一种耐磨损高硬度粉末冶金气门座的制备方法
专利汇可以提供一种耐磨损高硬度粉末冶金气门座的制备方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 涉及一种耐磨损高硬度粉末 冶金 气 门 座的制备方法，应用多弧离子 镀 （AIP）设备，将炉内 温度 控制在100-300℃，采用多弧离子镀多层纳米膜制备工艺，在气门座工作表面生成氮化铬、氮化 钛 相间层叠而成的多元多层纳米膜涂层。制备方法： 基础 粉末采用高压 水 雾化制备的低 合金 粉末，在自动粉末成型机进行 压制成型 ，之后置入 推杆 式 烧结 炉，在 氨 分解气氛中进行烧结。采用 铜 溶浸工艺，再将烧结坯置入多弧离子镀（AIP）设备进行涂层处理，产品 薄膜 多层化及添加其它元素。本发明制得的产品具有优良的结合强度，表面显微硬度、耐磨、高硬度，且可大幅度延长使用寿命。，下面是一种耐磨损高硬度粉末冶金气门座的制备方法专利的具体信息内容。
1.一种耐磨损高硬度粉末冶金气门座的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
①选择经过高压水雾化低合金粉末为基础粉末，在自动粉末成型机上进行压制成型，得到气门座生坯；
②将压制成型的气门座生坯置入推杆式烧结炉，在氨分解气氛中进行烧结，烧结温度
1100-1500℃，烧结时间50-60分钟，得到气门座预烧结坯；所述气门座预烧结坯包括以下组分：C：0.7-1.2 wt%，Cr：0.3-1.2 wt%，Mo ：0.5 -1.6 wt%，Ni：0.4 -1.5 wt%，Co：0.2-0.5 wt%，Cu：10-16 wt%，纳米Fe：0.1-0.3 wt%，余量为Fe；
③将制得的气门座预烧结坯置入多弧离子镀AIP设备进行涂层处理，将多弧离子镀AIP设备的炉内温度控制在100-300℃，采用多弧离子镀多层纳米膜制备工艺，在气门座预烧结坯工作表面生成氮化铬、氮化钛相间层叠而成的多元多层纳米膜涂层，得到耐磨损高硬度粉末冶金气门座，具有12个靶位。
2.根据权利要求1所述的耐磨损高硬度粉末冶金气门座的制备方法，其特征在于：步骤①中，选择经过高压水雾化低合金粉末为基础粉末，再添加合金粉，经过混料机40-50分钟混合均匀，在自动粉末成型机上进行压制成型，得到气门座生坯。
3.根据权利要求1所述的耐磨损高硬度粉末冶金气门座的制备方法，其特征在于：步骤③中，所述耐磨损高硬度粉末冶金气门座的纳米膜表面显微硬度，即HV（0.050）为1500-3000，纳米膜总厚6-25um，纳米膜共计11-21层，纳米膜基结合力为≥40N。
4.根据权利要求1所述的耐磨损高硬度粉末冶金气门座的制备方法，其特征在于：步骤③中，气门座预烧结坯置在多弧离子镀AIP设备的炉内，炉内温度控制在100-300℃，阴极材料采用钛、铬，反应气体为氮气和碳氢化合物气体，炉内为真空室，真空室接地作阳极，真空室内采用真空弧光放电，在阴极材料表面产生多弧光辉点，使阴极材料蒸发，形成原子和离子；在电场作用下，原子和离子高速轰击气门座预烧结坯工作表面，与此同时，高真空室通入反应气体，即可在气门座预烧结坯工作表面生成氮化铬、氮化钛相间层叠而成的多元多层纳米膜涂层。
5.根据权利要求1或4所述的耐磨损高硬度粉末冶金气门座的制备方法，其特征在于：
步骤③中，纳米膜涂层为单层膜TiN或CrN相间层叠而成的的多元多层纳米膜涂层，具有12个靶位。
一种耐磨损高硬度粉末冶金气门座的制备方法
技术领域
背景技术
发明内容
②将压制成型的气门座生坯置入推杆式烧结炉，在氨分解气氛中进行烧结，烧结温度
1100-1500℃，烧结时间50-60分钟，得到气门座预烧结坯；采用铜溶浸工艺，使气门座预烧结坯密度≥7.6g/㎝3，气门座预烧结坯硬度HRC≥35；所述气门座预烧结坯包括以下组分：
C：0.7-1.2 wt%，Cr：0.3-1.2 wt%，Mo ：0.5 -1.6 wt%，Ni：0.4 -1.5 wt%，Co：0.2-0.5 wt%，Cu：10-16 wt%，纳米Fe：0.1-0.3 wt%，余量为Fe；
③将制得的气门座预烧结坯置入多弧离子镀AIP设备进行涂层处理，将多弧离子镀AIP设备的炉内温度控制在100-300℃，采用多弧离子镀多层纳米膜制备工艺，在气门座预烧结坯工作表面生成纳米膜涂层，得到耐磨损高硬度粉末冶金气门座。
②将压制成型的气门座生坯置入推杆式烧结炉，在氨分解气氛中进行烧结，烧结温度
1100-1500℃，烧结时间50-60分钟；采用铜溶浸工艺；所述烧结坯包括以下组分（wt%）：C：
0.7-1.2，Cr：0.3-1.2，Mo ：0.5 -1.6，Ni：0.4 -1.5，Co：0.2-0.5，Cu：10-16，纳米Fe：0.1-
0.3，余量为Fe；③将制得的气门座预烧结坯置入多弧离子镀AIP设备进行涂层处理，将炉内温度控制在100-300℃，阴极材料采用钛、铬金属，反应气体为氮气，真空室接地作阳极，真空室内采用真空弧光放电，在阴极材料表面产生多弧光辉点，使阴极材料蒸发，形成原子和离子；在电场作用下，原子和离子高速轰击气门座工作表面，与此同时，高真空室通入反应气体，即可在气门座工作表面生成多元多层纳米膜涂层。
具体实施方式
②将压制成型的气门座生坯置入推杆式烧结炉，在氨分解气氛中进行烧结，烧结温度
1100-1500℃，烧结时间50-60分钟，得到气门座预烧结坯；采用铜溶浸工艺，使气门座预烧
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结坯密度≥7.6g/㎝ ，气门座预烧结坯硬度HRC≥35；所述气门座预烧结坯包括以下组分：
C：0.7-1.2 wt%，Cr：0.3-1.2 wt%，Mo ：0.5 -1.6 wt%，Ni：0.4 -1.5 wt%，Co：0.2-0.5 wt%，Cu：10-16 wt%，纳米Fe：0.1-0.3 wt%，余量为Fe；
③将制得的气门座预烧结坯置入多弧离子镀AIP设备进行涂层处理，将多弧离子镀AIP设备的炉内温度控制在100-300℃，采用多弧离子镀多层纳米膜制备工艺，在气门座预烧结坯工作表面生成氮化铬、氮化钛相间层叠而成的多元多层纳米膜涂层，得到耐磨损高硬度粉末冶金气门座。
3000，纳米膜总厚6-25um，纳米膜共计11-21层，纳米膜基结合力为≥40N。步骤③中，气门座预烧结坯置在多弧离子镀AIP设备的炉内，炉内温度控制在100-300℃，阴极材料采用钛、铬，反应气体为氮气和碳氢化合物气体，真空室接地作阳极，真空室内采用真空弧光放电，在阴极材料表面产生多弧光辉点，使阴极材料蒸发，形成原子和离子；在电场作用下，原子和离子高速轰击气门座预烧结坯工作表面，与此同时，高真空室通入反应气体，即可在气门座预烧结坯工作表面生成氮化铬、氮化钛相间层叠而成的多元多层纳米膜涂层。步骤③中，纳米膜涂层为单层膜TiN或CrN，具有12个靶位。
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