近年的平板显示器(液晶、PDP、EL、FED等)半导体、印刷电 路衬底、薄膜、电子设备部件等的先进的高精度化显著，特别是 在平板显示器的制造工艺、高集成半导体器件的制造工艺中，必 须要求更高超精密清洗。
另外，伴随图案的微细化、高集成化，所处理的液晶玻璃、 PDP玻璃、硅片的尺寸增加，目前的现状是在液晶玻璃的场合， 其尺寸向1870×2200mm发展，在PDP玻璃的场合，其尺寸向2150 ×2350mm发展，在硅片的场合，其直径向300mm发展，但是， 清洗占全部步骤的40～60％，其是对提高产品合格率起重要的作 用的步骤。
然而，在过去，人们未提供可有效去除有机物、颗粒的清洗 方法。
即，过去的清洗方法采用刷清洗、超声波清洗、高压喷射清 洗、喷淋清洗、双流体清洗、化学清洗等，但是，首先，在刷清 洗的场合，具有下述的问题，即，比如，在被清洗物为大而薄的 玻璃的场合，即使在进行刷的自动控制的情况下，仍难于均匀地 去除颗粒，另外，伴随刷的磨耗、刷的调整的方式，在刷清洗后， 呈现清洗斑迹。
此外，在超声波清洗的场合，具有下述的问题，即，由于伴 随频率，所去除的颗粒的大小不同，故必须配备多个超声波清洗 机，另外，在同一部分，未施加3分钟以上的振动，颗粒未剥离， 所以装置变长。
还有，在高压喷射清洗、喷淋喷射清洗、双流体清洗的场合， 具有下述的问题，即，由于连续地将液体与被清洗物接触，液体 膜形成于被清洗物上，在液体膜妨碍的情况下吸收清洗液的冲击 能量。另外，在高压喷射清洗的场合，还具有因被清洗物而开裂 的情况，另外，在喷淋喷射清洗的场合，人们认为具有液体形成 液体膜，由此，不希望去除较多的颗粒的问题。
再有，在通过化学清洗去除有机物的场合，人们认为具有必 须在常温或提高温度的状态，清洗药品，然后，对该药品进行水 洗，步骤较多的问题。

于是，本发明的课题在于提供可不加大清洗装置的尺寸，确 实去除附着于晶片、玻璃、金属等上的有机物、异物的清洗方法 和用于实施该清洗方法的清洗装置。
本发明的清洗方法的特征在于对通过对液体进行加热而生成 的蒸汽进一步加热，由此，生成亚临界的放射性气体，并且将上 述放射性气体吹到通过运送机构运送的被清洗物上，用于实现该 方法的本发明的清洗装置的特征在于其包括放射性气体生成机 构，该放射性气体生成机构包括第1加热机构和第2加热机构， 该第1加热机构用于对液体加热，生成蒸汽，该第2加热机构用 于通过对由第1加热机构生成的蒸汽进一步加热，制造亚临界的 放射性气体；气体喷射机构，该气体喷射机构用于将通过上述放 射性气体生成机构制造的放射性气体喷射到被清洗物上。
本发明所述的清洗方法的特征在于对通过对液体进行加热而 生成的蒸汽进一步加热，由此，生成亚临界的放射性气体，并且 将清洗液供给到通过运送机构运送的被清洗物上，在该被清洗物 上形成清洗液的膜，将上述放射性气体从该清洗液的膜上吹到被 清洗物上。用于实现该方法的本发明的清洗装置的特征在于其包 括放射性气体生成机构，该放射性气体生成机构包括第1加热机 构和第2加热机构，该第1加热机构用于对液体加热，生成蒸汽， 该第2加热机构用于通过对由第1加热机构生成的蒸汽进一步加 热，制造亚临界的放射性气体；清洗水供给机构，该清洗水供给 机构用于在被清洗物上形成清洗液的膜；气体喷射机构，该气体 喷射机构用于通过借助上述清洗水供给机构形成的清洗液的膜， 将通过上述放射性气体生成机构制造的放射性气体喷射到被清洗 物上。
本发明的清洗方法的特征在于对通过对液体进行加热而生成 的蒸汽进一步加热，由此，生成亚临界的放射性气体，并且将清 洗液供给到通过运送机构运送的被清洗物上，在该被清洗物上形 成清洗液的膜，将上述放射性气体从该清洗液的膜上吹到被清洗 物上，然后，在该被清洗物上间歇地吹高压水。用于实现该方法 的本发明的清洗装置的特征在于其包括放射性气体生成机构，该 放射性气体生成机构包括第1加热机构和第2加热机构，该第1 加热机构用于对液体加热，生成蒸汽，该第2加热机构用于通过 对由第1加热机构生成的蒸汽进一步加热，制造亚临界的放射性 气体；清洗水供给机构，该清洗水供给机构用于在被清洗物上形 成清洗液的膜；气体喷射机构，该气体喷射机构用于通过借助上 述清洗水供给机构形成的清洗液的膜，将通过上述放射性气体生 成机构制造的放射性气体喷射到被清洗物上；高压水喷射机构， 该高压水喷射机构用于在通过该气体喷射机构而喷射了上述放射 性气体的被清洗物上，间歇地吹高压水。
根据采用本发明人的实验而知道，如果将对通过加热液体产 生的蒸汽进一步加热而获得的亚临界的放射性气体吹到被清洗物 上，则可容易去除附着于被清洗物上的油分、颗粒等。由此，按 照将对通过加热液体产生的蒸汽进一步加热而获得的放射性气体 吹到被清洗物上的本发明，可在不采用药品的情况下，去除附着 于被清洗物上的有机物、颗粒。另外，由于本发明所采用的亚临 界的放射性气体仅仅通过按照该液体的临界温度左右的温度，对 通过加热液体而生成的蒸汽进行加热的方式制造，故与制造超临 界的气体的场合不同，可在不对液体施加压力的情况下制造，还 可抑制成本。
另外，此时，清洗液在被清洗物上流动，在该被清洗物上形 成清洗液的膜，从该膜上，将上述气体吹到被清洗物上，由此， 还可防止直接吹高温的气体而造成的被清洗物的表面变质等。
此外，象这样，在从清洗液的膜上吹气体的被清洗物上，间 歇地吹高压的水，由此，可更加有效地去除附着于被清洗物上的 异物。
附图说明
图1为用于说明本发明的清洗方法的实施例的流程图；
图2为用于说明本发明的清洗装置的实施例的构思的方框图；
图3为用于说明本发明的清洗装置的实施例所采用的放射性 气体生成机构的图；
图4为用于说明本发明的清洗装置的实施例所采用的气体喷 射机构的图；
图5为用于说明本发明的清洗装置的实施例所采用的气体喷 射机构和清洗水供给机构的关系的图；
图6为用于说明本发明的清洗装置的实施例的作用的图；
图7为用于说明本发明的清洗方法的另一实施例的流程图；
图8为用于说明本发明的清洗装置的还一实施例的构思的方 框图；
图9为用于说明本发明的清洗装置的又一实施例的作用的图。

下面参照附图，对本发明的优选实施例进行描述。
按照本发明的清洗方法，首先通过对水、液化碳酸等的液体 进行加热，形成蒸汽，接着，按照接近形成对象的液体的临界温 度的温度对该蒸汽进一步加热，由此，制造亚临界的放射性气体。
然后，首先，使纯水等的清洗液在通过运送机构运送的被清 洗物上流动，在该被清洗物上形成清洗液的膜，然后，从该清洗 液的膜上，向被清洗物吹上述放射性气体。
接着，适当地向吹了放射性气体的被清洗物，呈喷淋状并且 间歇地吹高压的水。
然后，在本发明的清洗装置中，具有用于制造水蒸气的第1 加热机构，用于对通过第1加热机构制作的水蒸气进一步加热的 第2加热机构与该第1加热机构连接，该第1加热机构和第2加 热机构构成放射性气体制造机构。
另外，在该放射性气体制造机构上，连接有气体喷射机构， 该气体喷射机构向被清洗物喷射已制造的放射性气体，该气体喷 射机构按照在使用时可向运送机构上的被清洗物喷射气体的方式 设置。
此外，在本发明的清洗装置中，具有清洗水供给机构，该清 洗水供给机构用于使纯水等的清洗液在通过运送机构运送的被清 洗物上流动，在该被清洗物上形成清洗液的膜，该清洗水供给机 构设置于相对上述气体喷射机构的相反运送的方向侧，由此，可 在于被清洗物上形成清洗液的膜的状态，将上述放射性气体喷射 到该被清洗物上。
在这里，在相对上述气体喷射机构的运送方向侧，可设置高 压水喷射机构，该高压水喷射机构用于向吹了放射性气体的被清 洗物呈喷淋状且间歇地吹高压水，由此，可更加有效地去除附着 被清洗物上的异物。
实施例1
下面参照附图，对本发明的清洗装置的实施例进行描述，图1 为用于说明本实施例的流程图，在本实施例的清洗方法中，首先 在步骤1，通过对液体进行加热，生成蒸汽。
另外，并不特别限于蒸汽的生成方法，可采用比如锅炉、感 应加热方法等。另外，最好，液体为水、液化碳酸等。
接着，在步骤2，进一步对上述已生成的蒸汽进行加热，由此， 制造放射性气体。另外，所加热的温度可为接近所采用的液体的 临界温度的温度，于是，在采用水的场合，可形成约370度以上 的高温，另外，在采用液化碳酸的场合，可处于31度以上的温度。
即，根据本发明人的试验而知道，如果象这样，将对液体进 行加热而生成的蒸汽进一步加热到接近该液体的临界温度的温 度，则将蒸汽分解成分子程度，变化为超临界状态的亚临界的放 射性气体，将该放射性气体吹到被清洗物上，由此，可有效地去 除附着于被清洗物上的有机物、颗粒。于是，按照本实施例的清 洗方法，在对水、液化碳酸等的液体进行加热，生成蒸汽后，进 一步将该蒸汽加热到接近所采用的液体的临界温度的温度，将象 这样产生的亚临界的放射性气体吹到被清洗物上，由此，可去除 附着于被清洗物上的有机物、颗粒等。
即，在步骤3，通过传送机等的运送机构，将被清洗物运送到 规定位置，然后，在步骤4，使清洗液在已运送的被清洗物上流动， 由此，在被清洗物上形成清洗液的膜。另外，清洗液的种类是不 限定的，但是，最好为在比如，纯水中、混合微量的界面活性剂 等的液体。
接着，在步骤5，将已制造的放射性气体从清洗液的膜上，吹 到被清洗物上，这样，去除附着于被清洗物上的有机物、颗粒等。
如果象这样，则可根据亚临界的放射性气体的热运动和高浸 透性，容易去除附着被清洗物上的有机物、颗粒等。
另外，此时，按照本实施例的清洗方法，首先使清洗液在被 清洗物上流动，在被清洗物上形成清洗液的膜，通过该膜，将上 述放射性气体吹到被清洗物上，由此，还可防止因直接吹高温的 放射性气体而造成的被清洗物的表面变质等情况。
但是，不必一定在被清洗物上形成清洗液的表面膜。即，在 本实施例中，通过将对液体加热而生成的蒸汽加热到接近上述液 体的临界温度的温度，由此，制造亚临界的放射性气体，但是， 由于液化碳酸的场合的临界温度较低而为31度左右，在此场合， 即使在直接将该放射性气体吹到被清洗物上的情况下，仍不产生 被清洗物的表面变质等情况，这样，不必在被清洗物上形成清洗 液的表面膜。
实施例2
下面参照附图，对实施这样的清洗方法用的本发明的清洗装 置的实施例进行描述，图2为本实施例的清洗装置的示意图，在 本实施例的清洗装置1中，具有放射性气体生成机构，该放射性 气体生成机构首先使水、液化碳酸等的液体变为蒸汽，并且进一 步对该蒸汽进行加热，制作亚临界的放射性气体。即，图2中标 号1表示本实施例的清洗装置，图2中的标号2表示放射性气体 生成机构。
另外，上述放射性气体生成机构2包括第1加热机构3，该第 1加热机构3用于使通过供水管301供给的水、液化碳酸等的液体 变为蒸汽，在本实施例中，第1加热机构3采用锅炉。但是，不 必一定采用锅炉，使液体变为蒸汽，也可通过感应加热，对液体 进行加热，变为蒸汽。
此外，在第1加热机构3中，具有第2加热机构4，该第2 加热机构4用于进一步对通过第1加热机构3产生的蒸汽进行加 热。另外，在本实施例中，该第2加热机构4为感应加热器。
即，图3为表示该感应加热器4的图，该第2加热机构4在 不锈钢等的金属管401的内部，具有金属制的发热体402，在本实 施例中，该发热体402采用金属制，更具体地说，采用不锈钢制 的板呈蜂窝状的蜂窝板，多个发热体402接纳于金属管401的内 部。
还有，伴随上述动作，在上述金属管401的外周部，卷绕工 作线圈403。另外，在该方案中，电流流过工作线圈403，由此， 在工作线圈403的周围，产生磁场，并且在作为发热体的蜂窝板 402中产生涡电流，由此，使发热体402发热。接着，伴随发热体 402的发热，沿图中的箭头方向，使蒸汽运动，由此，在金属管 401的内部，可制造亚临界的放射性气体。
再有，在图2中的标号5表示为气体喷射机构，该气体喷射 机构5用于喷射通过上述放射性气体生成机构2生成的放射性气 体，该气体喷射机构5在使用时，设置于运送被清洗物的传送机 等的运送机构的上方，由此，可将上述放射性气体喷射到已运送 的被清洗物上。
在这里，图4为表示朝向上述气体喷射机构5的纵向的结构 的端面图，在本实施例中，上述气体喷射机构也象图5所示的那 样，呈长条形状，在其内部，形成气体流路501，在沿纵向的侧壁 上，形成多个气体供给口502，该气体供给口502按照等间距设置， 与上述气体流路501连通，上述第2加热机构4与该气体供给口 502连接。
另外，沿纵向，在底端部形成与上述气体流路501连通的狭 槽503，由此，可通过狭槽503，喷射通过气体供给口502，供给 气体流路501的放射性气体。
此外，图2中的标号6表示清洗水供给机构，该清洗水供给 机构用于将纯水、液化碳酸等的清洗液供给到被清洗物上，在本 实施例中，其特征在于通过该清洗水供给机构6，首先在通过运送 机构运送的被清洗物上，形成清洗液的膜。
在这里，图5为表示上述气体喷射机构5和清洗水供给机构6 之间的位置关系的图，在图的标号7表示被清洗物，另外，标号 802表示用于运送该被清洗物7的，设置于运送机构上的滚轴。
还有，在本实施例的清洗装置1中，首先，在被清洗物7移 动一侧，设置清洗水供给机构6，在从该清洗水供给机构6看到的 被清洗物的移动方向侧，设置气体喷射机构5。另外，可通过该设 置，在被清洗物7上，形成清洗液的膜，通过该膜，向被清洗物 喷射放射性气体。
此外，图中的标号9表示设置于清洗水供给机构6和气体喷 射机构5之间的分隔板。即，在本实施例中，在清洗水供给机构6 和气体喷射机构5之间，设置分隔板9，并且该分隔板9的前端部 基本呈锐角状，按照可在分隔板9的前端和被清洗物之间，形成 稍小的空间的方式设置分隔板9。如果象这样形成，则从清洗水供 给机构6，供给到被清洗物7上的清洗液首先存留于分隔板9的这 一侧，伴随被清洗物7的移动，通过与清洗物7之间的空间，流 向气体喷射机构5，由此，可在被清洗物7上，均匀地形成清洗液 的膜。另外，在本实施例中，按照形成于被清洗物7上的膜厚在 0.1～1mm的范围内的方式，调整分隔板9的前端的位置。但是， 也可不必一定要求该分隔板9，可在被清洗物7上形成清洗液的膜 10。于是，也可使清洗液直接从清洗水供给机构6下落到被清洗 物上，或还可在清洗水供给机构6和被清洗物之间，以可旋转的 方式介设有滚轴，首先，使清洗液落到滚轴上，伴随滚轴的旋转， 使落于滚轴上的清洗液落于被清洗物上，由此，在该被清洗物上 形成清洗液的膜。
接着，参照图6，对象这样构成的实施例的清洗装置1的作用 进行描述，在通过本实施例的清洗装置1，进行被清洗物的清洗的 场合，在将被清洗物7放置于运送机构8上的状态，驱动运送机 构8，运送被清洗物7。
此外，运送机构8的结构等不是特别限定的，但是，在本实 施例中，其包括壳体801、以可旋转的方式设置于该壳体801上的 多根运送用滚轴802、用于旋转该运送用滚轴802的电动机等的驱 动机构(图中未示出)，通过驱动该驱动机构，使滚轴802旋转，由 此，可运送放置于滚轴802上的被清洗物。
另外，通过这样的运送机构8，运送被清洗物，接着，通过清 洗水供给机构6，供给清洗液，更具体地说，呈喷淋状，将清洗液 喷射到被清洗物7上。如果象这样形成，则首先，已供给的清洗 液存留于分隔板9的这一侧，并且通过与被清洗物7之间的空间， 伴随被清洗物的运送，向气体喷射机构5侧渗透，伴随该情况， 被清洗物7在于其形成清洗液的膜10的状态，运送到气体喷射机 构5的附近。
另一方面，在放射性气体生成机构2中，首先，在第1加热 机构3中，已供给的液体变为蒸汽，另外，该蒸汽在第2加热机 构4中受到加热，由此，生成亚临界的放射性气体。
还有，通过气体喷射机构5将该放射性气体喷射到在形成有 清洗液的膜的状态运送的被清洗物7上。如果象这样形成，则通 过已喷射的放射性气体，对清洗液进行加热，将附着于被清洗物 上的有机物、颗粒等的异物去除。
如果象这样，采用本实施例的清洗装置1，则不必要求特别大 的设备，可采用对蒸汽进一步加热而获得的亚临界的放射性气体， 对该被清洗物清洗。
另外，清洗水供给机构6和分隔板9不是一定必需的，在不 必在被清洗物上形成清洗液的膜的场合，不必设置清洗水供给机 构6和分隔板9。
实施例3
下面参照图7的流程图，对本发明的清洗方法的还一实施例 进行描述，本实施例的清洗方法的特征在于在前述的清洗方法的 实施例的步骤后，还朝向被清洗物间歇地喷射高压水。
即，在步骤11，通过对液体进行加热，生成蒸汽，在步骤12， 对上述已生成的蒸汽进行进一步加热，制造放射性气体，另一方 面，在步骤13，通过传送机等的运送机构，将被清洗物运送到规 定位置，然后，在步骤14，使清洗液淋到已运送的被清洗物上， 在该被清洗物上形成清洗液的膜，在步骤15，从清洗液的膜上将 上述制造的放射性气体吹到被清洗物上，然后，在步骤16，向吹 了该放射性气体之后的被清洗物喷射高压水。
接着，在喷射高压水时，其特征在于按照喷淋的方式，并且 间歇地喷射高压水。
如果象这样，采用本实施例的清洗方法，由于在前述的清洗 方法的实施例的基础上，还对被清洗物，按照间歇并且喷淋的方 式喷射高压水，故可更加有效地去除附着于被清洗物上的异物。
下面对用于实现这样的清洗方法的清洗装置的实施例进行描 述，图8为本实施例的清洗装置11的示意图，另外，图9为表示 构成本实施例的清洗装置1的要素的位置关系的图。另外，在本 实施例的清洗装置1中，在前述的清洗装置的实施例中，还设置 高压水喷射机构12，该高压水喷射机构12用于向通过气体喷射机 构5喷射了放射性气体的被清洗物7吹高压水。
即，图中的标号12表示高压水喷射机构，该高压水喷射机构 12相对上述气体喷射机构5，沿被清洗物7的运送方向设置，通 过高压水供给管1201，与图中未示出的高压水供给用泵连接。另 外，在前端部，设置扩大地喷射高压水的多个喷嘴，由此，向吹 有放射性气体的被清洗物，以喷淋且间歇的方式喷射高压水。
另外，间歇地喷射高压水的方法并不是特别限定的，但是， 比如，可采用按照一定间距开设有较小的通孔的旋转件，将该旋 转件设置于高压水的通过流路内，使旋转件旋转，同时供给高压 水，由此，可在孔位于高压水的通过流路内时，喷射高压水，于 是，可间歇地喷射高压水。
象这样，通过采用本实施例的清洗装置，可实施前述的清洗 方法。
此外，本实施例的清洗装置的特征在于在前述的清洗装置的 实施例的基础上，还添加高压水喷射机构11，除了该高压水喷射 机构12以外的部分的结构、作用等与前述的清洗装置的实施例相 同，重复的描述省略，并且对于同一部分，采用同一标号。
本发明的清洗方法和清洗装置采用对蒸汽进一步加热而获得 的亚临界的放射性气体，在被清洗物上形成清洗液的膜，同时通 过该膜，将上述放射性气体吹到被清洗物上，由此，可去除附着 于被清洗物上的有机物、颗粒等，这样，不仅可用于液晶板制造、 PDP板制造、有机EL板制造、FED板制造、印刷电路衬底制造、 半导体制造、薄膜制造、版制造以及其它的电子设备部件等的制 造步骤，还可用于全部的清洗步骤。