子分类：
- C23C10/00： 金属材料表面中仅渗入金属元素或硅的固渗
- C23C12/00： 金属材料表面中至少渗入一种硅以外的非金属元素及至少一种金属元素或硅的固渗
- C23C14/00： 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆(附有放电作用物体或材料引入装置的放电管本身入H01J37/00)
- C23C16/00： 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积(CVD)工艺(反应溅射或真空蒸发入 C23C 14/00 )
- C23C18/00： 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆(表面化学反应的入C23C8/00、C23C22/00);接触镀
- C23C2/00： 用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺;其所用的设备
- C23C20/00： 通过固态覆层化合物抑或覆层形成化合物悬浮液分解且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆(表面化学反应的入C23C8/00、C23C22/00)
- C23C22/00： 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理,例如转化层、金属的钝化(蚀洗用涂料入C09D5/12)
- C23C2222/00： 导引标题:通过表面与反应性媒介反应的金属材料的表面化学处理的涉及特征
- C23C24/00： 自无机粉末起始的镀覆(熔融态覆层材料的喷镀入C23C4/00;固渗入C23C8/00至C23C12/00;金属粉末烧结法制造复合层、工件或制品入B22F7/00;摩擦焊入B23K20/12)
- C23C26/00： 不包含在C23C2/00至C23C24/00各组中的镀覆
- C23C28/00： 用不包含在C23C 2/00至C23C 26/00各大组中单一组的方法,或用包含在C23C小类的方法与C25D小类中方法的组合以获得至少二层叠加层的镀覆
- C23C30/00： 仅以金属材料组成为特征的金属材料镀覆,即不以镀覆工艺为特征(C23C26/00、C23C28/00优先)
- C23C4/00： 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆(喷枪入B05B;通过金属的热喷镀制备含纤维或丝的合金入C22C 47/16;等离子枪入H05H)
- C23C6/00： 基体上浇铸熔融材料的镀覆
- C23C8/00： 金属材料表面中仅渗入非金属元素的固渗(渗硅入C23C 10/00 ); 材料表面与一种活性气体反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理法,例如转化层、金属的钝化( C23C 14/00 优先)
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 61 | 一种线性蒸发源、蒸发源系统及蒸镀装置 | CN201620286974.5 | 2016-04-07 | CN205443432U | 2016-08-10 | 张金中 |
| 本实用新型公开一种线性蒸发源、蒸发源系统及蒸镀装置，涉及显示技术领域，以在采用线性蒸发源蒸镀工艺制作有机电致发光显示器的发光层时，提高其在线源方向上的膜厚均一性。该线性蒸发源包括用于蒸发蒸镀材料的加热装置，加热装置的喷嘴安装面上设有线性喷嘴组，线性喷嘴组包括沿线源方向设在喷嘴安装面的多个喷嘴；加热装置中设有能够使加热装置的加热温度均一的温度补偿板。而蒸发源系统包括上述提到的线性蒸发源。本实用新型提供的线性蒸发源用于蒸镀装置中。 | ||||||
| 62 | 用于等离子体增强化学气相沉积的装置 | CN201520526997.4 | 2015-07-20 | CN205088301U | 2016-03-16 | 栗田真一; R·L·蒂纳; S·安瓦尔 |
| 本公开案的各实施方式提供一种用于等离子体增强化学气相沉积的装置。该装置包括：腔室主体；气体分布板，所述气体分布板设置在所述腔室主体中；背板，所述背板设置在所述腔室主体中，并且与所述气体分布板分隔；区隔板组件，所述区隔板组件设置在所述腔室主体内，介于所述气体分布板与所述背板之间；以及远程等离子体清洁源，所述远程等离子体清洁源耦接至所述腔室主体，其中所述远程等离子体清洁源具有在所述腔室主体中的至少一个出口，并且其中所述至少一个出口设置在所述气体分布板与所述区隔板组件之间。 | ||||||
| 63 | 用于安置基板的装置 | CN201420857302.6 | 2014-12-30 | CN204959030U | 2016-01-13 | A.博伊德; O.费龙; 陈晓军; K.L.格林 |
| 本实用新型涉及一种用于安置基板的装置，具有多个布置在水平面内的、分别用于圆盘状基板(3)的支承座(4)，所述装置还具有多个在相邻的支承座(4)之间布置的支架(2、12)，所述支架(2、12)空间上相互分隔并且具有定心侧面(5)，所述定心侧面(5)沿着位于水平面内的圆弧线延伸，其中，多个分别位于支承座(4)侧面的定心侧面(5)构成布置在支承圆(6)上的贴靠位置(7)，用于接触地贴靠所述基板(3)的边缘(3’)的部段。为了进行便于使用的改进而规定，所述定心侧面(5)仅在贴靠位置(7)上与支承圆(6)相切，并且所述定心侧面(5)与所述支承圆(6)的圆心(8)的间距随着距所述贴靠位置(7)越来越远而不断增大。 | ||||||
| 64 | 用于渗碳或碳氮共渗的加热炉 | CN201520676423.5 | 2015-09-01 | CN204849000U | 2015-12-09 | 戚顺银; 魏长富; 李振明 |
| 本实用新型涉及加热炉，具体是一种用于渗碳或碳氮共渗的加热炉。包括炉体，设置在炉体上的入口炉门、出口炉门，入口炉门和出口炉门分别位于炉体的进料端和出料端，炉体内设置有炉气循环装置，炉体内设置有带贯通孔的隔墙，从进料端到出料端设置有多层穿过贯通孔的托辊，每层托辊分别与各自的驱动装置连接。本实用新型在同一炉膛内实现工件渗碳或碳氮共渗工艺，工件在棍棒上移动灵活方便，工件间无接触，不存在粘连现象，工件与工件间、工件与料盘间无渗层死角，渗层组织更加均匀，也能够实现单件工件全自动限型淬火，提高生产效率同时减少工件的变形量，降低后续工序的加工量。 | ||||||
| 65 | 真空室壳体 | CN201520295953.5 | 2015-05-08 | CN204676147U | 2015-09-30 | 马尔科·肯内; 约亨·克劳瑟; 赖因哈德·耶格 |
| 真空室壳体(100)可以包括：带有至少一个基体-转运-缝隙(102a)的室壁(102)，用于运送基体沿着基体运送方向(101)通过真空室壳体(100)；和隔板结构(104)，其这样地设置并相对于基体-转运-缝隙(102a)固定在室壁(102)上，即基体-转运-缝隙(102a)部分地被盖住，从而减小基体-转运-缝隙(102a)的有效缝隙高度。 | ||||||
| 66 | 一种蒸镀载板及蒸镀装置 | CN201520128144.5 | 2015-03-05 | CN204434500U | 2015-07-01 | 曾庆慧; 郭书鹏 |
| 本实用新型涉及有机发光器件制备技术领域，公开一种蒸镀载板及蒸镀装置，蒸镀载板包括载板本体，载板本体上形成玻璃承载面、且设有多个用于针脚穿过的针脚孔，载板本体背离玻璃承载面的一侧表面上设有当玻璃承载面朝向蒸镀源时覆盖各所述针脚孔的盖板机构。上述蒸镀载板中，当将承载有玻璃基板的载板蒸镀载板放入蒸镀装置的蒸镀腔体中时，载板本体的玻璃承载面朝向蒸镀源，蒸镀载板具有的盖板机构能够将载板本体设有的针脚孔覆盖，进而能够防止辐射信号穿过针脚孔照射至贴附在载板本体的玻璃承载面上的玻璃基板朝向载板本体的一面上，进而使得玻璃基板受热均匀，提高玻璃基板蒸镀作业时的良率，进而提高有机发光器件的产品质量。 | ||||||
| 67 | 衬底支撑件 | CN201420623205.0 | 2014-10-24 | CN204407286U | 2015-06-17 | R·L·蒂纳; 崔寿永; 朴范洙; 栗田真一; B·吴; 古田学 |
| 本实用新型通常涉及用于处理腔室中的衬底支撑件。衬底支撑件被分成多个象限，其中每一象限能够独立于其他象限加热。独立加热允许衬底支撑件提供不同加热至同时布置在衬底支撑件上的不同衬底，或至公用衬底的不同区域。因此，衬底加热可被定制以确保发生衬底或多个衬底的所需处理。 | ||||||
| 68 | 一种用于带车轮的机动车辆的金属对金属连接件 | CN201420457048.0 | 2014-08-13 | CN204099362U | 2015-01-14 | 伊莱恩·C.·凯利; 罗伯特·G.·斯塔斯基; 罗伯特·威廉·伍德尔; 迈克尔·威廉·丹尼尤; 杜安·德罗布里奇; 安东尼·J.·格里玛; 金伯利·安·拉扎 |
| 一种用于带车轮的机动车辆的金属对金属连接件，该连接件包括：第一金属件和第二金属件，各自具有外表面和连接部，其中，第一金属件和第二金属件在各自的连接部处连接；固化的薄膜结构型胶粘剂，于所述各自的连接部处设置在第一金属件与第二金属件之间，其中，固化的薄膜结构型胶粘剂仅粘附至第一金属件，并且固化的结构型胶粘剂具有一致的厚度；以及固化的环氧树脂涂层，设置在第二金属件的外表面上以及第一金属件的外表面的至少一部分上，其中，第一金属件的外表面由固化的结构型胶粘剂和环氧树脂涂层中至少一个所覆盖。本实用新型在机动车辆的金属与金属的连接处提供了耐腐蚀的隔离物。 | ||||||
| 69 | 真空炉体 | CN201420140625.3 | 2014-03-26 | CN203741405U | 2014-07-30 | 宋世源 |
| 本实用新型涉及一种真空炉体，该真空炉体包括炉体本体（11），蒸发源（A），用于放置被镀物件（B）的物件挂架（14），用于放置物件挂架（14）的并移动该物件挂架（14）的转盘（C）；炉体本体（11）的底板（111）、外壁（112）、内壁（113）和顶板共同围形成密闭空间（S）；所述炉体本体（11）还包括第一挡板（17）和第二挡板（18）；第一挡板（17）和第二挡板（18）相隔一定的距离并将所述密闭空间分隔成第一分隔空间（S1）和第二分隔空间（S2）。本实用新型杜绝瞬间产生的氧物质，避免氧物质污染到被镀物件表面上，从而避免被镀物件产生假性附着，提高产品品质的稳定性。 | ||||||
| 70 | 线内处理系统 | CN201190000982.4 | 2011-10-17 | CN203631496U | 2014-06-04 | M·P·斯图尔特 |
| 本实用新型的实施例涉及一种线内处理系统。向硅基板涂覆掺杂剂材料。之后使用激光来驱使来自掺杂剂材料的掺杂剂原子深入基板，从而形成高度掺杂的区域。随后对基板进行热处理，以在基板的剩余场区形成轻掺杂发射极区与浅p-n结。之后将导电触点沉积在高掺杂区上。所得场区具有高阻抗发射极区，所述高阻抗发射极区可吸收最少的光，使得有增量的光到达p-n结以转化成为电流。所得太阳能电池的高掺杂区具有非常低的电阻，以在发射极区与导电触点之间提供高传导路径。 | ||||||
| 71 | 屏蔽件和处理套件 | CN201190000306.7 | 2011-01-19 | CN203103267U | 2013-07-31 | 劳拉·郝勒查克; 希兰库玛·萨万戴亚 |
| 本实用新型涉及屏蔽件和处理套件。物理气相沉积腔室的屏蔽件包括：圆柱形外带；圆柱形内带；基部平板，其将圆柱形外带与圆柱形内带耦接以形成单件式单一构件；及多个球体，其耦接至圆柱形内带，球体向圆柱形内带的内部径向延伸。 | ||||||
| 72 | 锯和具有金刚石涂层的锯切元件 | CN201120563790.6 | 2011-12-21 | CN202727132U | 2013-02-13 | 苏布尔曼尼恩·耶尔 |
| 本实用新型涉及锯和具有金刚石涂层的锯切元件。所提供的用于锯的锯切元件包括芯部和连续的金刚石外层。此外，还提供了相应的锯和用于制造该元件的方法。 | ||||||
| 73 | 喷嘴设备和化学气相沉积反应器 | CN201120579984.5 | 2011-12-23 | CN202671651U | 2013-01-16 | M·雷克 |
| 本实用新型描述了一种在化学气相沉积反应器中使用的喷嘴设备。该喷嘴设备具有喷嘴本体和至少一个控制单元，喷嘴本体具有入口、出口和位于它们之间的流动空间，控制单元包含控制部分和设定部分，其中，控制部分以可运动的方式布置在流动空间内，在流动空间内限定了流动横截面，流动横截面足够小以在气体流经喷嘴体时于控制部分产生压力损失，该压力损失在流动空间内朝向出口偏置控制部分。设定部分随控制部分一起运动且包含至少一个如下部分：它随设定部分的运动而改变出口的流动横截面。此外，提供至少一个偏置元件，它在流动空间内向远离出口的方向偏置控制部分。此外，描述了一种化学气相沉积反应器，它具有限定了工艺空间的工艺室。工艺室包含在其底壁上的至少一个通孔，而上述类型的喷嘴设备至少部分地被接纳在通孔内。 | ||||||
| 74 | 平衡RF电桥组件 | CN201190000231.2 | 2011-01-26 | CN202671648U | 2013-01-16 | 白宗薰; S.H.金; 朴范洙 |
| 在此所揭露的实施例一般涉及PECVD装置。当RF功率源在多个位置耦接至电极时，在多个位置上的电流和电压可以是不同的。为了确保电流和电压二者在多个位置基本相同，RF电桥组件可刚好在与电极的连接之前的位置上耦接在多个位置之间。RF电桥组件使在多个位置之间的电压分布和电流分布基本相等。因而，基本相同的电流和电压在多个位置被施加至电极。 | ||||||
| 75 | 电子枪蒸发用坩埚 | CN201020617898.4 | 2010-11-22 | CN201864770U | 2011-06-15 | 刘锋; 赵志刚 |
| 电子枪蒸发用坩埚，包括坩埚（1）和坩埚（3），坩埚（1）设在坩埚（3）的上面，之间为间隙配合，其特征在于：所述的坩埚（1）和坩埚（3）中间放置有镀膜材料（2）。本实用新型，电子枪在工作时，电子束不直接作用于蒸发材料，而靠石墨底座进行传导加热，实现较低蒸发温度材料的蒸发。保证材料本身的性能。 | ||||||
| 76 | 基板支撑组件 | CN200790000078.7 | 2007-07-23 | CN201436515U | 2010-04-07 | 罗宾·L·泰内; 约翰·M·怀特 |
| 提供一种处理腔室及控制位于处理腔室内的基板支撑组件上的基板温度的方法。基板支撑组件包含一导热本体；一基板支撑表面，其位于导热本体的表面上，并适以支撑一大面积基板于其上；一或多个加热元件，其嵌入导热本体内；及二或多个冷却通道，其嵌入导热本体内以与一或多个加热元件共面。冷却通道可分支为二或多个长度相等的冷却通路，其由一单一点入口延伸进入一单一点出口以提供相等的阻力式冷却(resistance cooling)。 | ||||||
| 77 | 原子层沉积室及其部件 | CN200820136183.X | 2008-09-28 | CN201367461Y | 2009-12-23 | 迪-业·吴; 舒伯特·S·楚; 保罗·马; 杰弗里·托宾 |
| 本实用新型涉及一种原子层沉积室，其包括气体分配器，该气体分配器包括在气体入口和气体出口之间具有圆锥形通路的中心覆盖。气体分配器还具有包括连接着的第一和第二圆锥形孔的吊线板。第一圆锥形孔从中心覆盖的气体出口接收处理气体。第二圆锥形孔从第一圆锥形孔向外径向延伸。该气体分配器还具有位于室侧壁上的外围凸缘。 | ||||||
| 78 | 具有防积碳部件的发动机 | CN200620116410.3 | 2006-05-18 | CN201083161Y | 2008-07-09 | H·埃比-阿卡; 蒋向阳; J·R·阿加玛; K·C·凯利; M·W·雅瑞特 |
| 碳在发动机部件上的沉积会对发动机性能产生负面影响。本实用新型所述的发动机包括至少一个附连于发动机壳体的防积碳发动机部件。发动机部件包括至少一个表面张力相对高的表面，该表面是一个非接触磨损表面，并附着有一个表面张力相对较低的涂层。表面张力相对低的涂层的表面张力小于或等于30达因/厘米。 | ||||||
| 79 | 移动的PVD/CVD涂装中心 | CN200590000066.5 | 2005-03-24 | CN201080493Y | 2008-07-02 | D·弗兰茨; U·劳赫; H·埃根伯格; C·比肖夫; F·基亚尼; H·舒尔茨; V·比勒 |
| 一种PVD和/或CVD涂装中心，包括至少一个PVD和/或CVD系统与另外的设备以及供应该系统与设备的设施，由此将该涂装系统与另外的设备和/或设施以预组装方式安装在至少一个工业模块和/或工业平台内，并提供了将涂装中心在运输模式和生产模式之间进行双向切换的装置。 | ||||||
| 80 | 木工机械工作台 | CN200720004223.0 | 2007-02-02 | CN201073790Y | 2008-06-18 | 许庆海; 华毅 |
| 本实用新型针对现有的铸铁制造的木工机械工作台面存在的易生锈和硬度差易划伤而失去精度的问题，公开了一种既防锈又耐磨的木工机械工作台，包括铸铁台体(1)，其特征是在所述的铸铁台体(1)的表面设有利用PVD技术沉积而形成的防锈、耐磨层(2)。它具有工艺简单，性能可靠，防锈、耐磨的特点，可提高木工机械工作台的使用寿命和精度保持周期。 | ||||||
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