1.一种等离子体制程室用的气体分配板组件，其至少包含：
一扩散板元件，其具有一上游侧与一凹面的下游侧；及
内部及外部气体通道，其是位于该扩散板元件的上游侧与下游侧之间，每个气体通道具有：
开口孔洞，具有第一直径；以及
中空阴极腔，它是所述开口孔洞的下游并位于所述下游侧；所述中空阴极腔具有圆锥形或圆柱体形的形状和位于所述下游侧的大于所述第一直径的第二直径，该圆锥形或圆柱体形的第二直径或深度或该二者的组合是自该扩散板元件的中央往边缘逐步增加，且该内部气体通道的中空阴极腔的大小小于该外部气体通道的中空阴极腔的大小。
2.如权利要求1所述的气体分配板组件，其特征在于该第二直径是介于0.1英寸至
1.0英寸间。
3.如权利要求1所述的气体分配板组件，其特征在于该第二直径是介于0.1英寸至
0.5英寸间。
4.如权利要求1所述的气体分配板组件，其特征在于该圆锥形或圆柱体形的深度是介于0.1英寸至2.0英寸间。
5.如权利要求1所述的气体分配板组件，其特征在于该圆锥形或圆柱体形的深度是介于0.1英寸至1.0英寸间。
6.如权利要求1所述的气体分配板组件，其特征在于该圆锥形中的展开角度是介于10度至50度之间。
7.如权利要求1所述的气体分配板组件，其特征在于该圆锥形的展开角度是介于20度至40度之间。
8.如权利要求1所述的气体分配板组件，其特征在于该第二直径是介于0.1英寸至
1.0英寸间，该圆锥形或圆柱体形的深度是介于0.1英寸至2.0英寸间，且该圆锥形的展开角度是介于10度至50度之间。
9.如权利要求1所述的气体分配板组件，其特征在于相邻气体通道的中空阴极腔的下游端之间的空间距离至多为0.6英寸。
10.如权利要求1所述的气体分配板组件，其特征在于该扩散板元件的厚度是介于0.8英寸至3.0英寸间。
11.如权利要求1所述的气体分配板组件，其特征在于该扩散板元件是长方形。
12.如权利要求11所述的气体分配板组件，其特征在于该扩散板元件的大小至少为
1,200,000平方毫米。
13.如权利要求1所述的气体分配板组件，其特征在于每个气体通道还包括：
从所述上游侧延伸至所述开口孔洞的第一钻孔，该第一钻孔具有大于所述第一直径的第三直径以及尖形、斜面的、斜角的或圆形的底部；以及
中空阴极腔的尖形、斜面的、斜角的或圆形的表面耦接至所述开口孔洞。
14.如权利要求1所述的气体分配板组件，其特征在于该开口孔洞的形状促进通过它的气体的均匀流动。
15.如权利要求1所述的气体分配板组件，其特征在于该开口孔洞在所述内部及外部气体通道之中均匀地配置。
16.如权利要求1所述的气体分配板组件，其特征在于该开口孔洞在所述内部及外部气体通道之中不均匀地配置。
17.一种等离子体制程室用的气体分配板组件，其至少包含：
一扩散板元件，其具有一上游侧与一下游侧；及
内部及外部气体通道，其是位于该扩散板元件的上游侧与下游侧之间，每个气体通道具有：
开口孔洞，具有第一直径；以及
中空阴极腔，它是所述开口孔洞的下游并位于所述下游侧；所述中空阴极腔具有圆锥形或圆柱体形的形状和位于所述下游侧的大于所述第一直径的第二直径，该圆锥形或圆柱体形的第二直径或深度或该二者的组合是自该扩散板元件的中央往边缘逐步增加，且该内部气体通道的中空阴极腔的表面积密度低于该外部气体通道的中空阴极腔的表面积密度。
18.如权利要求17所述的气体分配板组件，其特征在于该第二直径是介于0.1英寸至
1.0英寸间。
19.如权利要求17所述的气体分配板组件，其特征在于该第二直径是介于0.1英寸至
0.5英寸间。
20.如权利要求17所述的气体分配板组件，其特征在于该圆锥形或圆柱体形的深度是介于0.1英寸至2.0英寸间。
21.如权利要求17所述的气体分配板组件，其特征在于该圆锥形或圆柱体形的深度是介于0.1英寸至1.0英寸间。
22.如权利要求17所述的气体分配板组件，其特征在于该圆锥形的展开角度是介于10度至50度之间。
23.如权利要求17所述的气体分配板组件，其特征在于该圆锥形的展开角度是介于20度至40度之间。
24.如权利要求17所述的气体分配板组件，其特征在于该第二直径是介于0.1英寸至
1.0英寸间，该圆锥形或圆柱体形的深度是介于0.1英寸至2.0英寸间，且该圆锥形的展开角度是介于10度至50度之间。
25.如权利要求17所述的气体分配板组件，其特征在于相邻气体通道的中空阴极腔的下游端之间的空间距离至多为0.6英寸。
26.如权利要求17所述的气体分配板组件，其特征在于该扩散板元件的厚度是介于
0.8英寸至3.0英寸间。
27.如权利要求17所述的气体分配板组件，其特征在于该扩散板元件是长方形。
28.如权利要求27所述的气体分配板组件，其特征在于该扩散板元件的大小至少为
1,200,000平方毫米。
29.如权利要求17所述的气体分配板组件，其特征在于每个气体通道还包括：
从所述上游侧延伸至所述开口孔洞的第一钻孔，该第一钻孔具有大于所述第一直径的第三直径以及尖形、斜面的、斜角的或圆形的底部；以及
中空阴极腔的尖形、斜面的、斜角的或圆形的表面耦接至所述开口孔洞。
30.如权利要求17所述的气体分配板组件，其特征在于该开口孔洞的形状促进通过它的气体的均匀流动。
31.如权利要求17所述的气体分配板组件，其特征在于该开口孔洞在所述内部及外部气体通道之中均匀地配置。
32.如权利要求17所述的气体分配板组件，其特征在于该开口孔洞在所述内部及外部气体通道之中不均匀地配置。
33.一种等离子体制程室用的气体分配板组件，其至少包含：
一扩散板元件，其具有一上游侧与一下游侧；及
多个气体通道，其是位于该扩散板元件的上游侧与下游侧之间，每一气体通道具有：
开口孔洞，具有第一直径；以及
中空阴极腔，它是所述开口孔洞的下游并与该扩散板元件的下游侧相交；所述中空阴极腔具有圆锥形或圆柱体形的形状和位于所述下游侧的大于所述第一直径的第二直径，且该圆锥形或圆柱体形的第二直径或深度或该二者的组合是自该扩散板元件的中央往边缘逐步增加，并且该中空阴极腔的体积密度或该中空阴极腔的表面积密度从该扩散板元件的中央往边缘增加。
34.如权利要求33所述的气体分配板组件，其特征在于该中空阴极腔的表面积密度是介于10％至100％之间。
35.如权利要求33所述的气体分配板组件，其特征在于该中空阴极腔的表面积密度是介于30％至100％之间。
36.如权利要求33所述的气体分配板组件，其特征在于该第二直径是介于0.1英寸至
1.0英寸间。
37.如权利要求33所述的气体分配板组件，其特征在于该第二直径是介于0.1英寸至
0.5英寸间。
38.如权利要求33所述的气体分配板组件，其特征在于该圆锥形或圆柱体形的深度是介于0.1英寸至2.0英寸间。
39.如权利要求33所述的气体分配板组件，其特征在于该圆锥形或圆柱体形的深度是介于0.1英寸至1.0英寸间。
40.如权利要求33所述的气体分配板组件，其特征在于该圆锥形的展开角度是介于10度至50度之间。
41.如权利要求33所述的气体分配板组件，其特征在于该圆锥形的展开角度是介于20度至40度之间。
42.如权利要求33所述的气体分配板组件，其特征在于该第二直径是介于0.1英寸至
1.0英寸间，该圆锥形或圆柱体形的深度是介于0.1英寸至2.0英寸间，且该圆锥形的展开角度是介于10度至50度之间。
43.如权利要求33所述的气体分配板组件，其特征在于该扩散板元件的厚度是介于
0.8英寸至3.0英寸间。
44.如权利要求33所述的气体分配板组件，其特征在于该扩散板元件是长方形。
45.如权利要求44所述的气体分配板组件，其特征在于该扩散板元件的大小至少为
1,200,000平方毫米。
46.如权利要求33所述的气体分配板组件，其特征在于该开口孔洞的形状促进通过它的气体的均匀流动。
47.如权利要求33所述的气体分配板组件，其特征在于该开口孔洞在所述多个气体通道之中均匀地配置。
48.如权利要求33所述的气体分配板组件，其特征在于该开口孔洞在所述多个气体通道之中不均匀地配置。
49.一种等离子体制程室，其至少包含：
一扩散板元件，其具有一上游侧与一下游侧；
一RF电源，其是耦接至该扩散板元件；
内部及外部气体通道，其是位于该扩散板元件的上游侧与下游侧之间，每个气体通道具有：
开口孔洞，具有第一直径；以及
中空阴极腔，它是所述开口孔洞的下游并位于所述下游侧；所述中空阴极腔具有圆锥形或圆柱体形的形状和位于所述下游侧的大于所述第一直径的第二直径，该圆锥形或圆柱体形的第二直径或深度或该二者的组合是自该扩散板元件的中央往边缘逐步增加，且该内部气体通道的中空阴极腔的大小小于该外部气体通道的中空阴极腔的大小；以及一基板支撑器，其是邻近该扩散板元件的下游侧。
50.如权利要求49所述的等离子体制程室，其特征在于该第二直径是介于0.1英寸至
1.0英寸间。
51.如权利要求49所述的等离子体制程室，其特征在于该圆锥形或圆柱体形的深度是介于0.1英寸至2.0英寸间。
52.如权利要求49所述的等离子体制程室，其特征在于该圆锥形的展开角度是介于10度至50度之间。
53.如权利要求49所述的等离子体制程室，其特征在于该第二直径是介于0.1英寸至
1.0英寸间，该圆锥形或圆柱体形的深度是介于0.1英寸至2.0英寸间，且该圆锥形的展开角度是介于10度至50度之间。
54.如权利要求49所述的等离子体制程室，其特征在于相邻气体通道的中空阴极腔的下游端之间的空间距离至多为0.6英寸。
55.如权利要求49所述的等离子体制程室，其特征在于该扩散板元件的厚度是介于
0.8英寸至3.0英寸间。
56.如权利要求49所述的等离子体制程室，其特征在于该扩散板元件是长方形。
57.如权利要求56所述的等离子体制程室，其特征在于该扩散板元件的大小至少为
1,200,000平方毫米。
58.如权利要求49所述的等离子体制程室，其特征在于每个气体通道还包括：
从所述上游侧延伸至所述开口孔洞的第一钻孔，该第一钻孔具有大于所述第一直径的第三直径以及尖形、斜面的、斜角的或圆形的底部；以及
中空阴极腔的尖形、斜面的、斜角的或圆形的表面耦接至所述开口孔洞。
59.如权利要求49所述的等离子体制程室，其特征在于该开口孔洞的形状促进通过它的气体的均匀流动。
60.如权利要求49所述的等离子体制程室，其特征在于该开口孔洞在所述内部及外部气体通道之中均匀地配置。
61.如权利要求49所述的等离子体制程室，其特征在于该开口孔洞在所述内部及外部气体通道之中不均匀地配置。
62.一种等离子体制程室，其至少包含：
一扩散板元件，其具有一上游侧与一下游侧；
一RF电源，其是耦接至该扩散板元件；
内部及外部气体通道，其是位于该扩散板元件的上游侧与下游侧之间，每个气体通道具有：
开口孔洞，具有第一直径；以及
中空阴极腔，它是所述开口孔洞的下游并位于所述下游侧；所述中空阴极腔具有圆锥形或圆柱体形的形状和位于所述下游侧的大于所述第一直径的第二直径，且该圆锥形或圆柱体形的第二直径或深度或该二者的组合是自该扩散板元件的中央往边缘逐步增加，且该内部气体通道的中空阴极腔的表面积密度是低于该外部气体通道的中空阴极腔的表面积密度；及一基板支撑器，其是邻近该扩散板元件的下游侧。
63.如权利要求62所述的等离子体制程室，其特征在于该第二直径是介于0.1英寸至
1.0英寸间。
64.如权利要求62所述的等离子体制程室，其特征在于该圆锥形或圆柱体形的深度是介于0.1英寸至2.0英寸间。
65.如权利要求62所述的等离子体制程室，其特征在于该圆锥形的展开角度是介于10度至50度之间。
66.如权利要求62所述的等离子体制程室，其特征在于该第二直径是介于0.1英寸至
1.0英寸间，该圆锥形或圆柱体形的深度是介于0.1英寸至2.0英寸间，且该圆锥形的展开角度是介于10度至50度之间。
67.如权利要求62所述的等离子体制程室，其特征在于相邻气体通道的中空阴极腔的下游端之间的空间距离至多为0.6英寸。
68.如权利要求62所述的等离子体制程室，其特征在于该扩散板元件的厚度是介于
0.8英寸至3.0英寸间。
69.如权利要求62所述的等离子体制程室，其特征在于该扩散板元件是长方形。
70.如权利要求69所述的等离子体制程室，其特征在于该扩散板元件的大小至少为
1,200,000平方毫米。
71.如权利要求62所述的等离子体制程室，其特征在于每个气体通道还包括：
从所述上游侧延伸至所述开口孔洞的第一钻孔，该第一钻孔具有大于所述第一直径的第三直径以及尖形、斜面的、斜角的或圆形的底部；以及
中空阴极腔的尖形、斜面的、斜角的或圆形的表面耦接至所述开口孔洞。
72.如权利要求62所述的等离子体制程室，其特征在于该开口孔洞的形状促进通过它的气体的均匀流动。
73.如权利要求62所述的等离子体制程室，其特征在于该开口孔洞在所述内部及外部气体通道之中均匀地配置。
74.如权利要求62所述的等离子体制程室，其特征在于该开口孔洞在所述内部及外部气体通道之中不均匀地配置。
75.一种等离子体制程室，其至少包含：
一扩散板元件，其具有一上游侧与一下游侧；及
一RF电源，其是耦接至该扩散板元件；
多个气体通道，其是位于该扩散板元件的上游侧与下游侧之间，每个气体通道具有：
开口孔洞，具有第一直径；以及
中空阴极腔，它是所述开口孔洞的下游并位于所述下游侧；所述中空阴极腔具有圆锥形或圆柱体形的形状和位于所述下游侧的大于所述第一直径的第二直径，该圆锥形或圆柱体形的第二直径或深度或该二者的组合是自该扩散板元件的中央往边缘逐步增加，且该多个气体通道的中空阴极腔的表面积密度是由该扩散板元件的中央往边缘逐步增加；及一基板支撑器，其是邻近该扩散板元件的下游侧。
76.如权利要求75所述的等离子体制程室，其特征在于该多个气体通道的中空阴极腔的表面积密度是介于10％至100％之间。
77.如权利要求75所述的等离子体制程室，其特征在于位于该下游末端的第二直径是介于0.1英寸至1.0英寸间。
78.如权利要求75所述的等离子体制程室，其特征在于该圆锥形或圆柱体形的深度是介于0.1英寸至2.0英寸间。
79.如权利要求75所述的等离子体制程室，其特征在于该圆锥形的展开角度是介于10度至50度之间。
80.如权利要求75所述的等离子体制程室，其特征在于该第二直径是介于0.1英寸至
1.0英寸间，该圆锥形或圆柱体形的深度是介于0.1英寸至2.0英寸间，且该圆锥形的展开角度是介于10度至50度之间。
81.如权利要求75所述的等离子体制程室，其特征在于该扩散板元件的厚度是介于
0.8英寸至3.0英寸间。
82.如权利要求75所述的等离子体制程室，其特征在于该扩散板元件是长方形。
83.如权利要求82所述的等离子体制程室，其特征在于该扩散板元件的大小至少为
1,200,000平方毫米。
84.如权利要求75所述的等离子体制程室，其特征在于该开口孔洞的形状促进通过它的气体的均匀流动。
85.如权利要求75所述的等离子体制程室，其特征在于该开口孔洞在所述多个气体通道之中均匀地配置。
86.如权利要求75所述的等离子体制程室，其特征在于该开口孔洞在所述多个气体通道之中不均匀地配置。
87.一种等离子体制程室用的气体分配板组件，其至少包含：
一扩散板元件，其具有一上游侧与一下游侧其中该气体扩散板是被区分为多个同轴区域；及
多个气体通道，其是位于该扩散板元件的上游侧与下游侧之间，每个气体通道具有：
开口孔洞，具有第一直径；以及
中空阴极腔，它是所述开口孔洞的下游并位于所述下游侧；所述中空阴极腔具有圆锥形或圆柱体形的形状和位于所述下游侧的大于所述第一直径的第二直径，该圆锥形或圆柱体形的第二直径或深度或该二者的组合是自该扩散板元件的中央往边缘逐步增加，每一同轴区域中的气体通道均相同且每一同轴区域中气体通道的中空阴极腔的体积或表面积是由该扩散板元件的中央往边缘逐步增加。
88.如权利要求87所述的气体分配板组件，其特征在于该中空阴极腔具有介于10％至
100％之间的表面积密度。
89.如权利要求87所述的气体分配板组件，其特征在于该中空阴极腔的表面积密度介于30％至100％之间。
90.如权利要求87所述的气体分配板组件，其特征在于位于该第二直径介于0.1英寸至1.0英寸间。
91.如权利要求87所述的气体分配板组件，其特征在于位于该下游末端的圆锥形或圆柱体形的深度介于0.1英寸至2.0英寸间。
92.如权利要求87所述的气体分配板组件，其特征在于该圆锥形的展开角度是介于10度至50度之间。
93.如权利要求87所述的气体分配板组件，其特征在于该第二直径是介于0.1英寸至
1.0英寸间，该圆锥形或圆柱体形的深度是介于0.1英寸至2.0英寸间，且该圆锥形的展开角度是介于10度至50度之间。
94.如权利要求87所述的气体分配板组件，其特征在于位于该下游末端相邻气体通道的中空阴极腔间的距离至多0.6英寸。
95.如权利要求87所述的气体分配板组件，其特征在于该扩散板元件的厚度是介于
0.8英寸至3.0英寸间。
96.如权利要求87所述的气体分配板组件，其特征在于该扩散板元件是长方形。
97.如权利要求96所述的气体分配板组件，其特征在于该扩散板元件的大小至少为
1,200,000平方毫米。
98.如权利要求87所述的气体分配板组件，其特征在于该开口孔洞的形状促进通过它的气体的均匀流动。
99.如权利要求87所述的气体分配板组件，其特征在于该开口孔洞在所述多个气体通道之中均匀地配置。
100.如权利要求87所述的气体分配板组件，其特征在于该开口孔洞在所述多个气体通道之中不均匀地配置。
101.一种扩散板，包含：
一主体其具有一上表面及一底表面，所述底表面是有曲度的；
多个气体通道，其是位于该上表面与底表面之间，其中每个气体通道具有：
开口孔洞，具有第一直径；以及
中空阴极腔，它是所述开口孔洞的下游并与所述底表面相交；所述中空阴极腔是成圆锥形或圆柱体形的形状和位于所述下游侧的大于所述第一直径的第二直径，该圆锥形或圆柱体形的第二直径或深度或该二者的组合是自该扩散板元件的中央往边缘逐步增加，且该中空阴极腔的大小从该扩散板元件的中央往边缘增加；及
一外部区域及一内部区域，其中位于该外部区域之上表面与底表面之间的该主体是比位于该内部区域之上表面与底表面之间的该主体来得厚。
102.如权利要求101所述的扩散板，其特征在于该上表面是平坦。
103.如权利要求101所述的扩散板，其特征在于该开口孔洞的形状促进通过它的气体的均匀流动。
104.如权利要求101所述的扩散板，其特征在于该开口孔洞在所述多个气体通道之中均匀地配置。
105.如权利要求101所述的扩散板，其特征在于该开口孔洞在所述多个气体通道之中不均匀地配置。