1.一种光致抗蚀剂组合物，其包含：
树脂；和
下式(I)的一种或多种盐：
其中，
1 2 3
R、R和R各自独立地为C6‑60芳基、C6‑20氟芳基、C1‑20杂芳基、C7‑20芳烷基、C7‑20氟芳烷基、C2‑20杂芳烷基、C2‑20氟杂芳烷基、C1‑20烷基、C1‑20氟烷基、C3‑20环烷基、C3‑20氟环烷基、C2‑20烯基或者C2‑20氟烯基，其各自经取代或未经取代，
1 2 3 2 3
其中，每个R与R和/或R是分开的或者是连接到R和/或R形成环，以及
Z包括抗衡阴离子，
其中，盐包含一个或多个酸不稳定基团。
2.如权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中，所述一种或多种盐对应于下式(IIA)：
其中，
4 5
R和R各自是相同或不同的非氢取代基；
6
每个R是相同或不同的非氢取代基；
6
p是0至5的整数，当0时不存在R基团；以及
Z包括抗衡阴离子。
3.一种光致抗蚀剂组合物，其包含：
树脂；和
下式(IIB)的一种或多种盐：
其中，
6
每个R独立地为卤素、‑CN、‑OH、C1‑10烷基、C1‑10氟烷基、C1‑10烷氧基、C1‑10氟烷氧基、C3‑10环烷基、C3‑10氟环烷基、C3‑10环烷氧基或者C3‑10氟环烷氧基，除卤素、‑CN和‑OH外，其中的每一个可以经取代或未经取代；
6
每个p是0至5的相同或不同的整数，当0时不存在R基团；以及
Z包括抗衡阴离子。
4.如权利要求3所述的光致抗蚀剂组合物，其中，所述一种或多种盐对应于下式(III)：
其中，
X是单键或连接基团，其可以是S、O、C＝O、S＝O、SO2或O‑C＝O(内酯)；碳、氮、氧与所描述的Te原子一起形成单环基团或多重稠合或连接的环结构；
7
R是非氢取代基；
7’
每个R 是相同或不同的非氢环取代基；
q是从等于0到环成员所允许的最大价态的整数；以及
Z包括抗衡阴离子。
5.如权利要求3所述的光致抗蚀剂组合物，其中，所述一种或多种盐对应于下式
(IIIA)：
其中，
8
R是非氢取代基；
9 10
R和R 是相同或不同的非氢取代基；
J是单键或连接基团，其可以选自S、O、C＝O、S＝O、SO2或O‑C＝O(内脂)；
s和s’各自独立地是0、1、2、3和4的整数；以及
Z包括抗衡阴离子。
6.如权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中，光致抗蚀剂组合物包含不同于所述一
种或多种盐的一种或多种酸产生剂化合物。
7.如权利要求3所述的光致抗蚀剂组合物，其中，光致抗蚀剂组合物包含不同于所述一
种或多种盐的一种或多种酸产生剂化合物。
8.一种用于提供光致抗蚀剂浮雕图像的方法，其包括：
a)在衬底上施涂权利要求1的光致抗蚀剂的涂层；以及
b)将光致抗蚀剂组合物层暴露于活化辐射并使得经暴露的光致抗蚀剂组合物涂层显
影。
9.如权利要求8所述的方法，其中，光致抗蚀剂组合物层暴露于193nm或EUV辐射。
10.一种用于提供光致抗蚀剂浮雕图像的方法，其包括：
a)在衬底上施涂权利要求3的光致抗蚀剂的涂层；以及
b)将光致抗蚀剂组合物层暴露于活化辐射并使得经暴露的光致抗蚀剂组合物涂层显
影。
11.如权利要求10所述的方法，其中，光致抗蚀剂组合物层暴露于193nm或EUV辐射。