感耦合的等离子(ICP)线圈,其被设置在绝缘的密闭容器的一部分侧壁周围并被定位成使侧壁将等离子发生区与ICP线圈隔开;以及基座,其被配置成支承半导体衬底以使半导体衬底的薄膜沉积表面暴露于被形成在工艺气分配器下游的反应区。
133 一种聚四氟乙烯表面的耐高温射频电缆的加工工艺 CN201710666220.1 2017-08-07 CN107482297A 2017-12-15 王彬; 刘大亮; 徐金龙
发明公开了一种聚四氟乙烯表面的耐高温射频电缆的加工工艺,包括以下步骤:先将整体被聚四氟乙烯绝缘的射频电缆放入二氯乙烷中采用超声清洗;然后进行粗化、敏化、活化处理;将活化后的射频电缆置于KOH和甲混合溶液中30S;将射频电缆放入配制好的化学镀银溶液化学镀银;化学镀银处理后的射频电缆再经连续镀银加厚银层并干燥得到镀银射频电缆。本工艺自配表面金属化试剂,对射频电缆外的聚四氟乙烯材料表面改性具有非常显著的效果;制得的整体被聚四氟乙烯绝缘的射频电缆形成的纯银外导体具有良好的致密性,连续性,均匀性,优良的结合以及优良的导电性能和屏蔽性能。
134 用于改善ALN陶瓷表面蒸膜厚度均匀性的装置 CN201710595822.2 2017-07-20 CN107481919A 2017-12-15 祝林; 贺贤汉; 戴洪兴
发明设计一种用于改善ALN陶瓷表面蒸膜厚度均匀性的装置,包括两个侧板,每个侧板包括上下两级台阶,每级台阶包括一个平台阶面和一个垂直台阶面,两个侧板的两级台阶面对面平行放置;包括支撑杆,所述支撑杆两端分别焊接于两个侧板的下级台阶的垂直台阶面上;包括陶瓷板,所述陶瓷板放置于两个侧板的下级台阶的水平台阶面上。蒸镀时可将片直接放在装置里,在整个蒸镀过程中。ALN陶瓷与铜片不直接接触,相互之间保持固定的距离,保证了蒸镀膜厚度均匀,减少烧结后气泡,提高了产品良率。
135 一种基于参差表面结构的缸套及其生产方法 CN201710613221.X 2017-07-25 CN107476894A 2017-12-15 黄德松
发明公开一种基于参差表面结构的缸套,包括缸套基体,所述缸套基体外表面形成有毛刺部和环形槽体部,所述毛刺部和环形槽体部相互独立且所述毛刺部和环形槽体部间隔错位设置;所述毛刺部具有多个凸起,所述凸起的高度在0.1~0.5mm,所述环形槽体部的槽深在0.2~0.4mm。本发明公开还公开一种制备上述铝缸套的方法。本发明公开的基于参差表面结构的铝缸套,能够提高与缸套基体的结合强度,并具备足够的耐磨性能,有助于获得有效的热传导率。
136 用于Zn电板的磷酸盐膜的组合物,涂覆有其的Zn电镀钢板和其涂覆所述钢板的方法 CN201611089987.4 2016-11-30 CN107475707A 2017-12-15 崔载雄
发明涉及用于Zn电板的磷酸盐膜的组合物,涂覆有其的Zn电镀钢板和其涂覆所述钢板的方法。所述用于Zn电镀钢板的磷酸盐膜的组合物,可以包含锌(Zn)、镍(Ni)和锰(Mn),其中Mn的含量是6至8wt%。
137 一种普通涂装基底用钝化剂及其制备方法 CN201710824285.4 2017-09-13 CN107475705A 2017-12-15 宋肖肖; 苏启顺; 苏阳
发明公开了一种普通涂装基底用钝化剂及其制备方法,属于金属表面处理技术领域,其特征在于,包括以下质量百分比的组分:磷酸二氢钠0.5-1.5%,氯化钠10-15%,草酸15-20%,草酸铵0.3-0.7%,石墨烯分散液1-5%,余量为去离子;其制备过程采用首先机械剥离法制备石墨烯分散液,然后将石墨烯分散液加入到由磷酸二氢钠、氯化钠、草酸、草酸铵组成的钝化剂基础液中;本发明的钝化体系成本低廉、无毒无铬,适用于普通钢涂装基底,能够大幅度提高普通钢涂装后的耐腐蚀性、耐盐雾性及附着
138 一种电工表面钝化处理方法 CN201710687367.9 2017-08-11 CN107475702A 2017-12-15 王立涛; 裴英豪; 裴陈新
发明提供了一种电工表面钝化处理方法,方法为:在电工钢生产线的退火段出口后的冷却部分,向水冷却槽的水中添加具有钝化功能的水溶性有机物质,电工钢浸泡在水冷却槽,取出,即可。与现有技术相比,本发明可在现有电工钢连续退火生产线,在退火段出口后的水冷却部分,向水冷却槽中添加具有钝化功能的水溶性有机物质,电工钢经过水冷却槽,溶解在水中的有机物质在电工钢通过后,形成一层非常薄的表面钝化层,使得退火后的电工钢提高防腐蚀,满足电工钢储存、冲片和电的要求。同时冷却水降低了带钢的温度
139 玻璃基板承载装置、加工辅助机构以及辅助加工的方法 CN201710765133.1 2017-08-30 CN107475690A 2017-12-15 张恺
发明提供一种玻璃基板承载装置,用于承载玻璃基板,包括承载台及连接承载台的第一驱动部,玻璃基板置于承载台上,承载台分成三个承载体,所述第一驱动部带动三个承载体中的位于两侧的承载体远离中间的承载体并与所述中间的承载体之间相对且间隔以形成有间隙,且所述第一驱动部带动所述三个承载体相对合并以支撑所述玻璃基板。本发明了解决了玻璃基板成膜过程中,为避开支撑杆而导致玻璃基板的有效利用面积低,整体收益低的问题。
140 一种改善理想机台沉积ALOx膜均匀性的方法 CN201710750842.2 2017-08-28 CN107475689A 2017-12-15 蔡新兴
发明涉及一种改善理想机台沉积ALOx膜均匀性的方法,具有如下步骤:a、在工艺开始时先控制机台腔内载板进行摆动1~5秒;b、工艺气体通入,载板在腔内摆动,在片上沉积ALOx膜;c、沉积完毕,停止向腔内通入工艺气体,载板继续摆动1~5秒时间;d、载板停止摆动,取出已沉积镀膜好的硅片。本发明通过改变原先工艺过程中载板摆动与工艺气体供应之间的动作顺序,解决了由于供气与载板摆动造成的片内均匀性较差问题,从而达到了提升硅片镀膜均匀性的目的,改善了片内均匀性,提高了太阳电池效率与外观均一性。
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