| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 1 | 一步法去除干刻后残留物的钨制程清洗剂 | CN202410168744.8 | 2024-02-06 | CN118126783A | 2024-06-04 | 文汉涛; 肖林成; 王勇军; 康威 |
| 本发明公开了一种一步法去除干刻后残留物的钨制程清洗剂，由以下质量百分比含量的组份组成：有机碱0.2~20%，水溶性有机溶剂20~60%，稳定剂0.05~5%，腐蚀抑制剂0.05~1%，以及余量的水，所述清洗剂20℃下粘度＜10 mPa•s，pH值的范围在9.0‑13.0。本发明精简了金属钨干蚀刻后清洗步骤，将多步清洗优化为一步清洗；本发明能有效去除W的氧化层，不损伤介质层，药液本身对金属W的腐蚀速率低。同时使用温度比较温和，清洗时间缩短。 | ||||||
| 2 | 一种粗抛光锗晶片背面黏胶清洗方法 | CN202210078324.1 | 2022-01-24 | CN116004332B | 2024-05-10 | 郭建新; 刘汉保; 韦华; 赵磊; 吕春富; 杨春柳; 李国芳 |
| 本发明涉及一种粗抛光锗晶片背面黏胶清洗工艺，属于半导体材料技术领域，具体包括使用脱胶液清洗后，再使用不同浓度浓硫酸清洗，所述脱胶液以体积百分比浓度计包括：氨基三甲叉磷酸50‑90%、高氯酸1‑10%、EDTA‑2Na1‑5%、余量为纯水，本发明的清洗工艺，首先采用脱胶液清洗，再使用浓硫酸碳化清洗，具有晶片背面黏胶去除彻底、操作简单、生产效率高、能降低酸液对粗抛光锗晶片表面侵蚀的特点，现已实现(2‑6)英寸粗抛光锗晶片批量、高效及稳定化生产，是高端锗晶片生产过程中具有重要意义的工序。 | ||||||
| 3 | 用于铜制程干法蚀刻后的清洗液 | CN202311691639.4 | 2023-12-11 | CN117903889A | 2024-04-19 | 贺兆波; 吴政; 叶瑞; 王亮; 谢建; 尹印; 陈小超; 罗海燕; 刘春丽 |
| 本发明提供了一种用于铜制程干法蚀刻后的清洗液，按质量百分比计，含有5‑10~12%螯合剂、20‑30%的有机溶剂、3‑100%的pH调节剂、3‑10%缓蚀剂和水，清洗液的pH控制在6~10。本发明提供的清洗液，能够有效去除铜制程蚀刻后的残留物，同时对金属（Cu、W、ALCU、Ti、TiN、）和非金属介质(如SiO2、SION、BPSG、TEOS、SiN、poly Si、BD/BDII)均有较好的抑制腐蚀作用。 | ||||||
| 4 | 从含金属抗蚀剂中去除边珠用的组成物及形成图案的方法 | CN202280055024.X | 2022-07-04 | CN117795049A | 2024-03-29 | 文炯朗; 李旻映; 许伦旼; 具滋旼; 李东炯; 韩多顺; 金旼秀; 金宰贤 |
| 提供一种用于从含金属抗蚀剂中去除边珠的组成物以及一种形成图案的方法，所述方法包括使用所述组成物来去除边珠的步骤，且所述组成物包括有机溶剂以及具有大于或等于30平方埃的AlogP3的化合物。 | ||||||
| 5 | 一种具有除垢和缓蚀功能的有机酸的合成方法 | CN202311058219.2 | 2023-08-22 | CN117164624A | 2023-12-05 | 赵晓洋; 刘伟 |
| 本发明属于有机酸的合成技术领域，公开了一种具有除垢和缓蚀功能的有机酸的合成方法，包括S1、将EDA、无水乙腈和碳酸钾混合；滴加氯乙腈反应；经过滤、清洗、干燥得到EDD；S2、将EDD加水溶解；加入氢氧化钠反应，浓盐酸调节pH；加入乙醇，经过滤、干燥得到EDDA；S3、将EDDA和亚磷酸溶解在浓盐酸中；滴加甲醛水溶液反应，加入氢氧化钠调节pH；分离得到EDDAP；本发明合成得到的有机酸乙二胺‑N,N’‑二乙酸‑二甲叉膦酸EDDAP，比常用的有机酸除垢剂EDTA具有更强的除垢效果，在垢加热60℃的条件下即可有效除垢，对垢的清洗条件更温和；具有成膜效果，而且对设备无任何腐蚀。 | ||||||
| 6 | 一种生物酶催化分解管道疏通剂及其制备方法 | CN202310795309.3 | 2023-06-30 | CN116904275A | 2023-10-20 | 程绍禹 |
| 本发明公开了一种生物酶催化分解管道疏通剂及其制备方法，属于技术领域。所述生物酶催化分解管道疏通剂，包括生物酶催化分解组分，所述生物酶催化分解组分，按重量份计，包括：生物酶1～10份、巯基乙酸钙0～5份、取代碱10～60份、葡萄糖酸钠5～30份、硫酸钠10～20份。本发明提供的生物酶催化分解管道疏通剂以生物酶、菌粉及取代碱等复配，不含苛性碱，使用更加安全，取代碱溶于水后形成碱性环境，提高生物酶的活性及菌的活力，生物酶、菌粉及取代碱等协同，能快速去除管道中的油脂成分，降解头发等堵塞物及臭味分子。 | ||||||
| 7 | 一种飞机表面除盐防盐清洗剂及清洗方法 | CN202310336029.6 | 2023-03-31 | CN116445230A | 2023-07-18 | 高超; 崔岩; 赵锡君; 高伟; 胡春龙; 冯侠; 李闯 |
| 本发明涉及飞机维护清洗技术领域，提供了一种飞机表面除盐防盐清洗剂及清洗方法，清洗剂包括以下质量百分比的组分：丙三醇0‑30％、复合金属防护剂15％‑30％和抗盐防护剂2％‑5％、余量为蒸馏水，复合金属防护剂包括有机胺、有机酸、乙氧基化磷酸酯和苯并三氮唑，抗盐防护剂包括聚二甲基硅烷乳液和亚铁氰化钾；清洗剂有效避免清洗过程中的盐水溶液对机身材料，特别是金属材料及金属镀层腐蚀问题，具有良好的腐蚀防护效果，通过漂洗和晾干或擦干的步骤，可在机身表面形成防护薄膜，破坏氯化物在机身表面的结晶，降低其附着力，有效减缓再次积盐速度，尤其适用于长期暴露在高盐的海洋环境中，飞行过程中有长时间低空飞行的军用舰载机和近岸军用飞机的除盐维护清洗。 | ||||||
| 8 | 一种磷化铟清洗用清洗液及其制备方法与清洗方法 | CN202210069456.8 | 2022-01-21 | CN114574290B | 2023-06-20 | 邓白鹭; 李海淼 |
| 本申请涉及半导体材料技术领域，具体公开了一种磷化铟清洗用清洗液及其制备方法与清洗方法。磷化铟清洗用清洗液包括A组分和B组分，所述A组分包括以下重量份的原料：氨水6‑14份、双氧水16‑24份、脂肪醇聚乙烯醚1‑9份、羧甲基纤维素1‑9份、水450‑530份；所述B组分包括以下重量份的原料：硫酸6‑14份、双氧水6‑14份、二乙烯三胺五甲叉膦酸1‑9份、水490‑500份；其制备方法为：A组分的原料混合，制得A组分并包装,B组分的原料混合，制得B组分并包装。本申请的磷化铟清洗用清洗液可用于清洗半导体材料，其具有降低磷化铟粗糙度，提高产品质量的优点。 | ||||||
| 9 | 一种用于金刚石线锯切割舱体及管道的水基清洗剂 | CN202310050315.6 | 2023-02-01 | CN116083181A | 2023-05-09 | 杨家莉; 于继凯; 曹静 |
| 一种用于金刚石线锯切割舱体及管道的水基清洗剂，由一水柠檬酸、二氧化硫脲、三乙醇胺、十二烷基聚氧乙烯醚硫酸酯、聚乙二醇400、无水乙醇、二甲基硅油、季铵盐离子液体和79～85％的去离子水混合而成组成。二氧化硫脲、三乙醇胺与多种金属生成的金属离子螯合剂能有效对分散的金属颗粒进行捕获；聚乙二醇400与无水乙醇增强清洗剂在管道内羁留能够迅速软化硅泥；季铵盐离子液体比有机溶剂更具环境友好性，同时兼具催化作用，能提升清洗速度和效果。在体系柠檬酸缓冲环境下，结合十二烷基聚氧乙烯醚硫酸酯，与季铵盐离子液体协同作用能够有效清洗去除切割舱体及管道内羁留的金属污垢，具有效率好，成本低、断线率低、硅片切片性能提升的特点。 | ||||||
| 10 | 一种隧道结晶用酸性除垢剂及其制备方法和应用 | CN202211658581.9 | 2022-12-22 | CN116042330A | 2023-05-02 | 雷广军; 胡家玮; 潘竞虎; 郭立杰; 温波 |
| 本发明公开了一种隧道结晶用酸性除垢剂及其制备方法和应用，酸性除垢剂由以下质量百分比的原料组成：7.5～8.5％的除垢剂；0.2～0.8％的第一缓蚀阻垢剂；0.2～0.8％的第二缓蚀阻垢剂；以及余量的水；其中，除垢剂为氨基磺酸，第一缓蚀阻垢剂包括二乙烯三胺五甲叉膦酸、聚乙烯醇以及醋酸，第二缓蚀阻垢剂包括2‑膦酸丁烷‑1，2，4‑三羧酸以及聚丙乙烯；本发明提供的隧道结晶用酸性除垢剂通过除垢剂可以直接将碳酸盐垢转化成水溶性物质，避免阴阳离子之间结合成垢；通过第一缓蚀阻垢剂和第二缓蚀阻垢剂的晶格畸变作用、络合增溶作用和抗凝分散作用等对成垢阴阳离子产生阻垢作用；通过第二缓蚀阻垢剂使上述组分分散形成均一的体系。 | ||||||
| 11 | 制绒清洗设备的槽体清洗剂及槽体清洗方法 | CN202310101935.8 | 2023-01-19 | CN115992032A | 2023-04-21 | 高永强 |
| 本发明提供了一种制绒清洗设备的槽体清洗剂及槽体清洗方法。其中，该槽体清洗剂按体积份数计包括：洗槽添加剂0.1～0.5份；盐酸2～4份；水15～20份；其中，所述洗槽添加剂按体积百分比计包括：乙酸或磷酸三钠8％～11％；枸橼酸3％～6％；氧化聚乙烯2％～5％；水71％～84％。本发明的制绒清洗设备的槽体清洗剂及槽体清洗方法，能够有效地减少RESH电池块状污染发黑的问题、提升RESH电池的转换效率和良率。 | ||||||
| 12 | 一种溶出系统清洗剂及其制备方法和应用 | CN202211061128.X | 2022-09-01 | CN115305160A | 2022-11-08 | 赵德宏; 代晓远; 张鑫伟 |
| 本发明提供了一种溶出系统清洗剂及其制备方法和应用，涉及工业清洗剂技术领域。本发明提供的溶出系统清洗剂，以质量百分含量计，包括以下组分：氟化钠1～10％，酸5～30％，复合氨基缓蚀剂1～3％，余量的水。本发明利用氟化钠提供的氟离子与酸中的氢离子结合形成强酸性物质氢氟酸，对复杂垢中的硅垢有优异的清洗作用。在本发明中，复合氨基缓蚀剂是一种高低温稳定性优异的酸洗缓蚀剂，它和以铁为主要成分的金属材质设备形成致密吸附膜，在整个清洗过程中保护设备不受高浓度酸的腐蚀。本发明提供的清洗剂清洗效果好，不易对管道产生腐蚀，使用效果好。 | ||||||
| 13 | 一种植物源多孔微米颗粒及其制备方法及应用 | CN202011013738.3 | 2020-09-24 | CN114250125B | 2022-09-06 | 冯亮; 张雨; 赵旭辉 |
| 本申请公开了一种植物源多孔微米颗粒，所述植物源多孔微米颗粒由小麦蛋白进行交联反应得到。本申请的植物源多孔微米颗粒尺寸为微米级、孔径为纳米级，颗粒均匀，具有较高的比表面积，对农药残留等有良好的吸附作用，且所用原料来源于植物，天然无害，无需复杂的净化过程即可直接应用于果蔬清洗相关领域。 | ||||||
| 14 | 一种飞机厕所真空管道清洗除味剂及其制备方法 | CN202110684238.0 | 2021-06-21 | CN113337351B | 2022-07-15 | 刘俊峰; 钟志威; 高木锐; 刘荣; 陈立申 |
| 本发明公开了一种飞机厕所真空管道清洗除味剂及其制备方法，其原料按重量份包括：顺丁烯二酸6～15份，硝基甲磺酸1～2份，除臭缓蚀助剂A 0.5～1份，除臭缓蚀助剂B 0.5～1份以及去离子水。本发明的清洗除味剂能有效清除飞机真空管道的水垢，防止管道堵塞，对飞机厕所及周边设备的金属、塑料、橡胶织物安全没有腐蚀，能够持久抑制异味产生，改善厕所环境。 | ||||||
| 15 | 铈化合物除去用清洗液、清洗方法和半导体晶片的制造方法 | CN202080082908.5 | 2020-11-20 | CN114746986A | 2022-07-12 | 安龙杰; 草野智博; 小野由香子; 竹下宽; 清野健一 |
| 本发明涉及一种硅氧化膜和/或硅氮化膜上的铈化合物除去用清洗液，其包含成分(A)和作为还原剂的成分(B)，成分(A)为选自由下述式(1)所表示的化合物及其衍生物、下述式(2)所表示的化合物及其衍生物、下述式(3)所表示的化合物及其衍生物以及下述式(4)所表示的化合物及其衍生物组成的组中的至少一种化合物。(上述式中，R1～R12和n分别与说明书中记载的定义相同。)。 | ||||||
| 16 | 一种半导体精密电子部件清洗剂及其制备工艺 | CN202210037076.6 | 2022-01-13 | CN114574298A | 2022-06-03 | 侯林熙; 纪明智; 凌坤华; 李陈陈; 张顺利; 张国平; 吕超; 李亚楠 |
| 本发明涉及清洗剂领域，具体为一种半导体精密电子部件清洗剂，包括：螯合剂、酸度调节剂、有机溶剂、无机溶剂、增溶剂、腐蚀抑制剂和水，本发明还提出了一种半导体精密电子部件清洗剂的制备工艺，步骤一：按照各个成分含量对应准备制备清洗剂的所需要的材料，将其放置在一旁备用；步骤二：将步骤一中所准备好的水进行过滤，然后将酸度调节剂、增溶剂分别加入到水中，进行手动搅拌混合均匀，然后再次进行过滤将其中的杂质去除掉；本发明的有益效果是：通过向半导体精密电子部件清洗剂中加入螯合剂可以有效提高清洗剂去除半导体精密电子部件表面颗粒的能力，且随着螯合剂成分的改变清洗剂的清洗能力也发生改变，有效的提高了清洗剂的清洗能力。 | ||||||
| 17 | 一种ICP组件清洗剂 | CN202111667814.7 | 2021-12-30 | CN114456884A | 2022-05-10 | 郝鹏超; 郭斌; 夏彧; 俞阳; 汤昱 |
| 本发明提供一种ICP组件清洗剂，ICP组件清洗剂包括强氧化溶液A和清洗剂B，ICP组件先用强氧化溶液A对残留污染物进行氧化降解，再用清洁剂B对已氧化的污染物进行配位清除，按重量份计，强氧化溶液A包括以下组分：8～10份HNO3，1～4份HF，8～12份HCl、1～3份H2O2和71～82份H2O；清洗剂B包括以下组分：10～20份有机酸、10～20份氨水和1～3份巯基苯骈噻唑。本发明的ICP组件清洗剂，在ICP测试结束后对采样锥、截留锥及矩管清洗过程中，该清洁剂可以发挥高效、快速、可靠的清洁效果，从而在仪器测定结果的准确度和精密度方面，采样锥、截留锥及矩管的维护方面及降低元素残留污染等方面发挥重要作用。 | ||||||
| 18 | 一种用于喷雾干燥法烟气脱硫设备的清洗剂 | CN202011604239.1 | 2020-12-29 | CN114032149A | 2022-02-11 | 孙升科 |
| 本发明涉及一种用于喷雾干燥法烟气脱硫设备的清洗剂，属于烟气脱硫清洗技术领域。其配方比例按重量比计如下：包括无机酸25％～28％；螯合剂2％～4％；缓蚀剂3％～5％，催化剂1％～3％；其余为水。本发明提供的清洗剂，专用于喷雾干燥的喷雾盘及其相关管路的清洗，其清洁效果好，清洁时间短，只需要3～5分钟即可完成整个清洗过程，甚至可以不通过拆卸设备就对整体设备进行清洗。清洗结束后整个设备损伤小，清洗效果维持时间长，大大降低了成本。 | ||||||
| 19 | 一种新型膨松剂及其制备方法 | CN202111248406.8 | 2021-10-26 | CN113980753A | 2022-01-28 | 蒋文明; 宋胜; 蔡志浩 |
| 本发明属于化学镀前处理技术领域，具体涉及一种新型膨松剂及其制备方法。膨松剂以质量浓度计，包括以下组分：醇醚类40‑50g/L；醇类15‑20g/L；碱30‑40g/L；无机多元酸2‑4g/L；余量为去离子水。本发明新型膨松剂以醇醚类为溶剂，在低溶剂条件下，短时间内在较低的操作温度下就能达到传统膨松剂的咬蚀能力，解决了新型材料咬蚀量不足和容易造成孔壁分离以及高浓度碱条件下槽液的澄清和与醇醚类膨松剂互溶的问题，该新型膨松剂的制备及使用成本经济、安全环保，可用于各种基材的处理，适用性广。 | ||||||
| 20 | 一种基于无水乙醇的高闪点电焊清洗剂 | CN201910170011.7 | 2019-03-07 | CN111662790B | 2021-10-01 | 王永强; 曹竹; 诸勇 |
| 本发明涉及电网维护技术领域，具体涉及一种基于无水乙醇的高闪点电焊清洗剂，由以下重量份的原料组成：无水乙醇14份；三氯乙烯10份；磷酸三乙酯21份；稳定剂6份，其中稳定剂由聚乙烯醇、聚丙烯酰胺和叔丁基对苯二酚按照质量比为5:2:3混合而成；皂化剂3份，皂化剂由三乙醇胺和脂肪醇聚氧乙烯醚按照质量比为3:2混合而成；蒸馏水62份。本发明具有闪点高、清洗效果好以及经济可靠的优点。 | ||||||
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