子分类：
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 141 | 表面处理组合物及其制造方法、以及使用表面处理组合物的表面处理方法及半导体基板的制造方法 | CN201880016116.0 | 2018-02-19 | CN110402478B | 2023-07-04 | 石田康登; 吉野努; 大西正悟; 吉崎幸信 |
| [课题]目的为提供充分地去除研磨完成的研磨对象物的表面上残留的残渣的手段。[解决手段]一种表面处理组合物，其含有高分子化合物和水，该高分子化合物具有选自由磺酸(盐)基、磷酸(盐)基、膦酸(盐)基、羧酸(盐)基及氨基组成的组中的至少1种离子性官能团，该表面处理组合物的pH值不足7，前述高分子化合物的pKa为3以下，且重均分子量为3500以上且100000以下。 | ||||||
| 142 | 用于锡膏焊后的碱性水基清洗剂及其制备方法和使用方法 | CN202210360774.X | 2022-04-07 | CN114736746A | 2022-07-12 | 李伟锋; 赵萍 |
| 本发明属于电子组装、半导体封装清洗助剂技术领域，提供了用于锡膏焊后的碱性水基清洗剂及其制备方法和使用方法，由以下重量份的组分制成：异丙醇胺、二乙二醇单丁醚、丙二醇甲醚、三丙二醇丁醚、缓蚀抑制剂、消泡剂和水；制备方法包括如下步骤：向反应釜中加入水后在进行加热，依次加入各组分搅拌均匀得到碱性水基清洗剂；碱性水基清洗剂通过水进行稀释后，对锡膏焊后的PCBA工件进行超声清洗或者喷淋清洗，然后漂洗、干燥。本发明制备的清洗剂能够快速有效的去除焊后锡膏、助焊剂及油污、灰尘等残留物质，清洗之后焊点保持光亮，配方温和，适用于较长接触时间的清洗应用。 | ||||||
| 143 | 半导体工艺用组合物及半导体工艺 | CN201910161444.6 | 2019-03-04 | CN110229720B | 2022-05-27 | 金炳秀; 晋圭安; 吴濬禄 |
| 提供一种半导体工艺用组合物，其包含：包含无机酸或有机酸的第一成分；以及包含由化学式1表示的硅化合物的第二成分，还提供一种半导体工艺，包括使用上述半导体工艺用组合物选择性地清洁及/或者除去有机物或无机物的步骤。 | ||||||
| 144 | 一种锂和有机溶液预锂后极片用清洗液及其应用 | CN202011603406.0 | 2020-12-29 | CN112708514A | 2021-04-27 | 高田慧; 李立飞 |
| 本发明涉及一种锂和有机溶液预锂后极片用清洗液及其应用，属于电极材料加工技术领域。本发明的锂和有机溶液预锂后极片用清洗液，对用锂‑有机溶液预锂后的极片进行清洗时，首先可以清除极片上预锂后的反应产物芳香族化合物，其次添加剂可以和极片表面未反应的预锂溶液反应，不仅可以消除多余的预锂溶液还可以在电极材料上形成一层SEI膜，优化电极性能；更重要的是添加剂可以和因不均匀预锂造成部分地方微量析锂的锂负极反应，消除电极析锂的隐患，通过清除极片上的杂质并同时在负极形成SEI膜，优化预锂后电极材料的克容量发挥和电性能，具有广阔的应用前景。 | ||||||
| 145 | 清洗液组合物 | CN201980054513.1 | 2019-09-19 | CN112639068A | 2021-04-09 | 高中亚铃治 |
| 本发明的目的在于，提供短时间内有效地去除在具有Co接触插头或Co布线的半导体基板中的来源于浆料的有机残留物或磨粒的清洗液。本发明涉及包含一种或两种以上的还原剂及水的用于清洗具有Co接触插头和/或Co布线的基板的清洗液组合物。并且，本发明涉及包含一种或两种以上的还原剂及水，pH为3以上且小于12的用于清洗具有Co且不具有Cu的基板的清洗液组合物。 | ||||||
| 146 | 清洗用树脂组合物 | CN201980046986.7 | 2019-03-05 | CN112423958A | 2021-02-26 | 西川伦矢; 加藤修平 |
| 提供：清洗性优异、且对后继树脂的置换容易、且操作容易的清洗用树脂组合物。一种清洗用树脂组合物，其用于清洗树脂材料的挤出机或成型机的内部。清洗用树脂组合物含有基材树脂和添加剂，添加剂包含金属皂且包含脂肪酸酰胺和矿物油中的至少任一者(其中，包含前述脂肪酸酰胺的情况下，将清洗用树脂组合物的总质量作为基准，脂肪酸酰胺的含量为1.0质量％以上)，基材树脂是熔体流动速率为1.0g/10分钟以下的热塑性树脂(其中，不包括相对于热塑性树脂100质量份的无机填料的含量为3质量份以上者)。 | ||||||
| 147 | 洗涤剂组合物 | CN201780024802.8 | 2017-06-15 | CN109072138B | 2020-10-27 | 寺林刚; 前田泉; 田村直也; 梅泽晋; 田井亚衣子; 桶田翔太 |
| 一种洗涤剂组合物，是含有(A)成分和(B)成分的洗涤剂组合物，所述(A)成分是具有特定的构成单元的聚合物，所述(B)成分是具有重复单元(b1)和重复单元(b2)的水溶性聚合物，所述重复单元(b1)是选自对苯二甲酸亚烷基酯单元以及间苯二甲酸亚烷基酯单元中的至少1种重复单元，所述重复单元(b2)是选自氧化烯单元以及聚氧化烯单元中的至少1种重复单元。 | ||||||
| 148 | 成形机清洗用的清洗剂及清洗方法 | CN201880060521.2 | 2018-06-29 | CN111417500A | 2020-07-14 | 藤田钲则; 平尾俊明; 饭田和彦; 今津洸太 |
| 课题在于提供一种清洗剂，其初期清洗效果优异，且残留物可较容易均等地分散于接下来制作的成形品中。通过成形机清洗用的清洗剂能够解决课题，该清洗剂包含热塑性树脂及绵状玻璃纤维。 | ||||||
| 149 | 硅晶片用冲洗剂组合物 | CN201780079482.6 | 2017-10-26 | CN110114856A | 2019-08-09 | 内田洋平 |
| 本发明的硅晶片用冲洗剂组合物含有水溶性高分子A和水系介质，所述水溶性高分子A包含具有甜菜碱结构的结构单元A。水溶性高分子A优选包含下述式(1)所示的结构单元。水溶性高分子优选还包含下述式(2)所示的结构单元B。水溶性高分子A的重均分子量优选为1000以上，且优选为3000000以下。本发明的硅晶片用冲洗剂组合物根据需要而包含pH调节剂。 | ||||||
| 150 | 透镜用液剂、隐形眼镜和其制造方法 | CN201580007269.5 | 2015-02-06 | CN105960606B | 2019-07-26 | 矶和宏; 日向寺慧 |
| 本发明提供一种具有优异的脂质清洗力，并且显示高亲水性化性能，在涂布于透镜时显示优异的防止脂质附着的效果和赋予润滑性的效果的透镜用液剂。所述透镜用液剂包含聚合物，该聚合物具有2.5～95质量％的下述重复单元(A)和2.5～95质量％的下述重复单元(B)。(A)亲水性重复单元；(B)在侧链具有聚氧化烯基且该侧链的末端由碳原子数5～30的烷基、碳原子数5～30的烷酰基或芳基构成的重复单元。 | ||||||
| 151 | 一种含磷酸胆碱聚合物的隐形眼镜保存液 | CN201811601187.5 | 2018-12-26 | CN109957475A | 2019-07-02 | 王建强; 刘保安 |
| 本发明涉及一种隐形眼镜保存液，是一种含磷酸胆碱聚合物的隐形眼镜保存液，配方如下(重量百分比)：磷酸胆碱聚合物0.05％～10％，渗透压调节剂0.5～15％，pH值调节剂0.1％～5％，显色剂0％～1％，纯水含量69％～99.35％；配置好的溶液渗透压在240～340mOsm/Kg，pH值的范围在6.4～7.8；其中，磷酸胆碱聚合物为聚甲基丙烯酰氧基乙基‑三甲基‑(2‑膦酰氧基乙基)铵盐。该溶液具有一定的润滑效果，保存在中该溶液的镜片，配戴时不会感觉眼睛干涩。 | ||||||
| 152 | 硅晶片用冲洗剂组合物 | CN201780063904.0 | 2017-10-26 | CN109844908A | 2019-06-04 | 内田洋平 |
| 本发明的硅晶片用冲洗剂组合物包含水溶性高分子及水，且上述水溶性高分子为含有水溶性高分子的二氧化硅水分散液(水分散液S)的Zeta电位Z与二氧化硅水分散液(水分散液S0)的Zeta电位Z0之差(Z－Z0)成为25mV以下的水溶性高分子；该含有水溶性高分子的二氧化硅水分散液(水分散液S)包含上述水溶性高分子、二氧化硅粒子、水及视需要包含的盐酸或氨，上述水溶性高分子的浓度为0.1质量％，上述二氧化硅粒子的浓度为0.1质量％，且25℃下的pH值为7.0，该二氧化硅水分散液(水分散液S0)包含二氧化硅粒子、水及视需要包含的盐酸或氨，上述二氧化硅粒子的浓度为0.1质量％，且25℃下的pH值为7.0。 | ||||||
| 153 | 一种玻璃清洗剂 | CN201711072357.0 | 2017-11-03 | CN109749897A | 2019-05-14 | 彭伶俐 |
| 本发明公开了一种玻璃清洗剂，其组分及重量百分比为：水性硅油为10%、玻璃去污剂为30%、玻璃美容剂为20%，还包括微量香精。本发明的优点是合理配比清洗剂组分及含量，特别适用于对玻璃的清洁，既有良好的去污性能，又保护玻璃表面，避免产生划痕，同时还提亮玻璃，增加其通透性。 | ||||||
| 154 | 清洁化用膜形成剂以及使用该形成剂的清洁化处理方法 | CN201780027545.3 | 2017-06-23 | CN109072142A | 2018-12-21 | 渡边洋介; 猪俣和也 |
| 本申请提供容易在清洁化对象面形成膜以及去除污渍、可以去除牢固附着的污渍的清洁化用膜形成剂以及使用该膜形成剂的清洁化处理方法。一种清洁化用膜形成剂以及使用该膜形成剂的清洁化处理方法，所述清洁化用膜形成剂含有(A)成分：选自(甲基)丙烯酸树脂、乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯树脂、氨基甲酸酯树脂、聚乙烯醇树脂以及聚乙烯醇缩醛树脂中的1种以上的高分子、(B)成分：水和(C)成分：溶解度参数(SP值)为7.5～11.0的有机溶剂，并且所述(A)成分/所述(C)成分所表示的质量比为30～450。 | ||||||
| 155 | 一种触摸屏清洗剂及其使用方法 | CN201810472450.9 | 2018-05-17 | CN108753493A | 2018-11-06 | 司荣美; 潘中海; 刘彩风 |
| 本发明是一种触摸屏清洗剂及其使用方法，所述清洗剂包括A清洗剂、B清洗剂和水，所述A清洗剂、所述B清洗剂和所述水的质量比为1：1：12‑1：1:16，所述A清洗剂的组分和重量份数为：丁二酸二甲酯10‑13份、二乙二醇单甲醚1‑2份、二乙二醇单丁醚1‑2份、乙醇2‑2.2份，所述B清洗剂为钛酸酯纳米分散液。本发明对胶类残留物有很好的溶解性能，够清洗胶类残留物质，提高清洗能力；该清洗剂在人体内不蓄积，从而减少对人体的危害；采用超声波清洗，减少工人与清洗剂的接触，避免对工人造成伤害；B清洗剂可以降低废物的含量。 | ||||||
| 156 | 多功能护理润滑清洗剂 | CN201810336192.1 | 2018-04-16 | CN108546605A | 2018-09-18 | 杨伟帅 |
| 本发明公开了一种多功能护理润滑清洗剂，包括：水、肉豆蔻酸酯、香蕉皮、苯氧乙醇、硅油、三乙醇胺、玫瑰油、己二醇。通过上述方式，本发明多功能护理润滑清洗剂，不仅可以提供很好的清洁效果，而且还具有护理和润滑的作用，使用的范围更加的广阔，方便使用。 | ||||||
| 157 | 一种机械零配件油污清洗剂及其制备方法 | CN201810438757.7 | 2018-05-09 | CN108485844A | 2018-09-04 | 周广洋 |
| 本发明提供了一种机械油污清洗剂及其制备方法，包含以下重量组分，硫酸镁13-16份，氢氧化钙10-13份，五水硅酸钠5-8份，硫氰酸盐1-4份，碳酸钙25-28份，亚硝酸钠20-23份，含氢硅油22-25份，抗氧化剂11-14份，石墨粉1-2份，正丙醇11-14份，氰尿酸三聚氰胺盐2-3份，蒙脱土1-4份，过氧化苯甲酰1-2份，润滑剂5-8份，去离子水100份；本发明与现有技术相比：本发明一种机械零配件油污清洗剂制作方法简单，成本经济合理，制作的清洗剂味道清香，无毒无害；去污迅速，清洗效果良好。 | ||||||
| 158 | 用于孢子移除的方法 | CN201680075949.5 | 2016-12-19 | CN108472505A | 2018-08-31 | 拉尼亚宁·V·帕塔萨拉蒂; 凯瑟琳·D·希皮; 蒂法尼·J·汉森; 比特尼·K·T·斯科特; 乔纳森·D·M·赫兰德 |
| 本文公开了一种从皮肤移除孢子的方法，所述方法包括将有效量的组合物分配到制品中或制品上，其中所述组合物包含水和约0.04重量％至约4重量％聚合物阳离子抗菌剂、非离子抗菌剂或它们的组合；使皮肤表面与所述组合物接触；在所述皮肤表面有所述组合物存在时，机械作用于所述皮肤表面至少一(1)秒；以及从所述皮肤的表面移除所述组合物的至少一部分，其中移除所述组合物还从所述皮肤表面移除孢子。 | ||||||
| 159 | 清洁剂组合物 | CN201480033437.3 | 2014-06-04 | CN105283167B | 2018-08-31 | 森冈美沙子; 堀端达也; 松元树 |
| 本发明涉及：[1]一种清洁剂组合物，其中配合有含下述(A)和(B)的色素颗粒，(A)水不溶性色素：10～95质量％，(B)选自聚乙烯醇、聚乙烯醇衍生物、聚乙烯吡咯烷酮、以及聚乙烯吡咯烷酮衍生物中的2种以上；以及[2]一种上述[1]的清洁剂组合物的制造方法，其中具有将含有水不溶性色素(A)的粉体与(B)成分的溶液混合进行造粒后，经干燥而获得色素颗粒，再将该色素颗粒与清洁剂混合的步骤。该清洁剂组合物因为能兼顾丰富的起泡与制剂稳定性，并且不损及使用者的使用目的，发挥对泡沫的充分着色性、可容易地控制对泡沫的着色时间，因而能提供根据使用者用途的舒适使用感与合适的使用形态。 | ||||||
| 160 | 一种适用于垃圾渗沥液蒸发器的清洗剂、其制备方法及用途 | CN201711429664.X | 2017-12-26 | CN108179075A | 2018-06-19 | 张欣; 刘歌; 邵建国; 史秋; 张丹 |
| 本发明提供一种适用于垃圾渗沥液蒸发器的清洗剂、其制备方法及用途，适用于垃圾渗沥液蒸发器的清洗剂，其特征在于，包括重量配比如下的各组分：水分92-97份；硝酸3-8份；苯胺0.1-0.3份；硫氰酸钾0.05-0.2份；聚二甲基硅氧烷0.001-0.04份。本发明适用于垃圾渗沥液蒸发器的清洗剂配方简单、合理，该清洗剂能够有效的软化、去除垃圾渗滤液处理过程中MVR蒸发器产生的污垢，解决由于垃圾渗滤液处理蒸发器结垢，造成的换热效率下降，能源成本增加等问题。 | ||||||
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