序号 专利名 申请号 申请日 公开(公告)号 公开(公告)日 发明人
1 喷墨用性组合物、水性油墨、水性底漆、水性清洗液、水性保存液和喷墨记录装置 CN202180022394.9 2021-03-18 CN115335472B 2024-04-09 市川亮太; 仁尾刚启; 合田惠吾
发明所要解决的课题在于,提供一种能够充分且容易地防止形成油墨流路的构件的劣化或腐蚀的喷墨用性组合物。本发明涉及喷墨用水性组合物、喷墨用水性油墨、喷墨用水性底漆、喷墨用水性清洗液、喷墨用水性保存液以及喷墨记录装置,所述喷墨用水性组合物含有水性介质和表面活性剂,所述表面活性剂包含硅烷结构(‑Si‑O‑)的重复数为5以上1000以下的聚硅氧烷化合物。
2 餐具清洗机用液体清洗剂组合物 CN202280054223.9 2022-08-04 CN117795042A 2024-03-29 多势平塚绘美; 青野惠太
发明提供一种餐具清洗机用液体清洗剂组合物,其含有:(a)支链烷基为原子数9以上11以下的支链烷基的磺基琥珀酸支链烷基酯;(b)增粘剂[其中,不包括由含有丙烯酸作为单体单元的聚合物构成的增粘剂];和
3 抑制钴、、层间绝缘膜、氮化的损伤的组成液及使用其的清洗方法 CN201880048233.5 2018-07-24 CN110945631B 2024-03-08 尾家俊行; 普林安加·柏达那·普特拉; 堀田明伸
发明涉及适于具有低介电常数层间绝缘膜的半导体元件的清洗的组成液及半导体元件的清洗方法。本发明的组成液的特征在于,其含有四氟酸(A)0.01~30质量%、或(硼酸/氟化氢)=(0.0001~5.0质量%/0.005~5.0质量%)的硼酸(B1)及氟化氢(B2),所述组成液的pH处于0.0~4.0的范围。本发明的组成液适合用于抑制在半导体集成电路的制造工序中的低介电常数层间绝缘膜、钴或钴合金、氧化锆系硬掩膜、氮化的损伤、并去除在半导体集成电路的表面存在的干蚀刻残渣。
4 含有次氯酸根离子的半导体晶圆的处理液 CN201980008715.2 2019-01-15 CN111684570B 2024-02-27 下田享史; 根岸贵幸; 吉川由树; 东野诚司
发明的课题在于提供一种用于去除附着于半导体晶圆的端面部、背面部的钌和钨的处理液以及清洗方法。本发明的技术方案是一种处理液,其是用于清洗半导体晶圆的处理液,所述处理液含有(A)次氯酸根离子和(C)溶剂,所述处理液的25℃下的pH大于7且小于12.0。本发明提供一种通过使该处理液与具有钌或者钨的半导体晶圆接触来从半导体晶圆中去除钌、钨从而清洗半导体晶圆的方法。
5 一种清洁剂组合物及其制备方法和应用 CN202311482857.7 2023-11-09 CN117530884A 2024-02-09 杨济维; 杨家复; 王庆康
发明提供了一种清洁剂组合物及其制备方法和应用,属于清洁剂技术领域。本发明以辛烯基琥珀酸淀粉钠、羟甲基纤维素钠和蔗糖脂肪酸酯三者共同作为壁材使用,可以对作为芯材的天然香精形成包裹,使天然香精从微胶囊中缓慢释放,降低了单位时间内天然香精的释放量,进而降低了清洁剂组合物入口后对牙体和口腔软组织、牙龈的刺激性;采用辛烯基琥珀酸淀粉钠、蔗糖脂肪酸酯、羧甲基纤维素钠、羟甲基纤维素钠、十二烷基葡萄糖苷、海藻酸丙二醇酯、海藻酸钠和聚丙烯酸钠共同作用,降低的表面张,使水更能扩散、渗透到各个部位缝隙,表面活性剂的亲水亲油性同时作用,分别作用于油脂和水,将油脂分散在水中,从而更好地清洁油脂、污垢和细菌。
6 微胶囊组合物 CN201980092403.4 2019-12-17 CN113453654B 2024-02-02 徐力; 雷亚斌; 罗纳德·加巴德; L·M·波普尔韦尔; J·A·维兰德; 张毅; 佐佐木隆
公开了微胶囊组合物及其制备方法。微胶囊组合物具有分散在相中的微胶囊。微胶囊具有微胶囊核和封装微胶囊核的微胶囊壁。微胶囊核含有活性材料,该活性材料选自香料、化妆品活性物、恶臭冲消剂,和它们的组合。微胶囊壁由聚合物网络形成,该聚合物网络包含至少三个部分:(i)衍生自壳聚糖的第一部分,(ii)衍生自聚异氰酸酯的第二部分,和(iii)衍生自多酚的第三部分。还公开了含有该微胶囊组合物的消费品。
7 凝胶状洗涤剂组合物 CN202280037777.8 2022-04-19 CN117377747A 2024-01-09 上西加纯; 前田有纪; 平冈知朗
申请的目的在于提供一种凝胶状洗涤剂组合物,其包含苯扎氯铵,并且能够形成具有适度的凝胶强度的凝胶状态。通过与苯扎氯铵一起配合通式(1)所示的聚乙烯聚氧丙烯嵌段聚合物制造凝胶状洗涤剂组合物,能够形成具有适度的凝胶强度的凝胶状态。
8 凝胶状洗涤剂组合物 CN201980039021.5 2019-06-19 CN112262206B 2023-12-12 山口知美; 高濑瞳; 高塚理之
发明的目的在于提供一种凝胶状洗涤剂组合物,其呈现有光泽感的外观、在向被附着面排出时不易形成从容器的排出口拉丝的状态、并且即使是复杂形状也可以在所排出的附着面上按照设计来形成。25℃下的储能模量(G')为10000Pa以上的凝胶状洗涤剂组合物呈现有光泽感的外观,在向被附着面排出时不易形成从容器的排出口拉丝的状态,并且在被附着面上不会发生形状崩塌、即使是复杂形状也可以按照设计来形成。
9 一种以糖粉为载体制作留香珠制备方法 CN202311072046.X 2023-08-24 CN116987559A 2023-11-03 周宗涛; 黎昌健; 张海明; 葛定海; 高光辉
发明公开了一种以糖粉为载体制作留香珠制备方法,包括以下步骤:S1:留香珠包括留香剂、清洗剂和柔顺剂,留香剂的原料按重量份计包括如下组分天然香料10‑15份,香精微胶囊1‑3份,香精1‑3份;清洗剂的原料按重量份计包括如下组分聚乙二醇5‑10份、柠檬酸1‑5份、去污剂10‑20份、30‑50份、抗菌剂10‑20份、抗静电剂10‑20份;柔顺剂的原料按重量份计包括如下组分,表面活性剂30‑50份。本方法制备的留香珠选择天然香气,花香、水果香会更加自然好闻,留香珠香味持久,可以提高衣物香氛驻留的时间,留香珠溶解速度快、耐温性能好,既便于洗涤,也利于储存和运输。
10 一种留香珠及其生产工艺 CN202210576078.2 2022-05-25 CN114774216B 2023-08-08 王力炯; 张栋栋; 郑鹏波
申请涉及洗涤技术领域,具体公开了一种留香珠及其生产工艺,一种留香珠包含以下重量份的原料制成:基料40‑50份,崩解剂5‑10份,膨化剂1‑5份,酸剂2‑10份,液体香精1‑10份,微胶囊香精0.5‑5份,色素0.001‑0.1份;其制备方法为:S1、称取基料、酸剂混合后,经热熔处理,制得初混料;S2、称取崩解剂添加到初混液中搅拌均匀,然后添加液体香精、微胶囊香精继续搅拌均匀,最后添加膨化剂和色素,搅拌均匀,制得混合料;S3、混合液经挤出、凝固、冷却,制得成品;使制得的留香珠快速溶解,在洗涤衣物时,能够使留香珠被高效且完全利用,从而保证衣物表面的留香效果。
11 清洗液组合物 CN201780078862.8 2017-12-26 CN110140196B 2023-07-07 守田菊惠; 高中亚铃治; 大和田拓央
发明提供在半导体元件等电子器件的制造工序中的实施了化学机械研磨(CMP)处理等的基板等的清洗中有用的清洗液组合物。本发明的清洗液组合物是一种用于清洗具有Cu布线的基板的清洗液组合物,其中,包含1种或2种以上的性化合物以及1种或2种以上的含氮杂环式单环芳香族化合物,所述含氮杂环式单环芳香族化合物具有1个以上的羧基或酯基,而具有1个以上的基的情况下仅具有与含氮杂环直接结合的氨基。所述清洗液组合物中氢离子浓度(pH)为8~12。
12 羟乙基纤维素微胶囊 CN201980092405.3 2019-12-17 CN113453794B 2023-06-27 张毅; 雷亚斌; 徐力; 罗纳德·加巴德; L·M·波普尔韦尔; J·A·维兰德; 佐佐木隆; C·马尔托-鲁西
发明公开了各自具有微胶囊核和封装微胶囊核的微胶囊壁的微胶囊。微胶囊核含有活性材料,微胶囊壁含有羟乙基纤维素部分。还公开了制备方法,以及含有该微胶囊的消费品。
13 处理液、基板的处理方法 CN202180051654.5 2021-08-18 CN115989314A 2023-04-18 高桥智威; 杉岛泰雄; 水谷笃史
发明的课题在于提供一种半导体器件用处理液,所述处理液对于含金属的层的耐腐蚀性及去除对象物的去除性优异并且在后处理液中的溶解性优异。并且,本发明的课题在于提供一种使用上述处理液的基板的处理方法。本发明的处理液为半导体器件用处理液,其含有、去除剂及共聚物,共聚物具有第1重复单元及与第1重复单元不同的第2重复单元,所述第1重复单元具有选自伯基、仲氨基、叔氨基及季铵阳离子中的至少1种基团。
14 一种有机消泡组合物及其制备方法和消泡制剂 CN202211165995.8 2022-09-23 CN115746974A 2023-03-07 赵虹; 罗彤
一种有机消泡组合物及其制备方法和消泡制剂,涉及精细化工技术领域;有机硅消泡组合物,包括按重量份计的以下组分:线性含氢聚硅烷10‑40份,空间结构硅氢乙烯基聚硅氧烷0.5‑15份,α‑烯40‑60份,甲基硅树脂3‑10份,二氧化硅4‑10份;所述空间结构硅氢乙烯基聚硅氧烷由空间结构含氢聚硅氧烷与双乙烯基封端的聚硅氧烷反应而成;所述空间结构含氢聚硅氧烷的结构式为(Me3SiO1/2)a(HMe2SiO1/2)b(SiO4/2)c。本发明的有机硅消泡组合物,具有较低的粘度,能有效提高织物的易漂洗性,降低起泡性,有效减少了由于大分子的结构不稳定造成的在织物上形成硅斑的问题。
15 餐具和/或厨房周边的硬质物品用液体清洁剂组合物 CN201980033616.X 2019-06-03 CN112135897B 2023-02-03 穂积贤司
发明的餐具和/或厨房周边的硬质物品用液体清洁剂组合物含有(a)HLB为10.5以下的非离子表面活性剂(其中不包括(b))、(b)具有原子数8以上且18以下的基和平均缩合度为0.5以上且3以下的糖苷基的糖苷、和(c)logPow为0以上且1.5以下的有机溶剂[以下称为(c)成分],全部表面活性剂中的(a)的含量为30质量%以上且95质量%以下,(c)成分相对于(a)的含量的质量比即(c)/(a)为2以上且8以下,该液体清洁剂组合物在20℃时的粘度为20mPa·s以下。
16 餐具和/或厨房周边的硬质物品用液体清洁剂组合物 CN201980032962.6 2019-06-03 CN112119145B 2023-02-03 穂积贤司
发明的餐具和/或厨房周边的硬质物品用液体清洁剂组合物含有(a)HLB为10.5以下的非离子表面活性剂、(b)选自化胺型表面活性剂、两性型表面活性剂和HLB为11以上的非离子表面活性剂中的表面活性剂、以及(c)logPow为0以上且1.5以下的有机溶剂,全部表面活性剂中的(a)成分的比例为30质量%以上且85质量%以下,(c)的含量相对于(a)的含量的质量比即(c)/(a)为1以上且10以下,该液体清洁剂组合物在20℃时的粘度为20mPa·s以下。
17 隐形眼镜用处理溶液 CN201980060016.2 2019-09-11 CN112689787B 2022-12-09 铃木裕贵; 川崎宽子; 樱井俊辅
发明涉及一种隐形眼镜用处理溶液,其特征在于,以A:B=1000:1~2:1(重量比)包含以下共聚物A和共聚物B。根据本发明,能够提供一种隐形眼镜用处理溶液,其通过简便的浸渍处理,能够去除附着于隐形眼镜表面的污垢,而且对于隐形眼镜表面能够赋予持续的亲性。共聚物A:其是将式1所示的单体a和式2所示的单体b共聚而得的共聚物,上述单体a、单体b的共聚比例为a:b=7:3~9:1(摩尔比),该共聚物A的重均分子量为400,000~700,000。共聚物B:其是将式3所示的单体c和式4所示的单体d共聚而得的共聚物,上述单体c、单体d的共聚比例为c:d=1:4~9:1(摩尔比),该共聚物B的重均分子量为20,000~90,000。
18 一种护肤液体皂及制作方法 CN202210792096.4 2022-07-05 CN115418283A 2022-12-02 张震; 刘畅; 王焕南
发明涉及医疗卫生领域,特别指一种护肤液体皂:包括皂基、天然护肤成分提取液和,所述皂基与天然护肤成分提取液的配比为1:10,所述天然护肤成分提取液与水的添加配比为2:3。一种护肤液体皂的制作方法,步骤一、利用裙带菜、海带、绿茶、水和污水乙醇进行天然护肤成分提取;步骤二、利用将橄榄油、甜杏仁油葡萄籽油鳄梨油荷荷芭油乳木果油椰子油、氢和无水乙醇制作皂基,并与步骤一中获得的天然护肤成分提取液中均匀混合,获得护肤液体皂,步骤三、酸度调整。本发明所制护肤液体皂,组成合理,用药量少,绿色环保,操作简单,护肤、除菌显著,副作用少。
19 丝网印版用清洗剂组合物 CN201780047526.7 2017-07-20 CN109563453B 2022-10-18 何政辉; 川下浩一
发明提供一种清洗性及控液性优异的丝网印版用清洗剂组合物。本发明在一个方式中涉及一种丝网印版用清洗剂组合物,其含有相对于25℃的100g的溶解度小于10g的胺(成分A)或其盐、相对于25℃的水100g的溶解度为0.02g以上且小于10g的溶剂(成分B)、以及水,上述成分A是选自数为6以上且26以下的伯胺、仲胺及叔胺中的至少1种。
20 纤维产品用液体清洁剂产品 CN201880075823.7 2018-11-30 CN111417712B 2022-09-30 森元由佳; 高桥遥; 藤原久美子; 末国智成; 小仓弘嗣
一种纤维产品用液体清洁剂产品,其将含有(A)成分、(B)成分和(C)成分的纤维产品用液体清洁剂组合物收纳在可挠性容器中,其中,上述(A)成分为非离子表面活性剂,上述(B)成分为有机羧酸(但属于前述(C)成分的除外),上述(C)成分为抗化剂,相对于纤维产品用液体清洁剂组合物的总质量,上述(A)成分的含量为8质量%以上,上述(B)成分的含量为5质量%以上,上述(C)成分的含量为0.0001~0.2质量%,所述纤维产品用液体清洁剂产品在25℃时的pH小于7。
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