一种ITO膜导电玻璃生产方法及一种真空旋涂设备
专利汇可以提供一种ITO膜导电玻璃生产方法及一种真空旋涂设备专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 涉及ITO 镀 膜 技术领域，尤其涉及一种ITO膜导电玻璃生产方法及一种 真空 旋涂 设备。所述真空旋涂设备包括真空室，真空室内设置有旋转台，旋转台上设置有玻璃夹具；所述真空室的右侧依次设置有一级干燥室和二级干燥室，使得ITO膜的膜厚更均匀，产品穿透率和阻抗特性更理想。，下面是一种ITO膜导电玻璃生产方法及一种真空旋涂设备专利的具体信息内容。
1.一种ITO膜导电玻璃生产方法，其特征在于，它包括如下步骤：
第一步，将大片玻璃切割成玻璃基片；
第二步，对玻璃基片进行磨边和倒角，并清除所产生的微粒；
第三步，对玻璃基片的表面进行研磨抛光处理；
第四步，以高精密洗净法完全洗净玻璃基片；
第五步，配置ITO膜凝胶：将一定量的铟溶解在浓酸盐中得到InCl3溶液，取出一定量的InCl3溶液，与乙酰丙酮按1:2—1:3的摩尔比混合搅拌得到透明溶液；再按透明溶液与乙二醇甲醚的质量比为80:5的比例加入乙二醇甲醚，在室温下搅拌，得到In溶胶；按In：
Sn质量比为25:2的比例加入SnCl4·5H2O，搅拌20min得到In-Sn溶胶，然后按In-Sn溶胶与聚乙二醇的质量比为80:20的比例加入聚乙二醇，静置40min得到ITO膜胶液；
第六步，将ITO膜胶液涂于玻璃基片的中心处；
第七步，将玻璃基片固定放置于真空旋涂设备的旋转台上进行旋转，旋转台位于真空旋涂设备的真空室内，旋转台转速为200rpm/min，旋转时间为80s，在玻璃基片的表面形成一层均匀的ITO凝胶；
第八步，根据ITO膜的厚度要求，重复第六步和第七步，形成多层ITO凝胶，以满足ITO膜的厚度要求；
第九步，将玻璃基片放置于真空旋涂设备的一级干燥室中，在85°C温度下干燥10~15分钟；
第十步，再将玻璃基片放置于真空旋涂设备的二级干燥室中，在150°C温度下热处理
10~15分钟，使得多层ITO凝胶形成ITO膜；
第十一步，检查并记录产品的穿透率和阻抗特性，并判断产品是否为良品，良品即包装起来。
2.一种真空旋涂设备，其特征在于：它包括真空室，真空室内设置有旋转台，旋转台上设置有玻璃夹具；所述真空室的右侧依次设置有一级干燥室和二级干燥室。
3.根据权利要求2所述的一种真空旋涂设备，其特征在于：它还包括穿透率检验室，透率检验室设置于二级干燥室的右侧。
4.根据权利要求3所述的一种真空旋涂设备，其特征在于：它还包括阻抗特性检验室，阻抗特性检验室设置于透率检验室的右侧。
一种ITO膜导电玻璃生产方法及一种真空旋涂设备
技术领域
背景技术
发明内容
第二步，对玻璃基片进行磨边和倒角，并清除所产生的微粒；
第三步，对玻璃基片的表面进行研磨抛光处理；
第四步，以高精密洗净法完全洗净玻璃基片；
第五步，配置ITO膜凝胶：将一定量的铟溶解在浓酸盐中得到InCl3溶液，取出一定量的InCl3溶液，与乙酰丙酮按1:2—1:3的摩尔比混合搅拌得到透明溶液；再按透明溶液与乙二醇甲醚的质量比为80:5的比例加入乙二醇甲醚，在室温下搅拌，得到In溶胶；按In：
Sn质量比为25:2的比例加入SnCl4·5H2O，搅拌20min得到In-Sn溶胶，然后按In-Sn溶胶与聚乙二醇的质量比为80:20的比例加入聚乙二醇，静置40min得到ITO膜胶液；
第六步，将ITO膜胶液涂于玻璃基片的中心处；
第七步，将玻璃基片固定放置于真空旋涂设备的旋转台上进行旋转，旋转台位于真空旋涂设备的真空室内，旋转台转速为200rpm/min，旋转时间为80s，在玻璃基片的表面形成一层均匀的ITO凝胶；
第八步，根据ITO膜的厚度要求，重复第六步和第七步，形成多层ITO凝胶，以满足ITO膜的厚度要求；
第九步，将玻璃基片放置于真空旋涂设备的一级干燥室中，在85°C温度下干燥10~15分钟；
第十步，再将玻璃基片放置于真空旋涂设备的二级干燥室中，在150°C温度下热处理
10~15分钟，使得多层ITO凝胶形成ITO膜；
第十一步，检查并记录产品的穿透率和阻抗特性，并判断产品是否为良品，良品即包装起来。
具体实施方式
第二步，对玻璃基片进行磨边和倒角，并清除所产生的微粒；
第三步，对玻璃基片的表面进行研磨抛光处理；
第四步，以高精密洗净法完全洗净玻璃基片；
第五步，配置ITO膜凝胶：将一定量的铟溶解在浓酸盐中得到InCl3溶液，取出一定量的InCl3溶液，与乙酰丙酮按1:2—1:3的摩尔比混合搅拌得到透明溶液；再按透明溶液与乙二醇甲醚的质量比为80:5的比例加入乙二醇甲醚，在室温下搅拌，得到In溶胶；按In：
Sn质量比为25:2的比例加入SnCl4·5H2O，搅拌20min得到In-Sn溶胶，然后按In-Sn溶胶与聚乙二醇的质量比为80:20的比例加入聚乙二醇，静置40min得到ITO膜胶液；
第六步，将ITO膜胶液涂于玻璃基片的中心处；
第七步，将玻璃基片固定放置于真空旋涂设备的旋转台10上进行旋转，旋转台10位于真空旋涂设备的真空室1内，旋转台10转速为200rpm/min，旋转时间为80s，在玻璃基片的表面形成一层均匀的ITO凝胶；
第八步，根据ITO膜的厚度要求，重复第六步和第七步，形成多层ITO凝胶，以满足ITO膜的厚度要求；
第九步，将玻璃基片放置于真空旋涂设备的一级干燥室2中，在85°C温度下干燥
10~15分钟；
第十步，再将玻璃基片放置于真空旋涂设备的二级干燥室3中，在150°C温度下热处理10~15分钟，使得多层ITO凝胶形成ITO膜；
第十一步，检查并记录产品的穿透率和阻抗特性，并判断产品是否为良品，良品即包装起来。
85°C温度下干燥10~15分钟；然后再将玻璃基片放置于真空旋涂设备的二级干燥室3中，在150°C温度下热处理10~15分钟，使得多层ITO凝胶形成ITO膜；最后检查并记录产品的穿透率和阻抗特性，并判断产品是否为良品。该真空旋涂设备可自动完成旋涂、干燥、穿透率检验和阻抗特性检验，大大提高了生产效率，同时采用真空环境下进行旋涂，在没有风阻和压力差的影响下，能在玻璃基片的表面形成更为均匀的ITO凝胶，使得ITO膜的膜厚更均匀，有利于提高ITO膜导电玻璃的性能，产品穿透率和阻抗特性更理想。
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