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一种飞机表面除盐防盐清洗剂及清洗方法 |
CN202310336029.6 |
2023-03-31 |
CN116445230A |
2023-07-18 |
高超; 崔岩; 赵锡君; 高伟; 胡春龙; 冯侠; 李闯 |
本发明涉及飞机维护清洗技术领域,提供了一种飞机表面除盐防盐清洗剂及清洗方法,清洗剂包括以下质量百分比的组分:丙三醇0‑30%、复合金属防护剂15%‑30%和抗盐防护剂2%‑5%、余量为蒸馏水,复合金属防护剂包括有机胺、有机酸、乙氧基化磷酸酯和苯并三氮唑,抗盐防护剂包括聚二甲基硅烷乳液和亚铁氰化钾;清洗剂有效避免清洗过程中的盐水溶液对机身材料,特别是金属材料及金属镀层腐蚀问题,具有良好的腐蚀防护效果,通过漂洗和晾干或擦干的步骤,可在机身表面形成防护薄膜,破坏氯化物在机身表面的结晶,降低其附着力,有效减缓再次积盐速度,尤其适用于长期暴露在高盐的海洋环境中,飞行过程中有长时间低空飞行的军用舰载机和近岸军用飞机的除盐维护清洗。 |
2 |
硅晶片用冲洗剂组合物 |
CN201780063904.0 |
2017-10-26 |
CN109844908B |
2023-06-06 |
内田洋平 |
本发明的硅晶片用冲洗剂组合物包含水溶性高分子及水,且上述水溶性高分子为含有水溶性高分子的二氧化硅水分散液(水分散液S)的Zeta电位Z与二氧化硅水分散液(水分散液S0)的Zeta电位Z0之差(Z-Z0)成为25mV以下的水溶性高分子;该含有水溶性高分子的二氧化硅水分散液(水分散液S)包含上述水溶性高分子、二氧化硅粒子、水及视需要包含的盐酸或氨,上述水溶性高分子的浓度为0.1质量%,上述二氧化硅粒子的浓度为0.1质量%,且25℃下的pH值为7.0,该二氧化硅水分散液(水分散液S0)包含二氧化硅粒子、水及视需要包含的盐酸或氨,上述二氧化硅粒子的浓度为0.1质量%,且25℃下的pH值为7.0。 |
3 |
表面处理组合物及其制造方法、以及使用表面处理组合物的表面处理方法及半导体基板的制造方法 |
CN201880016155.0 |
2018-02-19 |
CN110383426B |
2023-05-09 |
石田康登; 吉野努; 大西正悟; 吉崎幸信 |
[课题]目的为提供充分地去除研磨完成的研磨对象物的表面上残留的残渣的手段。[解决手段]一种表面处理组合物,其含有高分子化合物和水,该高分子化合物具有选自由磺酸(盐)基、磷酸(盐)基、膦酸(盐)基、及氨基组成的组中的至少1种离子性官能团,该表面处理组合物的pH不足7,前述高分子化合物的pKa为3以下,且离子性官能团密度超过10%。 |
4 |
一种智能PCB线路板清洗剂的制备方法 |
CN202110223452.6 |
2021-03-01 |
CN114989906A |
2022-09-02 |
杨军 |
本申请涉及线路板清洗剂技术领域,且公开了一种智能PCB线路板清洗剂的制备方法,包括以下步骤:第一步、按重量份称取以下成分;第二步、选取制备仪器;第三步、向反应釜中滴加制备溶液;第四步、向制备的混合溶液中添加溶液;第五步、对制取的混合溶液进行酸碱调节;第六步、添加去离子水。本实申请新型通过增加甲醇、乙醇、过氧化苯甲酰、改性硅胶、聚二甲基硅氧烷和碳酸二甲酯,提高了对助焊剂残留物的清理能力,并且使用寿命长,消耗能量低,干燥快,制备工艺简单,使用便捷,避免了电路板表面多种离子型和非离子型污染物的残留,防止造成低电阻通路,从而导致电子线路板的电学功能受到破坏,延长了电路板的使用时间,降低了维护成本。 |
5 |
铈化合物除去用清洗液、清洗方法和半导体晶片的制造方法 |
CN202080082908.5 |
2020-11-20 |
CN114746986A |
2022-07-12 |
安龙杰; 草野智博; 小野由香子; 竹下宽; 清野健一 |
本发明涉及一种硅氧化膜和/或硅氮化膜上的铈化合物除去用清洗液,其包含成分(A)和作为还原剂的成分(B),成分(A)为选自由下述式(1)所表示的化合物及其衍生物、下述式(2)所表示的化合物及其衍生物、下述式(3)所表示的化合物及其衍生物以及下述式(4)所表示的化合物及其衍生物组成的组中的至少一种化合物。(上述式中,R1~R12和n分别与说明书中记载的定义相同。)。 |
6 |
清洗剂组合物、基板的清洗方法和支承体或基板的清洗方法 |
CN202080036912.8 |
2020-05-20 |
CN113840670A |
2021-12-24 |
田边正人; 菅生道博 |
清洗剂组合物,是为了将在基板上存在的含有有机硅化合物的临时粘接材料除去而使用的清洗剂组合物,所述清洗剂组合物含有(A)有机溶剂:75~99质量份、(B)水:0~5质量份、(C)铵盐:1~20质量份,其中,(A)+(B)+(C)=100质量份,所述有机溶剂不含具有羟基的有机溶剂,在所述有机溶剂100质量份中,含有50质量份以上的具有杂原子的有机溶剂,所述铵盐含有氢氧根离子、氟离子和氯离子中的至少一种。 |
7 |
一种珠宝清洗剂及其制备方法 |
CN202110889377.7 |
2021-08-04 |
CN113563989A |
2021-10-29 |
袁剑华 |
本发明涉及清洗剂技术领域,尤其涉及一种珠宝清洗剂及其制备方法。珠宝清洗剂按质量百分比计,其组分包括酸性溶液3~8%、水30~50%、有机溶剂5~10%、渗透剂5~15%、缓蚀剂4~10%、光亮剂25~50%、气味调节剂0.1~0.5%。所述制备方法包括如下步骤:将水和渗透剂搅拌均匀,缓慢加入酸性溶液并搅拌均匀,依次加入缓蚀剂、有机溶剂、光亮剂并搅拌均匀,加入气味调节剂,搅拌均匀后得到所述清洗剂成品。本发明的珠宝清洗剂对饰品本身无损伤,具有温和、快速、高效的优点。通过光亮剂和缓蚀剂的协同作用,同时还具有耐腐蚀、增亮的作用。添加的气味调节剂,很好的掩盖了清洗剂中令人不愉快的气味,改善了清洗剂的使用体验。 |
8 |
清洗液、清洗方法和半导体晶片的制造方法 |
CN201980055634.8 |
2019-08-27 |
CN112602175A |
2021-04-02 |
柴田俊明; 河瀬康弘; 原田宪; 伊藤笃史; 草野智博; 竹下祐太朗 |
本发明涉及清洗液,其包含成分(A):下述通式(1)所表示的化合物、成分(B):烷基胺、成分(C):多元羧酸、成分(D):抗坏血酸,其中,成分(A)的质量相对于成分(B)和成分(C)的合计质量之比为1~15。(所述通式(1)中,R1、R2、R3分别与说明书中所记载的定义相同。)。 |
9 |
一种汽车清洗液、汽车清洗液的制备方法及洗车方法 |
CN202011112265.2 |
2020-10-16 |
CN112226284A |
2021-01-15 |
周杰; 刘祖军 |
本发明公开了一种汽车清洗液,该汽车清洗液包括可搭配使用或独立使用的洗车液、轮胎蜡和内饰清洁液;其中,洗车液包括以下组分:AES、HEDP4钠、葡萄糖酸钠、EADT4钠、片碱、小苏打、纯水、香精、AOS、表面活性剂和6501;轮胎蜡包括甘油、688、硅油和纯水;内饰清洁液包括乳化硅油、纯水、香精和甲基硅油。本发明还公开了上述洗车液的制备方法,以及应用上述汽车清洗液进行洗车的方法,具有去污效果好、自洁性强、保湿增亮的优点。 |
10 |
一种在线浊度表测量系统光洁剂 |
CN202010447769.3 |
2020-05-25 |
CN111621371A |
2020-09-04 |
杨传; 王剑峰; 李涛; 于文涛; 李晓雷; 张建华 |
本发明公开了一种在线浊度表测量系统光洁剂,包括以下重量份数的组分:污垢溶解剂10.0~18.0份、二甲苯磺酸盐2.0~4.0份、去油剂2.0~3.0份、有机硅消泡剂0.3~0.5份、增效剂3.0~5.0份、去离子水溶剂69.5~82.7份;在线浊度表测量系统光洁剂在使用时的操作步骤包括配制光洁剂、清洗光电池、清洗气泡捕集器、纯净水漂洗的步骤。本发明的在线浊度表测量系统光洁剂,能清除浊度表测量系统中的矿物质水垢等沉积物,解决对低浊度水体系统进行测量时,浊度表流量发生变化或震动等情况下浊度表测量不准确的问题。 |
11 |
半导体工艺用组合物及半导体工艺 |
CN201910161444.6 |
2019-03-04 |
CN110229720A |
2019-09-13 |
金炳秀; 晋圭安; 吴濬禄 |
提供一种半导体工艺用组合物,其包含:包含无机酸或有机酸的第一成分;以及包含由化学式1表示的硅化合物的第二成分,还提供一种半导体工艺,包括使用上述半导体工艺用组合物选择性地清洁及/或者除去有机物或无机物的步骤。 |
12 |
含有用于硬水结垢控制的羧酸/聚氧化亚烷基共聚物的碱性洗涤剂组合物 |
CN201480064057.6 |
2014-10-09 |
CN105793409B |
2019-09-13 |
C·M·西尔弗奈尔; E·C·奥尔森; K·沃尔特斯; J·迪特灵; A·J·金马; J·S·戴里 |
描述了一种碱性洗涤剂,其包含与碱金属氢氧化物结合使用共聚物。该洗涤剂维持清洁功能且例如在145至180°F的施加温度和9.5至约13的pH下,还防止硬水结垢。 |
13 |
表面处理组合物、以及使用其的表面处理方法和半导体基板的制造方法 |
CN201780057671.3 |
2017-08-28 |
CN109716488A |
2019-05-03 |
陈景智 |
[课题]提供的方案在于,边使残留于至少含有包含钨的层、以及原硅酸四乙酯或氮化硅的研磨完成后的研磨对象物的表面的杂质充分去除,边抑制钨的溶解速度。[解决方案]一种表面处理组合物,其含有:具有磺酸(盐)基的高分子化合物;选自氨基酸和多元醇中的至少1种化合物;和,分散介质,所述组合物用于对研磨完成后的研磨对象物的表面进行处理,所述研磨完成后的研磨对象物至少含有包含钨的层、以及原硅酸四乙酯或氮化硅。 |
14 |
一种用于回收矿泉水瓶的清洗剂 |
CN201810419950.6 |
2018-05-04 |
CN108728274A |
2018-11-02 |
段满礼 |
本发明以茶籽粉、改性三氯氰胺为主要原料,并配合米糠、海藻胶、甘油三酯、辛基十二醇等助剂制得用于回收矿泉水瓶的清洗剂,该清洗剂使用方便,将其对回收矿泉水瓶冲洗一次后即可有效去除瓶上附着的黏胶和污物,后续只需用水冲洗一次即可完全去除附着在瓶上的清洗剂;该清洗剂无毒无害,使用安全性高,不影响矿泉水瓶再生后塑料颗粒的应用,且清洗后所得废水经简单沉降与过滤后即可排放,减轻对环境的污染。 |
15 |
一种废旧塑料瓶的清洁液 |
CN201810421514.2 |
2018-05-04 |
CN108728273A |
2018-11-02 |
刘娟; 王博; 王晨旭; 刘化云 |
本发明以椰糠,海藻胶为主要原料,并配合微晶纤维素-甘氨酸、三氯氰胺、活性炭、甘油三酯、辛基十二醇等助剂制得废旧塑料瓶的清洁液,该清洁液使用方便,将其对回收塑料冲洗一次后即可有效去除瓶上附着的灰尘和污物,后续只需用水冲洗一次即可完全去除附着在瓶上的清洁液;该清洁液无毒无害,使用安全性高,不影响塑料再生后塑料颗粒的应用,且清洗后所得废水经简单沉降与过滤后即可排放,减轻对环境的污染。 |
16 |
一种用于塑料瓶的除胶液 |
CN201810419897.X |
2018-05-04 |
CN108728272A |
2018-11-02 |
刘娟; 王博; 王晨旭; 刘化云 |
本发明以改性米糠、微晶纤维素为主要原料,并配合三氯氰胺、活性炭、甘油三酯、辛基十二醇等助剂制得用于塑料瓶的除胶液,该除胶液使用方便,将其对回收塑料冲洗一次后即可有效去除瓶上附着的黏胶,后续只需用水冲洗一次即可完全去除附着在瓶上的除胶液,该除胶液无毒无害,使用安全性高,不影响塑料再生后塑料颗粒的应用,且清洗后所得废水经简单沉降与过滤后即可排放,减轻对环境的污染。 |
17 |
用于恶臭减少的颗粒 |
CN201680060505.4 |
2016-10-19 |
CN108138088A |
2018-06-08 |
G·M·弗兰肯巴赫; J·A·赫林谢德; S·A·霍伦扎伊克 |
本发明涉及一种组合物,所述组合物包含多种颗粒,其中所述颗粒包含:约30重量%至约95重量%的载体;约0.1重量%至约30重量%的香料;以及约0.00025重量%至约30重量%的恶臭剂;其中所述恶臭剂包含一种或多种具有小于3的阻隔指数或3至约0.001的平均阻隔指数的恶臭减少材料;并且其中所述颗粒中的每一种具有介于约0.1mg至约5g的质量。 |
18 |
一种风机箱的清洗剂及其制备方法 |
CN201711081199.5 |
2017-11-06 |
CN107723136A |
2018-02-23 |
陈兴 |
本发明涉及清洗剂领域,尤其涉及一种风机箱的清洗剂及其制备方法。包括下列重量份数的物质:过磷酸钙8-13份,二氯磷酸苯酯4-13份,二月桂酸二丁基锡9-13份,有机添加剂8-16份,调节剂1-2份,顺丁烯二酸10-16份,氯化钙5-16份,次氯酸钠6-15份,分散剂1-3份,聚乙烯醇9-16份,聚乙烯无卤阻燃剂4-8份,丙三醇20-25份。本发明操作方便简单,具有良好的渗透溶解性,清洗油污污渍干净彻底,对机械设备的材质无任何隐性损坏。 |
19 |
一种医疗器械清洗剂 |
CN201710924675.9 |
2017-10-01 |
CN107523440A |
2017-12-29 |
赵青玲; 庄迪 |
本发明公开了一种医疗器械清洗剂,包括丹参素和RhodomollanolA,均为天然化合物,环保安全,无腐蚀性,具有良好的乳化能力和分解能力,可直接洗涤各种有机污染物和无机污染物。可高效去除干涸的污渍和变性的蛋白质残留物,使清洗后的器械清光洁如新。 |
20 |
一种果蔬消毒剂及其清洗方法 |
CN201710726297.3 |
2017-08-22 |
CN107502481A |
2017-12-22 |
胡先智 |
本发明公开了一种果蔬消毒剂,包括以下重量份数的各组分:扇贝壳粉30~50份、麦饭石粉20~30份、竹炭2~6份、植酸酶4~8份和酿酒酵母菌冻干菌粉末3份~5份;同时公开了使用该果蔬消毒剂的消毒方法;本发明的果蔬消毒剂主料扇贝壳粉和麦饭石粉吸附能力强、净化能力强,易析出矿物质,可以吸附出果蔬黄总的农药残留等有害物质,协同植酸酶与酿酒酵母菌,提高单一组份的去除率,而且可以室温下长时间存放,不会失活,可以有效地解决当前的果蔬农药残留超标问题,对果蔬有机磷农药残留的去除率最高达到99%。 |