子分类：
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 101 | 一种双螺杆高效环保造粒颗粒清洗剂及其生产方法 | CN201210059623.7 | 2012-03-08 | CN102618401B | 2014-07-09 | 王晓群; 黄建平; 黄建国; 陈家锋 |
| 一种双螺杆高效环保造粒颗粒清洗剂及其生产方法，属于高分子材料技术领域。其包括基体树脂、无机粉体、润滑剂和偶联剂。其生产方法包括：1）按所述的配比重量份称取基体树脂、无机粉体、润滑剂和偶联剂；2）将无机粉体烘干，并与偶联剂加入到高混机中，充分混合，得到改性粉体；3）再将步骤2）的改性粉体与基体树脂、润滑剂加入到高速混合机中，将混好的物料加到挤出机的料斗中，在挤出机中熔融共混挤出，拉条切粒。本发明取材方便，价格低廉，清洗方便，属无毒、无污染材料。 | ||||||
| 102 | 客车清洗液 | CN201310545650.X | 2013-11-07 | CN103571653A | 2014-02-12 | 邵绪霞 |
| 本发明公开了客车清洗液，由下列重量百分比的成分混合组成：酵乳素0.4%～0.6%；松节油0.4%～0.6%；氧化锌1%～3%；碘酊4%～5%；锌钡白2%～4%；羊毛脂1%～3%；氯化钠4%～5%；聚氧乙烯2%～4%；烷基醇酰胺4%～5%；去离子水余量；本发明配方合理、成本低廉，杀菌去污效果明显、且对皮肤无刺激性。 | ||||||
| 103 | 织物处理组合物,洗涤剂和柔软剂,以及用其处理的织物制品 | CN200910254159.5 | 2009-12-10 | CN101748608B | 2013-10-16 | 平井元彦 |
| 提供一种织物处理组合物，它主要包括25℃下粘度为100-1,000,000mPa-s的通式(1)的有机基聚硅氧烷：R1是单价烃基，R2是式-R4(NR5CH2CH2)aNR6R7的单价有机基团，其中R4是二价烃基，R5-R7是氢，单价烃基，或R8，R8是式-(CO-C5H10O)b-R9的基团，(R9是氢或单价烃基，b是1-50)，a是0-4，条件是存在于有机基聚硅氧烷内的R5、R6和R7中的至少一个是R8，R3是羟基、-OR10、R1或R2，R10是单价烃基，m是10-1500，和n是0-100，条件是若n＝0，则至少一个R3是R2。 | ||||||
| 104 | 模具清扫用树脂组合物及模具清扫方法 | CN201310077864.9 | 2013-03-12 | CN103304901A | 2013-09-18 | 吉村胜则; 野村弘明; 佐藤太地 |
| 本发明提供能够用于由各种种类的热固性树脂引起的模具污垢的清扫的、清扫性能优良的模具清扫用树脂组合物。一种模具清扫用树脂组合物，其含有乙丙橡胶和丁二烯橡胶、选自由尿素及其衍生物、单环式单萜、具有碳原子数为4～6的烷基的乙酸乙酯、碳原子数为4～6的醇以及下述式(1)所示的化合物组成的组中的至少一种清洗剂和硫化剂。式(1)中，X表示氧原子或NR’，R和R’各自独立地表示氢原子、碳原子数为1～4的烷基或碳原子数为2～4的羟烷基。 | ||||||
| 105 | 一种原位清洗模具用清模胶及其制备方法 | CN201310082200.1 | 2013-03-14 | CN103205032A | 2013-07-17 | 齐暑华; 杨永清; 张欣欣; 黄英 |
| 本发明涉及一种原位清洗模具用清模胶及其制备方法，其特征在于原料组份为：未硫化橡胶或改性橡胶100质量份、补强剂30～60质量份、清洗剂10～30质量份、硫化剂1～3质量份、硫化促进剂1～10质量份和颜料1～10质量份。制备方法：将未硫化橡胶BR或其改性产物等在混炼机中进行初练，并依次加入补强剂、清洗剂和颜料等，最后加入硫化剂和硫化促进剂，薄通数次后下片，得到片状或条状混炼胶，用于重复进行热压成型以对模制材料成型的模具清理的清模胶。本发明清洗费用低、清洗方便且不影响模具使用寿命，能随模进行清洗的胶料。即使对于严重的模具污渍，也具可操作性，能同时清洗多种污染成分。 | ||||||
| 106 | 三元催化转化器再生清洗剂 | CN201010140034.2 | 2010-04-07 | CN101805655B | 2013-04-03 | 苏扬; 王军 |
| 本发明涉及一种能重新激活三元催化转化器、延长其使用寿命并能增加汽车动力、降低油耗的三元催化转化器再生清洗剂，其中的各组分的重量百分比为：甲醇40-60％，乙醇20-40％，甲苯5-10％，环己烷5-10％。其中，甲醇、乙醇的作用主要是在发动机燃烧室燃烧时能产生氧离子，而甲苯、环己烷的作用主要是在发动机燃烧室燃烧时能产生烷基自由基，氧离子和烷基自由基这两者相结合，能更有效地去除三元催化转化器的表面覆盖物。本发明清洗剂的配制方法为：在常温下，将上述原料混合后，充分搅拌均匀即可。 | ||||||
| 107 | 隐形眼镜用凝胶状清洁剂 | CN201180011782.3 | 2011-07-05 | CN102822725A | 2012-12-12 | 柳川芳德; 冈安由季 |
| 本发明的目的是提供一种隐形眼镜用凝胶状清洁剂，当与适用于通过擦洗进行清洁的常规隐形眼镜用非研磨剂配合清洁剂相比时，其易于操作并对由附着到隐形眼镜的表面上的油性成分引起的污垢，特别是由眼妆等的附着而引起的油性污垢(化妆品污垢)显示优异的清洁效果。该目的通过提供一种隐形眼镜用凝胶状清洁剂而实现，其特征在于，包含聚醚变性的硅油、增溶剂和胶凝剂。 | ||||||
| 108 | 积碳的清洗物料及其制备方法 | CN201210191817.2 | 2012-06-12 | CN102703251A | 2012-10-03 | 张兰兰 |
| 本发明公开了积碳的清洗物料，其特征在于所述除积碳清洗物料按下列重量百分比的原料经过造粒后再掺混助剂搅拌均匀而成：所述原料是树脂原料PE、PP、PC与ASA中的任意一种且含量为0.1-85％，以及添加剂，所述添加剂包括EMA含量为0.1-5％，弹性体含量为0.1-5％，抗氧剂0.1-1％，芥酸1-5％，氟表0.01-1％，所述添加剂还包括硅灰石0.01-40％、硅藻土0.01-40％或玻璃纤维0.1-40％，所述原料经过造粒后粒子与助剂掺混的比例是100∶3-5。本发明还公开了积碳的清洗物料的制备方法。本发明的优点是简化了清洗工艺，提高了清洗设备效率，节约了清洗费用，减轻了劳动强度，经实践可以缩短80％的清洗时间及减少80％的清洗原料，安全环保，高效节能。 | ||||||
| 109 | 没有闪点的溶剂体系和使用这种溶剂体系溶解刚性聚氨酯泡沫的方法 | CN201080045253.0 | 2010-10-06 | CN102656215A | 2012-09-05 | H.米瓦 |
| 本发明涉及用于泡沫喷嘴清洁的溶剂体系，该溶剂体系通过下列方式来形成：合并至少一定量的溴化的化合物、醇和稳定剂，使得该溶剂体系没有闪点。 | ||||||
| 110 | 汽车皮套增亮剂 | CN201010269788.8 | 2010-08-30 | CN102382729A | 2012-03-21 | 黄炜贞 |
| 本发明涉及一种汽车皮套增亮剂的配方，它由如下重量百分比的组分组成：硅酮液9.0～20.0％、水20.0～35.0％、异丙醇5.0～12％、硅酮乳化液8.0～12％、醋酸0.5～1.5％、聚硅酮3.5～8.5％，余量为乙醇。 | ||||||
| 111 | 用于清洗半导体基质上无机残渣含有铜特效腐蚀抑制剂的含水清洗组合物 | CN200810178886.3 | 2002-10-17 | CN101434894B | 2012-02-01 | 威廉·A·沃伊特恰克; 法蒂玛·玛·塞若; 大卫·贝恩哈德; 隆·阮 |
| 本发明涉及用于清洗半导体基质上无机残渣含有铜特效腐蚀抑制剂的含水清洗组合物，该半导体晶片清洗制剂，其含有按重量计为1-35％的氟化物源，按重量计为20-60％的有机胺，按重量计为0.1-40％的含氮组分如含氮羧酸或亚胺，按重量计为20-50％的水，及按重量计为0-21％的金属螯合剂。该制剂用于在抗蚀剂等离子体灰化步骤后从晶片上去除残渣，如从含有精细铜互连结构的半导体晶片上去除无机残渣。 | ||||||
| 112 | 用于连续分配具有不同芳香剂的组合物的个人护理制品 | CN201080005531.X | 2010-01-28 | CN102300546A | 2011-12-28 | J·R·塞蒂; C·D·帕特曼; A·E·维拉德; K·莱恩霍夫; E·D·史密斯三世; J·C·普洛斯; T·A·斯卡沃内; S·E·威特; J·M·本杰明; C·L·克里斯普 |
| 本发明涉及用于分配和/或分配个人护理产品的个人护理制品，所述制品包括包装和个人护理产品。所述包装包括至少一个室、分配孔口、邻近分配孔口的第一区域、和远离分配孔口的第二区域，其中所述第一区域和所述第二区域均位于至少一个室中。个人护理产品包含基本上设置在所述第一区域内的第一个人护理组合物和基本上设置在所述第二区域内的第二个人护理组合物。所述第一组合物包含与抑制剂可释放性缔合的第一芳香剂，并且所述第二组合物包含与抑制剂可释放性缔合的第二芳香剂；其中所述第一芳香剂不同于所述第二芳香剂。 | ||||||
| 113 | 有机硅环保清洁剂及其制备方法 | CN201010218404.X | 2010-06-24 | CN102296005A | 2011-12-28 | 孙炜伟; 杨学刚 |
| 本发明公开了一种非耗臭氧型有机硅环保清洁剂，主要成份为有机硅氧烷。该清洁剂具有优良的清洗能力，ODP值为0，能取代HCFC-141B、CFC-113、HCFC-225等溶剂，可应用于精密金属零件、精密光学部件、塑胶部件、电子元件等的脱脂清洗，同时它们也是油类、润滑剂、涂料和有机硅聚合物的良好溶剂。本发明同时公开了一种有机硅环保清洁剂的制备方法。 | ||||||
| 114 | 除去燃料系统中沉积物的醇燃料可溶性添加剂 | CN200980136108.0 | 2009-09-14 | CN102159686A | 2011-08-17 | M·G·J·麦克达夫; J·S·维拉多 |
| 本发明提供一种包含(a)烷氧基化物清净剂、(b)脂肪酸或其衍生物，或其混合物的燃料添加剂组合物，其中添加剂组合物可溶于燃料中，其中所述燃料为非烃燃料含量为至少50重量％的烃燃料与非烃燃料掺混物。另外，本发明还提供包含这种添加剂组合物和这种燃料组合物。本发明还提供一种操作发动机的方法和一种通过使用这种添加剂组合物和燃料掺混物减少燃料系统中沉积物的方法。 | ||||||
| 115 | 纳米电子和微电子清洗组合物 | CN200580006705.3 | 2005-02-11 | CN1961065B | 2011-01-26 | 许建斌 |
| 用于在超临界流体态条件下清洗纳米电子和微电子基底的纳米电子和微电子清洗组合物，更具体地，对以二氧化硅、敏感的低κ或高κ电介质和铜、钨、钽、镍、金、钴、钯、铂、铬、钌、铑、铱、铪、钛、钼、锡和其他金属化为特征的纳米电子和微电子基底以及Al或Al(Cu)金属化的基底和高级的互连技术有用并与之具有改进相容性的清洗组合物，通过本发明含有纳米电子和微电子清洗组合物的纳米电子和微电子清洗组合物而提供，所述组合物含有：(1)在250℃或更低温度下和600bars (592.2atm，8702.3psi)或更低压力下达到超临界流体态的超临界主流体，和(2)作为第二种流体，选自以下制剂的改进剂制剂：a)含有氧化剂；选自酰胺、砜、环丁烯砜类、硒代砜和饱和醇的极性有机溶剂；和任选其他组分的制剂；b)含有选自酰胺、砜、硒代砜和饱和醇的极性有机溶剂；强碱性碱；和任选其他组分的无硅酸盐的制剂；c)含有约0.05重量％～30重量％一种或多种不产生铵、含有非亲核性荷正电的反离子的强碱；约0.5～约99.95重量％一种或多种腐蚀抑制溶剂化合物，所述腐蚀抑制溶剂化合物具有至少两个能够与金属络合的位点；和任选其他组分的制剂；d)含有约0.05～20重量％一种或多种不产生铵、不产生HF的氟化物盐；约5～约99.95重量％水、有机溶剂或者水和有机溶剂；和任选其他组分的制剂；和e)含有约0.05重量％～30重量％一种或多种不产生铵、含有非亲核性荷正电的反离子的强碱；约5～约99.95重量％一种或多种位阻酰胺溶剂；和任选其他组分的制剂。 | ||||||
| 116 | 模具清洗剂组合物及模具清洗材料、以及使用其的模具清洁方法 | CN201010233007.X | 2010-07-16 | CN101955858A | 2011-01-26 | 高岛浩一; 藤卷要; 冈让二 |
| 本发明涉及模具清洗剂组合物，其为使用成型材料进行反复成型的加热成型用模具的清洗剂组合物，其中含有：作为母材的合成橡胶和/或合成树脂，碱金属盐和/或碱金属氢氧化物，和水和/或有机溶剂。 | ||||||
| 117 | 高负电动势多面体倍半硅氧烷组合物及无损坏半导体湿式清洁方法 | CN200880115634.4 | 2008-11-12 | CN101855334A | 2010-10-06 | 郝建军 |
| 一种用以自集成电路基板移除微粒物质的组合物，包括(a)一或多种不含金属离子的碱；(b)多面体倍半硅氧烷的水溶性不含金属离子的鎓盐；(c)氧化剂；和(d)不含金属离子的水，及由合并包括(a)、(b)、(c)和(d)的成份而得的组合物。一种用以自集成电路装置表面移除微粒物质的方法，包括在表面施用包括(a)、(b)、(c)和(d)的组合物或在表面施用由合并包括(a)、(b)、(c)和(d)的成份而得的组合物。 | ||||||
| 118 | 织物处理组合物,洗涤剂和柔软剂,以及用其处理的织物制品 | CN200910254159.5 | 2009-12-10 | CN101748608A | 2010-06-23 | 平井元彦 |
| 提供一种织物处理组合物，它主要包括25℃下粘度为100-1,000,000mPa-s的通式(1)的有机基聚硅氧烷：R1是单价烃基，R2是式-R4(NR5CH2CH2)aNR6R7的单价有机基团，其中R4是二价烃基，R5-R7是氢，单价烃基，或R8，R8是式-(CO-C5H10O)b-R9的基团，(R9是氢或单价烃基，b是1-50)，a是0-4，条件是存在于有机基聚硅氧烷内的R5、R6和R7中的至少一个是R8，R3是羟基、-OR10、R1或R2，R10是单价烃基，m是10-1500，和n是0-100，条件是若n＝0，则至少-个R3是R2。 | ||||||
| 119 | PVC加工设备的清洗剂 | CN200810079497.5 | 2008-09-28 | CN101684436A | 2010-03-31 | 魏发灿 |
| 本发明涉及一种PVC加工设备所用清洗剂，其特征在于该清洗剂由PVC、稀土复合稳定剂、白石蜡、聚乙烯蜡、碳酸钙组成，该清洗剂在不拆卸模具的情况下能完全清除残留在PVC加工设备的PVC料，既省时又省工，使用方便。 | ||||||
| 120 | 一种浅色皮革清洁剂的配制方法 | CN200810128427.4 | 2008-06-25 | CN101613644A | 2009-12-30 | 孙文国 |
| 一种浅色皮革清洁剂的配制方法：松香水1500克、有机溶剂1300克、纯白油1300克、异丙醇1500克、二氟四氯乙烷1600克、无水羊毛脂600克、三氯乙烷800克、硝基甲烷600克、异丙醇800克、杀菌剂300克、香精300克、去离子水5000克。按比例先把去离子水与异丙醇混合搅拌均匀，然后加入硝基甲烷搅拌溶解后再加入三氯乙烷搅拌溶解，然后加入松香水、有机溶剂、纯白油、无水羊毛脂搅拌溶解，再加入二氟四氯乙烷，充分搅拌溶解后加入杀菌剂、香精混合均匀后即可包装成品。 | ||||||
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