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限制光学装置中的 缺陷

阅读：954发布：2020-05-31

专利汇可以提供限制光学装置中的缺陷专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明描述限制光学装置中的缺陷的方法。通过激光烧蚀在缺陷周围形成周界，其中所述周界电隔离所述缺陷。所述周界不会因为来自激光的过剩能量而受到损坏，且因此不会造成新的电短路。，下面是限制光学装置中的缺陷专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括：
a.开始以第一通量水平施加激光，所述激光具有在所述激光烧蚀周界的第一区处的激光焦点；
b.将所述激光焦点从所述第一区平移到所述激光烧蚀周界的第二区，同时随着其从所述第一区平移到所述第二区而增加所述激光的通量水平；以及
c.使所述激光焦点返回到所述第一区以便封闭所述周界，同时降低所述激光的通量水平；
其中在所述激光烧蚀周界处施加的能量大体上均匀，且所述激光焦点在所述第一区处的重叠为至少约25％。
2.根据权利要求1所述的方法，其中降低所述激光的通量水平包括使所述激光散焦。
3.一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括通过使开始和停止激光烧蚀位置重叠来形成所述激光烧蚀周界；其中所述开始和停止位置的所述重叠小于约25％。
4.一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括：
a.开始在由所述激光烧蚀周界环绕的区域内的第一位置处施加具有激光焦点的激光；
b.将所述激光焦点从所述第一位置平移到第二位置，所述第二位置是所述激光烧蚀周界的一部分；
c.在所述缺陷周围平移所述激光焦点，直到所述激光焦点接近所述第二位置为止；
d.通过使所述激光焦点的所述第一和第二位置重叠来封闭所述激光烧蚀周界；以及e.使所述激光焦点返回到由所述激光烧蚀周界环绕的所述区域内。
5.根据权利要求4所述的方法，其中使所述激光焦点在所述第一和第二位置处重叠产生激光线的介于约10％与约100％之间的重叠。
6.根据权利要求4所述的方法，其中使所述激光焦点在所述第一和第二位置处重叠产生激光线的介于约25％与约90％之间的重叠。
7.根据权利要求4所述的方法，其中使所述激光焦点在所述第一和第二位置处重叠产生激光线的介于约50％与约90％之间的重叠。
8.根据权利要求4所述的方法，其中e.包括使所述激光焦点返回到所述第一位置。
9.一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括：
a.开始在将由所述激光烧蚀周界环绕的区域内的第一位置处施加具有激光焦点的激光；
b.在所述缺陷周围平移所述激光焦点，直到所述激光焦点接近所述第一位置为止；
c.通过使所述激光焦点在所述第一和第二位置处重叠来封闭所述激光烧蚀周界；以及
d.将所述激光焦点移到由所述激光烧蚀周界环绕的所述区域内。
10.根据权利要求9所述的方法，其中使所述激光焦点在所述第一和第二位置处重叠产生激光线的介于约10％与约100％之间的重叠。
11.根据权利要求9所述的方法，其中使所述激光焦点在所述第一和位置处重叠产生激光线的介于约25％与约90％之间的重叠。
12.根据权利要求9所述的方法，其中使所述激光焦点在第一和第二位置处重叠产生激光线的介于约50％与约90％之间的重叠。
13.根据权利要求9所述的方法，其中d.包括将所述激光焦点移到大约所述激光烧蚀周界的中心。
14.根据权利要求9所述的方法，其中d.包括以螺旋图样将所述激光焦点移到约所述第一位置，其中至少一些重叠在所述螺旋图样中发生。
15.一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括：
a.开始在将由所述激光烧蚀周界环绕的区域内的第一位置处施加具有激光焦点的激光；
b.将所述激光焦点从所述第一位置平移到第二位置，所述第二位置为所述激光烧蚀周界的一部分；
c.在所述缺陷周围平移所述激光焦点，直到所述激光焦点接近所述第二位置为止；以及
d.通过使所述激光焦点在所述第二位置处重叠来封闭所述激光烧蚀周界，其中封闭位置也是所述激光的停止位置。
16.根据权利要求15所述的方法，其中所述第一位置在所述缺陷处或接近所述缺陷。
17.根据权利要求15所述的方法，其中使所述激光焦点在所述第一和第二位置处重叠产生激光线的介于约10％与约100％之间的重叠。
18.根据权利要求15所述的方法，其中使所述激光焦点在所述第一和第二位置处重叠产生激光线的介于约25％与约90％之间的重叠。
19.根据权利要求15所述的方法，其中使所述激光焦点在所述第一和第二位置处重叠产生激光线的介于约50％与约90％之间的重叠。
20.一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括：
a.开始在第一位置处施加具有激光焦点的激光，所述第一位置位于将成为所述激光烧蚀周界的中心的地方；
b.将所述激光焦点从所述第一位置平移到第二位置，所述第二位置是所述激光烧蚀周界的一部分；
c.沿所述激光烧蚀周界在所述缺陷周围平移所述激光焦点，直到所述激光焦点接近所述第二位置为止；
d.通过使所述激光焦点在所述第二位置处重叠来封闭所述激光烧蚀周界；以及e.使所述激光焦点返回到激光烧蚀停止的所述第一位置周围。
21.根据权利要求20所述的方法，其中所述第一和第二位置在所述缺陷处。
22.根据权利要求20所述的方法，其中使所述激光焦点在所述第二位置处重叠产生激光线的介于约10％与约100％之间的重叠。
23.根据权利要求20所述的方法，其中使所述激光焦点在所述第二位置处重叠产生激光线的介于约25％与约90％之间的重叠。
24.根据权利要求20所述的方法，其中使所述激光焦点在所述第二位置处重叠产生激光线的介于约50％与约90％之间的重叠。
25.一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括：
a.当关上激光束时，激励激光；
b.允许所述激光达到稳态能级；以及
c.用所述激光束来限制所述缺陷。
26.一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括：
a.开始在将由所述激光烧蚀周界环绕的区域内的开始位置处施加具有激光焦点的激光；以及
b.从所述第一位置且围绕所述缺陷平移所述激光焦点，直到所述激光焦点越过其自己的路径但不在所述开始位置处为止。
27.根据权利要求26所述的方法，其中一旦所述激光焦点平移过交叉点，就停止所述激光。
28.一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括：
a.开始在将由所述激光烧蚀周界环绕的所述区域内的第一位置处施加具有激光焦点的激光；
b.将所述激光焦点从所述第一位置平移到第二位置，所述第二位置为所述激光烧蚀周界的一部分；以及
c.在所述缺陷周围平移所述激光焦点，直到所述激光焦点越过其自己的路径而在所述第一与第二位置之间为止。
29.根据权利要求28所述的方法，其中一旦所述激光焦点平移过交叉点，就停止所述激光。
30.根据权利要求1到29中任一权利要求所述的激光烧蚀周界，其具有约300微米或以下的平均直径。
31.根据权利要求1到29中任一权利要求所述的激光烧蚀周界，其具有约200微米或以下的平均直径。
32.一种围绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括：
a.开始在位于接近所述缺陷处的第一位置处施加具有激光焦点的激光；
b.至少部分地减轻所述缺陷；
c.将所述激光焦点从所述第一位置移到所述激光烧蚀周界处的第二位置；
d.沿所述激光烧蚀周界移动所述激光焦点，直到所述激光焦点接近所述第二位置为止；以及
e.封闭所述激光烧蚀周界。
33.根据权利要求32所述的方法，其中封闭所述激光烧蚀周界包括使所述激光焦点在所述第二位置处重叠。
34.根据权利要求33所述的方法，其中使所述激光焦点重叠产生激光线的至少10％的重叠。
35.根据权利要求33所述的方法，其进一步包括在封闭所述激光烧蚀周界之后，将所述激光焦点移到由所述激光烧蚀周界环绕的区域内。
36.根据权利要求35所述的方法，其中将所述激光焦点移到由所述激光烧蚀周界环绕的所述区域内包括移动所述激光焦点接近所述第一位置。
37.一种烧蚀激光装置中的缺陷的方法，所述方法包括：
a.开始在第一位置处、在缺陷处或附近施加具有激光焦点的激光；以及b.移动所述激光焦点以覆盖涵盖所述缺陷的一个或多个区。
38.根据权利要求37所述的方法，其中移动所述激光焦点包括在所述一个或多个区中的至少一个上方光栅化所述激光焦点。
39.根据权利要求37所述的方法，其中所述一个或多个区重叠。
40.根据权利要求37所述的方法，其中所述一个或多个区形成十字形状。
41.根据权利要求37所述的方法，其中所述一个或多个区形成矩形形状。

说明书全文

限制光学装置中的缺陷

[0001] 相关申请案

[0002] 本申请要求2012年5月18日申请的标题为“限制光学装置中的缺陷”的美国临时专利申请序列号61/649,184的权益，所述专利申请案特此以全文引用的方式并入本文中。

技术领域

[0003] 描述内容大体上涉及光学装置，更明确地说，涉及与例如平板显示器、电致变色窗等光学装置中的缺陷的减轻有关的方法和设备。

[0004] 发明背景

[0005] 光学装置包括光伏、电致变色装置、热变色装置、平板显示器等。光学装置技术的进步在最近一年已显著增加，包括产生所要光学和/或电特性的薄膜装置中不断降低的缺陷等级。这在装置的视觉感知较重要的装置中特别重要，因为缺陷对于最终用户来说通常自我表现为视觉上较明显且因此没有吸引力的现象。但是，即使使用改进的制造方法，光学装置也具有某一等级的缺陷性。此外，即使光学装置在制造时没有可见缺陷，这些可见缺陷也可能在光学装置的测试和/或部署期间显示出来。一种特别棘手的缺陷是光学装置中的电短路缺陷。

[0006] 发明概要

[0007] 本文的各种方法可应用于包括可局部隔离的材料或缺陷固定的几乎任何光学装置；例如所有固态电致变色装置均非常适合本文所述的方法。本文描述用于限制光学装置中(例如，可切换电致变色窗中)的缺陷的方法。为了方便，依据对电子变色装置的应用描述方法；然而这仅仅是作为简化描述的一种手段。本文所描述的方法可在并入到经绝缘玻璃单元(IGU)之前、在并入到IGU(或层板)之后或在之前和之后的电致变色工具的电致变色装置上执行。

[0008] 一个实施方案为一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括：a)开始在激光烧蚀周界的第一区中在第一通量水平下施加激光；b)将激光从第一区平移到激光烧蚀周界的第二区，同时随着激光从第一区过渡到第二区，增加激光的通量水平；以及c)使激光返回到第一区以便封闭所述周界，同时降低激光的通量水平；其中激光烧蚀周界周围的能量大体上是均匀的，且激光在第一区中的重叠为至少约25％。降低通量水平可包括使激光散焦。

[0009] 另一实施方案是一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括通过使开始和停止激光烧蚀位置重叠来形成激光烧蚀周界，其中开始和停止位置的重叠小于约25％。

[0010] 另一实施方案为一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括：a)开始在将由激光烧蚀周界环绕的区域内的第一位置处施加激光；b)将激光从第一位置平移到第二位置，第二位置是激光烧蚀周界的一部分；c)在缺陷周围平移所述激光，直到激光焦点接近第二位置为止；d)通过使第二位置与激光焦点重叠来封闭激光烧蚀周界；以及e)使激光返回到由激光烧蚀周界环绕的区域。在一个实施方案中，e)包括使激光返回到第一位置。

[0011] 在在其中重叠激光线或点不包括激光的开始和停止位置之间的重叠的实施方案中，所述重叠可在激光线或点的约10％与约100％之间，或在激光线或点的约25％与约90％之间，或在激光线或点的约50％与约90％之间。

[0012] 一个实施方案为一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括：a)开始在将界定激光烧蚀周界的线内的第一位置处施加激光；b)在缺陷周围平移激光，直到激光焦点接近第一位置为止；c)通过使激光焦点与第一位置重叠来封闭激光烧蚀周界；以及d)将激光移到由激光烧蚀周界环绕的区域。在一个实施方案中，d)包括将激光移到所述周界的中心。在一个实施方案中，d)包括以螺旋图样在第一位置内移动激光，所述螺旋图样中至少发生一些重叠。

[0013] 一个实施方案为一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括：a)开始在将由激光烧蚀周界环绕的区域内的第一位置处施加激光；b)将激光从第一位置平移到第二位置，第二位置是激光烧蚀周界的一部分；c)在缺陷周围平移所述激光，直到激光焦点接近第二位置为止；以及d)通过使第二位置与激光焦点重叠来封闭激光烧蚀周界，其中封闭位置也是激光的停止位置。

[0014] 一个实施方案为一种环绕光学装置中的缺陷形成大体上圆形的激光烧蚀周界的方法，所述方法包括：a)开始在第一位置处施加激光，所述第一位置位于将为大体上圆形的激光烧蚀周界的中心的位置处；b)将激光从第一位置平移到第二位置，所述第二位置为激光烧蚀周界的一部分；c)以大体上圆形的图样围绕所述缺陷平移激光，直到激光焦点接近第二位置为止；d)通过使第二位置与激光焦点重叠来封闭激光烧蚀周界；以及e)使激光返回到第一位置，激光烧蚀在此停止。

[0015] 一个实施方案为一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括：a)当关上激光束时，激励激光；b)允许激光达到稳态能级；以及c)用激光来限制缺陷。

[0016] 一个实施方案为一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括：a)开始在将由激光烧蚀周界环绕的区域内的开始位置处施加激光；b)从第一位置且围绕所述缺陷平移激光，直到激光焦点越过其自己的路径但不在开始位置处为止。激光可在交叉点处停止，或一旦经过交叉点就停止。

[0017] 一个实施方案为一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括：a)开始在将由激光烧蚀周界环绕的区域内的第一位置处施加激光；b)将激光从第一位置平移到第二位置，第二位置为激光烧蚀周界的一部分；以及c)在缺陷周围平移激光，直到激光焦点越过其自己的路径而在第一与第二位置之间为止。激光可在交叉点处停止，或一旦经过交叉点就停止。

[0018] 一个实施方案为一种围绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法。所述方法包括开始在接近缺陷定位的第一位置处施加具有激光焦点的激光，以及至少部分地减轻所述缺陷。所述方法将激光焦点从第一位置移到激光烧蚀周界处的第二位置。所述方法还沿激光烧蚀周界移动激光焦点，直到激光焦点接近第二位置为止，且接着封闭激光烧蚀周界。第二位置处可存在重叠。

[0019] 一个实施方案为一种在光学装置中烧蚀缺陷的方法。所述方法包括：开始在第一位置处、在缺陷处或附近施加具有激光焦点的激光；以及移动激光焦点以覆盖缺陷周围的一个或多个区。可例如通过使激光焦点在所述一个或多个区上方光栅化来移动激光焦点以覆盖所述区。在光栅化期间可能存在激光焦点的重叠，或不存在。可产生规则或规则的激光烧蚀区域。

[0020] 下文将参考相关联的图式，进一步详细描述这些和其它特征和优点。

[0021] 附图简述

[0022] 当结合图式考虑时，可更全面地理解以下详细描述，其中：

[0023] 图1A是处于变白状态的电致变色装置的示意性横截面。

[0024] 图1B是处于有色状态的电致变色装置的示意性横截面。

[0025] 图2是具有离子传导电子绝缘界面区而不是明显IC层的电致变色装置的示意性横截面。

[0026] 图3是离子传导层中具有导致装置中的局部缺陷的颗粒的电致变色装置的示意性横截面。

[0027] 图4A是在沉积电致变色堆叠的其余部分之前的导电层上具有颗粒的电致变色装置的示意性横截面图。

[0028] 图4B是图4A的电致变色装置的示意性横截面，其中在电致变色堆叠形成期间形成“弹出”缺陷。

[0029] 图4C是图4B的电致变色装置的示意性横截面，展示一旦沉积第二导电物就从弹出缺陷形成的电电路。

[0030] 图5描绘在激光画线以将晕转换成针孔之前和之后，当电致变色工具处于有色状态时具有三个晕短路类型缺陷的所述工具。

[0031] 图6A到6B描绘颗粒缺陷的常规激光烧蚀界限。

[0032] 图7描绘常规激光烧蚀界限图样。

[0033] 图8描绘如本文所述的激光烧蚀界限。

[0034] 图9到14描绘根据本文所述实施方案的各种激光烧蚀界限图样。

[0035] 图15展示遵循如关于图7所述的画线图样的不同大小的实际激光烧蚀的图像。

[0036] 图16展示说明以覆盖包括缺陷的区域的图样移动激光焦点的烧蚀缺陷的方法的示意图。

具体实施方式

[0037] 为了简明，依据电致变色工具来描述下文所述的实施方案。本领域的技术人员将了解，本文所述的方法和设备可用于具有短路类型缺陷的几乎任何光学装置。光学装置包括电致变色装置、热变色装置、平板显示器、光伏装置等。并且，依据在缺陷周围形成激光烧蚀周界来描述各种实施方案。通常，将这些周界绘制或描述为圆形。这不是必要的，且周界可为任何形状，不管是规则还是不规则。激光在形成周界时特别有用，但其它聚焦能源可代替本文所述的任何实施方案；这在聚焦能源具有与加电或断开所施加的用来执行所述过程的聚焦能量相关联的相关联瞬态能量通量时尤其如此。举例来说，其它聚焦能源可包括离子束、电子束，以及具有不同频率/波长的电磁束。

[0038] 对于上下文，下文呈现电致变色装置的描述以及电致变色装置中的缺陷性。为了方便，描绘固态且无机的电致变色装置，然而，实施方案不限于此，即，实施方案适用于可用激光或其它合适能源通过界限来切除缺陷(例如，电短路缺陷)的任何装置。

[0039] 电致变色装置

[0040] 图1A描绘电致变色装置100的示意性横截面。电致变色装置100包括透明衬底102、导电层104、电致变色层(EC)106、离子传导层(IC)108、对电极层(CE)110以及导电层(CL)114。层104、106、108、110和114的此堆叠合称为电致变色装置或涂层。这是电致变色装置的典型但非限制构造。电压源116(通常可操作以越过电致变色堆叠施加电位的低压源)影响电致变色装置从(例如)变白状态到有色状态的转变。在图1A中，描绘变白状态，例如EC和CE层无色，而是透明的。层的次序可相对于衬底反向。一些电致变色装置还将包括加盖层以保护导电层114。此加盖层可为聚合物和/或额外透明衬底，例如玻璃或塑料。在一些装置中，传导层中的一个为金属以将反射特性给予所述装置。在许多例子中，导电层114和104两者为透明的，例如透明导电氧化物，如氧化铟锡、氟化氧化锡、氧化锌等。
衬底102通常是透明的，例如玻璃或塑料材料。

[0041] 某些装置使用互补着色的电致变色和对电极(离子储存)层。举例来说，离子储存层110可阳极着色，且电致变色层阴极着色。对于如图1A中所描绘的处于变白状态的装置100，当在如所描绘的一个方向上施加所施加电压时，将离子(例如，锂离子)插入到离子储存层110中，离子储存层变白。同样地，如所描绘，当锂离子移出电致变色层104时，电致变色层104变白。离子传导层允许离子移动穿过，但离子传导层是电绝缘的，从而防止使传导层(以及从其形成的电极)之间的装置短路。

[0042] 可将电致变色装置(例如，如上文所述具有明显层的那些装置)制造为具有低缺陷性的所有固态且无机的装置。2009年12月22日申请的Mark Kozlowski等人作为发明人的标题为“Fabrication of Low-Defectivity Electrochromic Devices”的美国专利申请号12/645,111以及2009年12月22日申请的Zhongchun Wang等人作为发明人的标题为“Electrochromic Devices”的美国专利申请号12/645,159(现在为美国专利号8,432,603)中更详细地描述这些所有固态和无机电致变色装置及其制造方法，所述两个美国专利出于所有目的以引用的方式并入本文中。

[0043] 应理解，对变白状态与有色状态之间的转变的参考是非限制性的，且仅表示可实施电致变色转变的许多实施例中的一个实施例。除非本文另有指定，否则每当提到变白-有色转变时，对应的装置或过程包括其它光学状态转变，例如非反射-反射、透明-不透明等。另外，术语“变白”指代光学上中性的状态，例如无色、透明或半透明。更进一步，除非本文另有指定，否则电致变色转变的“色彩”不限于任何特定波长或波长范围。如本领域的技术人员理解，适当的电致变色和对电极材料的选择控制相关光学转变。

[0044] 具有合适光学、电、热和机械特性的任何材料均可用作衬底102。此些衬底包括(例如)玻璃、塑料和镜面材料。合适的塑料衬底包括(例如)丙烯酸、聚苯乙烯、聚碳酸酯、烯丙基双甘油碳酸盐、SAN(苯乙烯丙烯共聚物)、聚(4-甲基-1-戊烯)、聚酯、聚酰胺等。如果使用塑料衬底，那么例如有机玻璃领域中众所周知，优选使用例如金刚石状保护涂层、硅土/硅树脂耐磨涂层等的硬涂层来设置屏障且防止磨损。合适的玻璃包括透明或染色碱石灰玻璃，包括碱石灰浮法玻璃。所述玻璃可为未经锻炼的，强化的(热量或化学)或经锻炼的。将例如碱石灰玻璃等玻璃用作衬底的电致变色装置可包括钠玻璃与装置之间的钠扩散阻挡层，以防止钠离子从玻璃扩散到装置中。玻璃和塑料衬底两者与本文所述的实施方案相容，只要在所描述的方法中解释其特性即可。这在下文更详细地阐释。

[0045] 图1B是图1A中所示但处于有色章台(或转变为有色状态)的电致变色装置100的示意性横截面。在图1B中，电压源116的极性可反向，使得电致变色层更具负性以接受额外的锂离子，且藉此转变为有色状态；同时，锂例子离开对电极或离子储存层110，且电极或离子储存层110也着色。如虚线箭头所指示，锂离子越过离子传导层108输送到电致变色层106。以此方式互补着色的示范性材料为氧化钨(电致变色层)和氧化镍钨(对电极层)。

[0046] 某些电致变色装置可在装置中的一个或两个电极中包括反射性材料。举例来说，电致变色装置可具有阳极着色的一个电极以及阴极变为反射性的一个电极。此些装置与本文所述的实施方案相容，只要考虑装置的反射性质即可。这在下文更详细地阐释。

[0047] 上文所描述的所有固态和无机电致变色装置均具有低缺陷性和高可靠性，且因此非常适合电致变色窗，尤其是具有大格式架构玻璃衬底的那些电致变色窗。

[0048] 不是所有的电致变色装置均如图1A和1B中所描绘具有明显的离子传导层。如常规所理解，离子传导层防止电致变色层与对电极层之间的短路。离子传导层允许电致变色和对电极层保持电荷，且藉此维持其变白或有色状态。在具有明显层的电致变色装置中，组件形成包括夹在电致变色层与对电极层之间的离子传导层的堆叠。这三个堆叠组件之间的边界由成分和/或微结构中的陡变界定。因此，此些装置具有三个明显层和两个陡峭界面。

[0049] 相当令人惊讶的是，已发现可在不沉积离子传导电绝缘层的情况下制造高质量电致变色装置。根据某些实施方案，对电极和电致变色层紧邻彼此形成，通常直接接触，而不单独沉积离子传导层。相信各种制造过程和/或物理或化学机制产生接触的电致变色和对电极层之间的界面区，且此界面区像在具有此明显层的装置中那样提供离子传导电子绝缘层的至少一些功能。2010年4月30日申请的美国专利申请号12/772,055(现为美国专利号8,300,298)和12/772,075中，以及2010年6月11日申请的美国专利申请号12/814,277和12/814,279中描述此些装置及其制造方法，所述四个申请中的每一个的标题均为“Electrochromic Devices”，其发明人为Zhongchun Wang等人，且各自出于所有目的以引用的方式并入本文中。这些装置的简要描述如下。

[0050] 图2是处于有色状态的电致变色装置200的示意性横截面，其中所述装置具有离子传导电子绝缘界面区208，其提供明显IC层的功能。电压源116、导电层114和104以及衬底102基本上与相对于图1A和1B所描述的相同。在导电层114与104之间的是分级区，其包括对电极层110、电致变色层106以及其间的例子传导电子绝缘界面区208，而不是明显IC层。在此实施例中对电极层110与界面区208之间不存在明显边界，且电致变色层106与界面区208之间也不存在明显边界共同地，可将区110、208和106视为连续分级区。
CE层110与界面区208之间以及界面区208与EC层106之间存在扩散转变。可将这些装置视为“无IC层”装置。传统观点是三个层中的每一个应作为不同的、均匀沉积且光滑的层铺下以形成堆叠。每一层之间的界面应为“透明”的，其中在界面处不存在来自每一层的材料的少量混合。本领域的技术人员将认识到，在实际意义上，层界面处不可避免地存在某一程度的材料混合，但关键在于，在常规制造方法中，任何此混合均是无意且最小量的。此技术的发明人发现，可形成充当IC层的界面区，其中所述界面区在设计时包括相当大量的一或多种电致变色和/或对电极材料。这是与常规制造方法的彻底背离。然而，如在常规电致变色装置中，界面区上可能发生短路。本文所述的各种方法可适用于具有此些界面区而不是IC层的装置。

[0051] 上文所述的所有固态和无机电致变色装置均具有低缺陷性和高可靠性。然而，仍可能出现缺陷。对于上下文，下文关于常规分层堆叠类型的电致变色装置来描述电致变色装置中的视觉可辨别缺陷，以便更全面地理解所公开实施方案的性质。

[0052] 电致变色装置中的可见缺陷

[0053] 如本文所使用，术语“缺陷”指代电致变色装置的有缺陷点或区。缺陷可表征为可见或非可见。通常，缺陷将显示为电致变色窗或其它装置中的视觉可辨别异常。此些缺陷在本文中称为“可见”缺陷。通常，这些缺陷在电致变色装置归因于正常操作的装置区域与不恰当起作用的区域之间的对比度而转变为染色状态时可见，例如在缺陷的区域中，有较多的光穿过装置。其它缺陷太小以致观察者在正常使用时视觉上不会注意到。举例来说，当装置在白天处于有色状态时，此些缺陷不产生显而易见的光点。“短路”是横跨离子传导层或区(上述)的局部电子传导路径，例如两个透明导电氧化物层之间的电子传导路径。

[0054] 在一些情况下，横跨离子传导层的导电颗粒产生电短路，从而导致对电极与电致变色层或与其中的任一个相关联的TCO之间的电子路径。在一些其它情况下，衬底(其上制造有电致变色堆叠)上的颗粒导致缺陷，且此颗粒导致分层(有时称为“弹出”)，其中所述层并不恰当的粘合到衬底。层的分层也可能与颗粒污染无关而发生，且可能与电短路且因此与晕相关联。分层或弹出缺陷如果在TCO或相关联的EC或CE沉积之前发生，那么可导致短路。在此些情况下，随后沉积的TCO或EC/CE层将直接接触下面的提供直接电子传导路径的TCO或CE/EC层。下文在图3和4A到4C中说明与颗粒有关的缺陷。

[0055] 图3是离子传导层中且横跨离子传导层具有导致装置中的局部短路缺陷的颗粒302的电致变色装置300的示意性横截面。将装置300描绘为具有典型的不同层，但此大小体制中的颗粒也将导致使用离子传导电子绝缘界面区的电致变色装置中的视觉缺陷。电致变色装置300包括与图1A中针对电致变色装置100所描绘相同的组件。然而，在电致变色装置300的离子传导层108中，存在导致缺陷的导电颗粒302或其它遗留物。导电颗粒302导致电致变色层106与对电极层110之间的短路。此短路以两种方式局部影响装置：1)此短路物理上阻挡离子在电致变色层106与对电极层110之间的流动，以及2)此短路为电子在层之间局部传递提供导电路径，从而在层110和106的其余部分处于有色状态时，产生电致变色层106中的透明区304和对电极层110中的透明区306。就是说，如果电致变色装置
300处于有色状态，其中假设电致变色层106和离子储存层110两者为有色的，那么导电颗粒302渲染电致变色装置的不能够进入有色状态的区304和306。这些缺陷区有时被称为“晕”或“星座”，因为其看起来像是暗色背景(装置的其余部分处于有色状态)上的一系列亮点或星星。归因于晕与有色窗的高对比度，人类将自然地将注意力投向晕，且通常发现它们是让人分心且/或不美观的。如上文所提到，可见短路可能以其它方式形成。

[0056] 图4A是在沉积电致变色堆叠的其余部分之前的导电层104上具有颗粒402或其它碎屑的电致变色装置400的示意性横截面图。电致变色装置400包括与电致变色装置100相同的组件。归因于如所描绘保形层106到110循序地沉积在颗粒402上方，颗粒402导致电致变色堆叠中的层在颗粒402的区中凸起(在此实施例中，透明传导器层114尚未沉积)。虽然不希望受特定理论限制，但相信，在给定所述层的相对较薄性质的情况下，此些颗粒上方的分层可导致形成突起的区域中的应力。更明确地说，在每一层中，在突起区的周界周围，层中可能存在缺陷，例如成格子布置，或在较宏观等级上，裂缝或孔隙。这些缺陷的一个结果将为例如电致变色层106与对电极层110之间的电短路，或层108中的离子传导性的损失。然而，图4A中未描绘这些缺陷。

[0057] 参看图4B，由颗粒402导致的缺陷的另一结果称为“弹出”。在此实施例中，在沉积导电层114之前，在颗粒402的区中的导电层104上方的部分挣脱，从而随之携带电致变色层106、离子传导层108和对电极层110的若干部分。“弹出”为片404，其包括颗粒402、电致变色层106的一部分，以及离子传导层108和对电极层110。结果是导电层104的暴露区域。

[0058] 参看图4C，在片404的弹出之后，且一旦沉积导电层114，就形成电短路，其中导电层114与导电层104接触。当电致变色装置400处于有色状态时，此电短路将在电致变色装置400中留下透明区或晕，在外观上类似于上文关于图3所描述的由短路造成的缺陷。

[0059] 导致可见短路的典型缺陷可具有约3微米的物理尺寸(然而，有时较小或较大)，其从视觉角度来看是相对较小的缺陷。然而，这些相对较小的曲线导致有色电致变色窗中的视觉异常(晕)，其例如直径为约1cm，且有时大于1cm。通过隔离所述缺陷，例如经由激光划线限制所述缺陷或通过直接烧蚀材料而不限制材料来显著减少晕。举例来说，在短路缺陷周围烧蚀圆形、椭圆形、三角形、矩形或其它形状的周界，从而将其与起作用装置的其余部分电隔离开(也见图5和6以及相关联描述)。界限的直径可为仅数十、一百或至多达几百微米。通过限制，且因此电隔离所述缺陷，当所述窗为有色且窗的另一侧上存在足够光时，曾经是可见短路的现在对于肉眼来说仅类似于小光点。当直接烧蚀时，在无限制的情况下，电短路缺陷曾经位于的区域中不存在任何EC装置材料。相反，装置中存在孔，且孔的基础为例如浮法玻璃、扩散屏障、低透明度电极材料或其混合物。由于这些材料全部是透明的，因此光可穿过装置中的孔的基础，并且仅表现为小光点。

[0060] 直接烧蚀缺陷的一个问题是可能将存在进一步短路问题，例如金属颗粒可能熔化，其大小相对于其在烧蚀之前的大小而增加。这可导致进一步短路。出于此原因，限制缺陷通常是有用的，从而在缺陷周围留下无缺陷装置的“缓冲区”(见图6A和6B以及相关联描述)。取决于受限制缺陷的直径以及激光束的宽度，受限制的针孔可使一些EC材料留在限制内或无EC材料(通常但不一定使所述限制尽可能小)。此些减轻的短路缺陷可对照有色装置表现为针光点，因此这些光电通常称为“针孔”。通过限制来隔离电短路将是人工针孔的实施例，其故意形成来将晕转换成小得多的视觉缺陷。然而，针孔还可作为光学装置中的缺陷的自然结果而产生。

[0061] 针孔是电致变色装置的一个或多个层缺失或受损使得电致变色无法展现的区。针孔不是电短路，且如上文所述，其可为减轻装置中的电短路的结果。针孔可具有介于约25微米与约300微米之间，通常介于约50微米与约150微米之间的缺陷尺寸，且因此在视觉上辨别起来比晕难得多。为了降低因晕的减轻而导致的针孔的可见感知，在某些实施方案中，最小化故意产生的针孔的大小。在一个实施方案中，激光烧蚀界限具有大约400微米或以下，在另一实施方案中，约为300微米或以下，在另一实施方案中，约为200微米或以下，且在又一实施方案中，约100微米或以下的平均直径。取决于最终用户，此大小体制的较大侧上的针孔并不趋向于被注意到。如果可能，在此大小体制的较小侧上进行激光烧蚀界限，例如大约200微米或以下。

[0062] 视觉缺陷的界限

[0063] 图5描绘电致变色工具500，在所述工具处于有色状态时，在工具的可观看区域中具有三个晕短路类型缺陷(左)。图5左侧的工具展示减轻之前的晕。所述缺陷显示为星座或晕，有时直径为厘米级。因此，对于观看者来说，所述缺陷在视觉上让人分心且不吸引人。右侧的工具描绘在其已被限制而形成针孔之后导致三个晕的相同电短路缺陷。显然，针孔有利于晕。然而，通常以常规方式受激光限制的缺陷并不干净地形成针孔，就是说，所述针孔通常有电泄露，且因此不是“干净”针孔。在此些情况下，泄露导致针孔随着时间的过去而类似于晕。发明人已发现此问题的原因，且已开发出解决此问题的方法。

[0064] 图6A的左手部分描绘装置300的横截面，如关于图3所描述，其具有横跨离子传导层108的导电颗粒。装置300处于有色状态，但来自颗粒的电短路分别形成电致变色层106和对电极层110中的非有色区。参看图6A的右手部分，当导致此视觉异常的颗粒受限制时，例如当装置300保持在有色状态时，在颗粒以及装置堆叠的某一部分形成连续沟槽
600。沟槽600使装置300的一部分300b与块装置300a隔离。图6B从俯视图展示此激光隔离划线(为了简单，未展示短路颗粒)。理想地，此激光烧蚀将材料300b与块装置300a电隔离。因此，保留在沟槽600内的装置材料不着色，但却是具有一些吸收特性，且因此比沟槽600底部的衬底102着色稍重。然而，如上文所述，此电隔离不总是如此干净，如图6A和6B中所描绘。这关于图7更详细地阐释。

[0065] 激光隔离无需穿透装置堆叠的所有层，例如如图6A和6B中所描绘。激光可从移除外层(例如，114)到整个堆叠的任何深度，以及之间的任何深度。举例来说，激光仅需穿透透明传导层(104或114)中的一个，以便电隔离划线的周界内的堆叠材料。所述划线可穿透装置(具有五个层)的一个、两个、三个、四个或所有五个层。在具有分集成分而不是不同层的装置中，例如如相关于图2而描述的电致变色装置，穿透整个装置结构可为必要的。

[0066] 参看图7，常规激光限制方法使用“封闭”周界划线。封闭的周界可为任何形状，但为了方便，本文描述圆形周界。就是说，将激光施加到在距缺陷某一距离处选择的本地区或点700。以闭合图样(例如圆)在缺陷周围施加激光，其中激光在点700处开始烧蚀，且在点700处结束；就是说，激光的开始和结束为止大体上相同，或激光焦点的面积和/或激光划线的宽度在开始和结束为止处至少存在一些重叠。在此描述中，“重叠”指代激光焦点的面积和/或由激光路径产生的激光划线的宽度的重叠，以及此面积或宽度在烧蚀期间如何由激光重叠。举例来说，如果激光聚焦在第一位置上，且接着在激光路径结束时再次聚焦在此同一位置上，那么这是100％重叠。然而，如果激光聚焦在第一位置上，且接着聚焦在移动了等于焦点的半径的距离的第二位置上，那么这是50％重叠。

[0067] 这种类型的封闭图样产生进一步问题，其中开始和结束点彼此重叠，且因此形成周界的一部分。尽管其隔离其内的缺陷，但以此方式形成的周界在烧蚀开始和结束彼此重叠的区中具有问题。就是说，对于任何特定装置，选择特定通量(每单位面积递送的能量)，使得足以烧蚀装置层，且有效地将装置的一个区域与另一区域电隔离。这对于限制缺陷时的周界区的大部分来说是有效的，但在激光开始的区域中，且在开始和结束彼此重叠的情况下，通常存在过量能量，其导致所述区域中的膜堆叠的堆叠熔化和电短路。这对于激光开始的点尤其如此。存在激励激光时所造成的瞬时能量通量。当激光首次冲击装置时，将此过量能量施加到装置。这在图7(底部)的显微照片中描绘为实际激光界限的一部分，展示界限的宽度在点705处较宽，其中激光在缺陷周围开始和完成周界(在此实施例中，开始和停止点的重叠为40％)。进一步短路在此点处发生。为了避免此问题，可选择较低通量，但其通常导致周界的其余部分周围的膜的不足烧蚀。本文所描述的实施方案克服这些问题，例如通过创建烧蚀周界，其中所述通量足以电隔离短路缺陷，通过围绕烧蚀周界大体上均匀。

[0068] 克服归因于激光激励期间的瞬时通量的过量能量的上述问题的一种方法是关闭激光束，直到其达到稳态能级为止，且接着将激光施加到界限图样。以此方式，可避免过量能量。一个实施方案为一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括：a)当关上激光束时，激励激光；b)允许激光达到稳态能级；以及c)用激光来限制缺陷。此方法可结合本文所述的任何周界图样使用，因为通过百叶窗的使用避免过量能量的问题。举例来说，在使用此方法时，如关于图7所述的常规封闭图样可满足。

[0069] 克服过量能量的上述问题的另一方法是作出常规周界，但重叠激光束的开始和结束位置仅足以封闭周界，但不产生过量能量(例如，最小化熔化以及藉此产生的短路)；重叠越小，装置的可能因过量能量而具有短路的部分越小。因为重叠最小化，因此高精度是必要的，以确保周界的完整封闭(以确保电隔离)以及归因于重叠区中的过量能量(因此导致电短路)的最小损坏。一个实施方案是一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括形成激光烧蚀周界，其不具有激光束位置的开始和停止两者的完整重叠，其中开始和停止位置的重叠小于约25％。在一个实施方案中，开始和停止位置的重叠小于约10％，且在另一实施方案中，小于约5％。然而，此方法需要比下文所述的其它方法多的调整，因为过量能量可随激光开始处的瞬时能量通量而发生；例如，开始和结束点的重叠可无关，因为开始点本身可导致过量通量。其它实施方案补偿此问题，如下文所述。

[0070] 在一个实施方案中，如在上文所述的常规意义上，以封闭图样执行激光界限，开始和停止位置的重叠大于约25％，但其中选择过程窗，使得在界限的开始和结束处(例如，在与开始和停止激光相关联的瞬时通量条件期间)使用比界限的其余部分低的通量。就是说，激光界限使用双向过程窗，包括瞬时过程条件(在划线的开始和/或结束处)，以及激光划线过程的其余部分期间的稳态过程条件。在此实施方案中，通过降低在因此(就是说)在瞬态过程条件期间形成的周界的开始和结束处递送的能量来避免过量能量。一个实施方案为一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括：a)开始在激光烧蚀周界的第一区中在第一通量水平下施加激光；b)将激光从第一区平移到激光烧蚀周界的第二区，同时随着激光从第一区过渡到第二区，增加激光的通量水平；以及c)使激光返回到第一区以便封闭所述周界，同时降低激光的通量水平，其中激光烧蚀周界周围的能量大体上是均匀的，且激光在第一区中的重叠为至少25％。通过使激光的开始和结束(在此期间，原本将导致过量能量)位置处的通量衰减，实现大体均匀能量的烧蚀周界。可实现通量水平的降低，例如通过使激光散焦，同时可通过使激光聚焦来实现通量的增加。本领域的技术人员将了解，增加和减少通量的其它方式是可能的。在其它实施方案中，形成激光周界，而不必在周界的形成期间改变任何点处的通量。下文更详细地描述这些这些实施方案。

[0071] 在某些实施方案中，通过在周界内，就是说，在由周界环绕的区域内开始和/或停止划线过程来形成激光周界。选择周界内开始和/或停止点所位于的距离，使得其足够远离周界划线，因此不存在原本将在周界处发生的过量能量。开始和停止点无需在同一位置，但可在同一位置。举例来说，在一个实施方案中，划线在形成于圆形周界的中心处的周界内开始和结束。这在图8中描绘。

[0072] 图8的顶部部分描绘激光划线图样。所述图样接近或在将形成的圆形周界的中心800处开始。缺陷通常定位成接近800。将激光移到位置805以形成外半径，且接着划出圆形图样。当激光到达点805或接近点805时，其朝圆形图样的中心往回行进，接近位置800。
在此实施例中，归因于开始和结束激光划线过程的瞬时过程条件的过量能量位于所形成的周界的中心，且因此与图样的周界部分隔离开。选择通量以在周界处作出有效的电隔离划线。接近位置805，划线可重叠，只要不存在如在常规激光限制中原本将导致电短路的过度重叠即可。

[0073] 图8的底部部分展示遵循图8的上部部分中所描述的图样(在此实施例中，所述图样的直径为300m)的实际激光界限。在此实施例中，激光线在点805处重叠所述线的厚度的90％，且继续向内以在位置800处停止。在一个实施方案中，重叠在沿周界的某一点处介于约10％与约100％之间，例如以封闭所述周界，如在关于图8所述的实施例中。在一个实施方案中，重叠介于约25％与约90％之间，且在另一实施方案中，介于约50％与约90％之间。在此实施例中，周界部分中的“小坑”810反映位置805处的线的不完全(即，约90％)重叠；如果线已重叠100％，那么圆形图样中将不存在小坑。还注意，装置的内部(经电隔离)部分815并不随着块装置820着色而着色。此特定方法具有附加特征，即开始和停止点定中心在缺陷上，因此过量能量被引导到缺陷本身。因此，将缺陷的坐标用作激光图样的开始和停止点，以在缺陷周围形成周界。过量能量包括在周界内，且因此不导致进一步短路；并且，中心处的此过量能量可辅助制作针孔，其被创造成较不引人注意，因为其熔化所述区中的装置材料，且可比缺陷单独可扩散光更好地扩散光。并且，通过使开始和停止点在中心，所形成的周界与过量能量点之间的距离在所有方向上均最大化。

[0074] 通过使用例如关于图8所描述的图样，导致过量能量的任何瞬时效应均包括在周界区内，且因此不导致进一步电短路。换句话说，形成划线的高度均匀周界部分，即，沿划线的周界部分无任何过量通量。通过将过量能量部分与划线的周界部分隔离，可调整划线过程以获得较佳稳态条件，从而显著加宽在划线的周界部分周围导致有效且均匀电隔离的可接受参数设定的范围。举例来说，可将通量水平设定于较高值，以允许充分稳态划线，同时将过量能量(来自开始和停止激光)隔离在周界区内。

[0075] 在一些实施方案中，激光焦点的开始点位于缺陷(例如，针孔缺陷)附近或缺陷处。通过在此位置处开始激光焦点，在将激光焦点移到沿烧蚀周界的另一位置之前，激光可通过使缺陷处或缺陷附近的区中的材料蒸发来至少部分地(如果不是整个地)减轻缺陷。使此区中的材料蒸发可比缺陷经受限制的情况更好地扩散光。一种围绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的示范性方法包括：a)开始在位于接近所述缺陷处的第一位置处施加具有激光焦点的激光；b)至少部分地减轻所述缺陷；c)将所述激光焦点从所述第一位置移到作为所述激光烧蚀周界的一部分的第二位置；d)沿所述激光烧蚀周界移动所述激光焦点，直到所述激光焦点接近所述第二位置为止；以及e)封闭所述激光烧蚀周界。在一些情况下，封闭激光烧蚀周界包括使激光焦点在第二位置处重叠。第二位置的重叠如上文关于图8所描述。在一种情况下，所述方法还包括将激光焦点移到由激光烧蚀周界环绕的区域内的位置。在另一情况下，使激光返回到由激光烧蚀周界环绕的区域内包括使激光焦点返回到接近第一位置处。

[0076] 一个实施方案为一种围绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，其包括：a)开始在将由激光烧蚀周界环绕的区域内的第一位置处施加激光；b)将激光焦点从第一位置平移到第二位置，第二位置是激光烧蚀周界的一部分；c)在缺陷周围平移所述激光，直到激光焦点接近第二位置为止；d)通过使第二位置与激光焦点重叠来封闭激光烧蚀周界；以及e)使激光返回到由激光烧蚀周界环绕的区域内的位置。在e)之后，停止激光。第二位置的重叠如上文关于图8所述。在一种情况下，使激光返回到由激光烧蚀周界环绕的区域包括使激光返回到第一位置且停止烧蚀。在另一情况下，在由周界环绕的区域内的第三位置处停止激光。关于图9描述此情况的一个实施例。

[0077] 图9展示类似于关于图8所描述图样的图样。在此图样中，激光烧蚀在位置900处开始，沿线移到位置905以形成半径，接着逆时针转动(在此实施例中，但顺时针也将起作用)，直到到达905(其中存在重叠，如上文所述)为止。接着，激光移到划线的周界部分内部的位置910。在此实施例中，激光在划线过程结束时停止位置900的短路。这是激光开始和停止位置不同但都在划线的周界部分内部的实施例。

[0078] 图10展示类似于关于图8所描述图样的图样。在此图样中，激光烧蚀在位置1000处开始，沿线移到位置1005以形成半径，且接着逆时针转动，直到到达1005(其中存在重叠，如上文所述)为止。在此实施例中，激光在划线过程结束时在接近位置1005处或在位置1005上停止。这是激光开始在划线的周界部分内部的实施例，其中激光结束位置是划线的周界部分的一部分。通过激光的开始位置的选择，且通过避免开始和停止位置的任何重叠，划线的周界部分中不存在过量能量。

[0079] 一个实施方案为一种围绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，其包括：a)开始在将由激光烧蚀周界环绕的区域内的第一位置处施加激光；b)将激光从第一位置平移到第二位置，第二位置是激光烧蚀周界的一部分；c)在缺陷周围平移所述激光，直到激光焦点接近第二位置为止；以及d)通过使第二位置与激光焦点重叠来封闭激光烧蚀周界，其中封闭位置也是激光的停止位置。所述重叠如上文关于图8所述。

[0080] 图11展示类似于关于图8所描述图样的图样。在此图样中，激光烧蚀在位置1100处开始，沿圆形路径逆时针移动，直到到达1100为止，其中如上文关于图8所述，存在重叠。接着，激光移到划线的周界部分内的位置1110。这是激光开始是划线的周界部分的一部分的实施例，而激光结束位置在划线的周界部分内。在此实施例中，由于开始位置是周界区的一部分，因此可能需要谨慎选择激光能量。

[0081] 一个实施方案为一种围绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，其包括：a)开始在将界定激光烧蚀周界的线内的第一位置处施加激光；b)在缺陷周围平移激光，直到激光焦点接近第一位置为止；c)通过使激光焦点与第一位置重叠来封闭激光烧蚀周界；
以及d)将激光移到由激光烧蚀周界环绕的区域内。所述重叠如上文关于图8所述。在一个实施方案中，d)进一步包括将激光移到周界的中心。在另一实施方案中，d)进一步包括以螺旋图样在第一位置内移动激光，所述螺旋图样中至少发生一些重叠。关于图12中的特定实施例来描述此后者实施方案的实施例。

[0082] 图12展示类似于关于图8所描述图样的图样。在此图样中，激光烧蚀在位置1200处开始，沿大体圆形的路径逆时针移动，直到接近位置1200为止。在此实施例中，使激光焦点接近开始位置，但向内螺旋，使得存在烧蚀焦点的一些重叠以封闭周界，但不在接近位置1200处产生过量能量。所述重叠如上文关于图8所述。在此实施例中，由于开始位置是周界区的一部分，因此可能需要谨慎选择激光能量。在所描绘的实施例中，使激光到达点1210；
然而，在此位置之前，激光可停止，只要周界由所描述的重叠封闭即可。这是激光开始是划线的周界部分的一部分的实施例，而激光结束位置在划线的周界部分内。由于激光的开始和结束瞬态两者均不存在重叠，因此不存在过量能量。

[0083] 图13展示类似于关于图12所描述图样的图样。在此图样中，激光烧蚀在位置1300处开始，沿大体圆形路径逆时针移动，直到向内螺旋以横在点1305处为止，且最终在点1310处结束。在此实施例中，交叉点1305处存在100％重叠，但开始和停止位置两者在划线图样的周界部分内，因此避免了过量能量。

[0084] 一个实施方案为一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括：a)开始在将由激光烧蚀周界环绕的区域内的开始位置处施加激光；b)从第一位置且围绕所述缺陷平移激光，直到激光焦点越过其自己的路径但不在开始位置处为止。激光可在交叉点处停止，或一旦经过交叉点就停止。

[0085] 图14展示类似于关于图13所描述图样的图样。在此图样中，激光烧蚀在位置1400处开始，沿半径向外移到位置1405，接着沿大体圆形路径逆时针运行，直到到达第三点1410为止，接着沿半径向内运行，在点1415处越过第一半径，且最终在点1420处结束。
在此实施例中，交叉点1415处存在100％重叠，但开始和停止位置两者在划线图样的周界部分内，因此避免了过量能量。并且，此图样的另一特征在于由于角度θ较尖锐，因此在完全相交点1415之前，线之间存在逐渐增加的重叠。此逐渐重叠确保了划线周界的接近相交点1415的区不具有过量能量，因为最大重叠点1415不是划线的最外部分，而是从较低开始到较高重叠的重叠梯度。

[0086] 一个实施方案为一种环绕光学装置中的缺陷形成激光烧蚀周界的方法，所述方法包括：a)开始在将由激光烧蚀周界环绕的区域内的第一位置处施加激光；b)将激光从第一位置平移到第二位置，第二位置为激光烧蚀周界的一部分；c)在缺陷周围平移激光，直到激光焦点越过其自己的路径而在第一与第二位置之间为止。激光可在交叉点处停止，或一旦经过交叉点就停止。

[0087] 实施例

[0088] 与常规激光烧蚀周界相比，使用关于图8所述的图样在电致变色装置中形成激光烧蚀周界。使用1.6J/cm2的通量，使用在周界上的点处开始的激光线的90％重叠来烧蚀激光周界，在所述点处，线相交以便封闭所述周界，且继续到周界的也是激光烧蚀开始处的中心。形成50、100、200、300、400和500微米的周界。图15中展示实际图样。图15展示具有布置在其上的激光划线图样的有色电致变色装置。如所展示，留在周界的内部区中的装置不像环绕所述周界的块装置中那样着色。进一步测试显示50m图样确实显示一些泄露，但这可能是与图样大小相比归因于激光焦点的大小的几何限制的结果。如果使用较小的焦点，那么较小的图样(例如直径50m)可能就像尺寸较大的图样那样效果好。

[0089] 一个实施方案是一种用激光焦点来烧蚀缺陷(例如，针孔或短路相关缺陷)的方法，其首先将焦点定位在缺陷处或缺陷附近，且接着移动所述焦点以在包括缺陷区域的烧蚀区域上烧蚀。这可通过首先将激光聚焦在缺陷中心处或中心附近的位置而方便地进行，但所述方法不一定需要这么做。在一些情况下，可以此方式移动焦点以覆盖一个或多个区。在一些情况下，这些区可彼此重叠。可使用光栅器来在所述一个或多个区上方移动焦点。所烧蚀的区域无需为规则形状。所烧蚀的区域可呈例如圆形、矩形、锯齿图样、十字形状或其它形状的形式。图16展示说明此方法的示意图。在所说明的实施例中，激光焦点1610首先定位在缺陷1600处或缺陷1600附近。可在任何方向(如由箭头说明)上移动焦点1610，以在包括缺陷区域的区域上方烧蚀。展示所烧蚀区域的形状的两个实施例。第一实施例为矩形烧蚀区域1620。第二实施例为十字图样烧蚀区域1630。在一些情况下，可在组成烧蚀区域的一个或多个区中移动焦点。

[0090] 尽管已较详细地描述了前面的实施方案来帮助理解，但所描述的实施方案将被视为说明性而不是限制性的。本领域的技术人员将明白，可在不避开所附权利要求书的范围的情况下实施某些改变和修改。

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限制光学装置中的缺陷

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