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一种酸性含氟废处理系统

阅读:74发布:2020-05-12

专利汇可以提供一种酸性含氟废处理系统专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本实用新型提供了一种酸性含氟废 水 处理 系统,其能 软化 水质,延长除氟 树脂 的再生周期。其包括顺序设置并相连的调节池、第一混凝调节池、第二混凝调节池、 过滤器 、氟离子捕捉器,其特征在于:在所述过滤器和所述氟离子捕捉器之间还安装有 钙 离子捕捉器,所述钙离子捕捉器分别与所述过滤器和所述氟离子捕捉器连接。,下面是一种酸性含氟废处理系统专利的具体信息内容。

1.一种酸性含氟废处理系统,其包括顺序设置并相连的调节池、第一混凝调节池、第二混凝调节池、过滤器、氟离子捕捉器,其特征在于:其还包括离子捕捉器,所述钙离子捕捉器位于所述过滤器和所述氟离子捕捉器之间,所述钙离子捕捉器分别与所述过滤器和所述氟离子捕捉器连接。
2.根据权利要求1所述的一种酸性含氟废水处理系统,其特征在于:所述钙离子捕捉器内填充可以捕捉钙离子的弱酸性阳离子交换树脂
3.根据权利要求1或2所述的一种酸性含氟废水处理系统,其特征在于:所述调节池设有氢化钙、氯化钙加药口,所述调节池底部设有曝气管路。
4.根据权利要求3所述的一种酸性含氟废水处理系统,其特征在于:所述第一混凝调节池设有氢氧化钙、氯化钙加药口。
5.根据权利要求4所述的一种酸性含氟废水处理系统,其特征在于:所述第二混凝调节池设有聚合氯化、聚丙烯酰胺和酸钠加药口。
6.根据权利要求5所述的一种酸性含氟废水处理系统,其特征在于:所述第一混凝调节池和所述第二混凝调节池内分别安装有搅拌机
7.根据权利要求5所述的一种酸性含氟废水处理系统,其特征在于:所述第一混凝调节池和所述第二混凝调节池分别与污泥浓缩池连接。
8.根据权利要求5所述的一种酸性含氟废水处理系统,其特征在于:所述钙离子捕捉器和所述氟离子捕捉器之间还连接设有脱碳塔。
9.根据权利要求1所述的一种酸性含氟废水处理系统,其特征在于:所述过滤器和所述氟离子捕捉器与收集池连接,用于将所述过滤器的冲洗废液及所述氟离子捕捉器的再生废液导入至收集池,所述收集池内安装有搅拌机;所述收集池与污泥浓缩池连接。
10.根据权利要求1所述的一种酸性含氟废水处理系统,其特征在于:所述钙离子捕捉器与所述调节池连接,用于将钙离子捕捉器的再生废液输送至所述调节池中。

说明书全文

一种酸性含氟废处理系统

技术领域

[0001] 本实用新型涉及废水处理技术领域,具体为一种酸性含氟废水处理系统。

背景技术

[0002] 氢氟酸具有较强的化性和腐蚀性,常常在半导体生产的刻蚀工艺中作为主要溶剂。因此,酸性含氟废水是半导体制造业产生的主要污染废水之一。水体的氟污染不但会严重影响人体健康,还会对生态系统造成破坏。因此,各地区均不同程度地提高了半导体行业废水中关于氟化物的排放标准,以江苏省及上海市为例,《半导体行业污染物排放标准》中规定直接排入特殊保护水域的处理水中氟化物(以F计)需小于8mg/L。寻求一种应对高标准排放要求且高效低廉的含氟废水处理工艺愈发重要。
[0003] 含氟废水的主要处理方法包括化学沉淀、混凝沉淀、吸附、离子交换、反渗透电渗析等。采用单一的或是简单组合的工艺,很难使出水F-浓度低于3mg/L,并且容易引入其它污染物质。
[0004] 申请号为201821574202.7,名称为,一种深度处理含氟废水的污水处理系统的专利,其包括含氟废水收集单元、PH调节单元、反应单元、混凝单元、絮凝单元、沉淀单元、过滤单元、树脂吸附单元,在反应单元添加氯化,在混凝单元添加聚合氯化、在絮凝单元添加聚丙烯酰胺、通过树脂吸附单元对初步反应出水进行深度吸附处理,进一步除氟。但是,由于添加氯化钙等物质会导致水质硬化,会导致树脂板结,导致除氟树脂再生周期减少。实用新型内容
[0005] 针对在通过树脂进行深度除氟的含氟废水处理系统中存在水硬化使得树脂易板结的问题,本实用新型提供了一种酸性含氟废水处理系统,其能软化水质,延长除氟树脂的再生周期。
[0006] 其技术方案是这样的:一种酸性含氟废水处理系统,其包括顺序设置并相连的调节池、第一混凝调节池、第二混凝调节池、过滤器、氟离子捕捉器,其特征在于:其还包括钙离子捕捉器,所述钙离子捕捉器位于所述过滤器和所述氟离子捕捉器之间,所述钙离子捕捉器分别与所述过滤器和所述氟离子捕捉器连接。
[0007] 其进一步特征在于:
[0008] 所述钙离子捕捉器内填充可以捕捉钙离子的弱酸性阳离子交换树脂;
[0009] 所述调节池设有氢氧化钙、氯化钙加药口,所述调节池底部设有曝气管路;
[0010] 所述第一混凝调节池设有氢氧化钙、氯化钙加药口;
[0011] 所述第二混凝调节池设有聚合氯化铝、聚丙烯酰胺和酸钠加药口;
[0012] 所述第一混凝调节池和所述第二混凝调节池内分别安装有搅拌机
[0013] 所述第一混凝调节池和所述第二混凝调节池分别与污泥浓缩池连接;
[0014] 所述钙离子捕捉器和所述氟离子捕捉器之间还连接设有脱碳塔;
[0015] 所述过滤器和所述氟离子捕捉器与收集池连接,用于将所述过滤器的冲洗废液及所述氟离子捕捉器的再生废液导入至收集池,所述收集池内安装有搅拌机;所述收集池与污泥浓缩池连接;
[0016] 所述钙离子捕捉器与所述调节池连接,用于将钙离子捕捉器的再生废液输送至所述调节池中。
[0017] 采用了这样的结构后,通过在氟离子捕捉器前安装钙离子捕捉器,减少水中的钙离子使水软化,能够降低氟离子捕捉器中的树脂板结的险,延长除氟树脂的再生周期,另外,通过设置碳酸钠加药口用于投加碳酸钠,通过离子交换的方法,减少过量的钙离子,能够进一步软化水质,从而进一步延长树脂的再生周期。附图说明
[0018] 图1为本实用新型流程图

具体实施方式

[0019] 如图1所示的一种酸性含氟废水处理系统,其包括顺序设置并相连的调节池1,用于对废水的PH值进行调节,调节池1设有氢氧化钙、氯化钙加药口,调节池1底部设有曝气管路;第一混凝调节池2,第一混凝调节池2设有氢氧化钙、氯化钙加药口;第二混凝调节池3,第二混凝调节池3设有聚合氯化铝、聚丙烯酰胺和碳酸钠加药口;第一混凝调节池2和第二混凝调节池3内安装有搅拌器进行搅拌;过滤器4,其具体为多介质过滤器;氟离子捕捉器7,氟离子捕捉器7内填充有阴离子交换树脂;在过滤器4和氟离子捕捉器7之间还安装有钙离子捕捉器5,钙离子捕捉器5分别与过滤器4和氟离子捕捉器7连接,钙离子捕捉器5内填充可以捕捉钙离子的弱酸性阳离子交换树脂,钙离子捕捉器5和氟离子捕捉器7之间还连接设有脱碳塔6;过滤器4和氟离子捕捉器7与收集池8连接,用于将过滤器4的冲洗废液和氟离子捕捉器7的再生废液导入至收集池8,收集池8内安装有搅拌机;收集池8还与污泥浓缩池9连接,同时,第一混凝调节池2和第二混凝调节池2连接污泥浓缩池9;而钙离子捕捉器5与调节池1连接,用于将钙离子捕捉器5的再生废液通过输送输送至调节池1中。
[0020] 采用了这样的结构后,通过在氟离子捕捉器前安装钙离子捕捉器,减少水中的钙离子使水软化,能够降低氟离子捕捉器中的树脂板结的风险,延长除氟树脂的再生周期,另外,通过设置碳酸钠加药口用于投加碳酸钠,通过离子交换的方法,减少过量的钙离子,能够进一步软化水质。
[0021] 将酸性含氟废水收集至调节池1,投加Ca(OH)2调节pH,同时投加CaCl2。而后通过废水提升泵将废水提升至第一混凝调节池2进水口,在第一混凝调节池2内继续投加Ca(OH)2和CaCl2,混匀后静置沉淀。上清液流入第二混凝调节池3,向其中投加聚合氯化铝PAC、聚丙烯酰胺PAM和Na2CO3,静止后混匀沉淀。
[0022] 而后上清液由上清液提升泵提升至多介质过滤器4的进水口,去除上清液中残余的颗粒物及悬浮物质。多介质过滤器4的出水进入钙离子捕捉器5,进一步去除Ca2+,使出水软化。钙离子捕捉器5的出水进入脱碳塔6以脱除CO2和水中的碳酸。脱碳塔6的出水由脱碳塔提升泵提升至氟离子捕捉器7的进水口,在除氟树脂的作用下进行深度除氟处理。
[0023] 第一混凝调节池2、第二混凝调节池3中的含氟污泥自流至污泥浓缩池9,经压滤处理后委外处理。多介质过滤器4的冲洗废液及氟离子捕捉器阴离子交换树脂的再生废液自流至收集池8,在池内混匀后由废液输送泵输送至污泥浓缩池9中统一处理,钙离子捕捉器5的再生废液通过输送泵输送至调节池1中;污泥浓缩池9的上清液由污泥浓缩池提升泵提升至多介质过滤器4,继续进行处理。
[0024] 本实用新型在调节池1和第一混凝调节池2中先后分别投加钙盐进行混凝除氟,同时采用CaCl2+Ca(OH)2组合加药方式,同时回流至调节池1的阳离子交换树脂再生废液中含有大量钙离子,可以大量节省药剂成本,相比于传统的加除氟或加钙盐除氟装置,在强化混凝除氟效果的同时减少了加药量,含氟污泥量随之减少,污泥委外处理费用大幅下降;在第二混凝调节池3中添加碳酸钠,同时加设钙离子捕捉器5及脱碳塔6,解决传统混凝除氟过量投加钙盐导致出水硬度增大的问题,有效地延长了具有除氟功效的阴离子交换树脂的再生周期,使运行成本大幅下降。使用填充有特殊除氟树脂的氟离子捕捉器7对废水进行深度除氟,确保出水达标排放。该组合装置可以有效处理不同浓度的酸性含氟废水,兼具软化出水的功能,可以满足国家或各地区的高标准排放要求。
[0025] 本实用新型提供的装置最终出水F-<0.5 mg/L,不但满足国家标准的要求,更可以满足江苏省、上海市等地较之于国家标准更为严格的地方标准。与传统除氟装置相比,节省了大量药剂成本与运行成本。同时达到软化水质的目的,减少后续回用处理的负担。
[0026] 以上,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉该技术的人在本实用新型所揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应该以权利要求的保护范围为准。
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