技术领域
[0001] 本
申请涉及光伏
电池制作技术领域，特别是涉及一种
硅片镀膜设备及其桨。
背景技术
[0002] 在硅片制作工艺过程中，非常重要的一步是在硅片表面镀膜，以降低光线在硅片表面的反射率，增强硅片表面的
钝化效果，降低载流子的复合。
[0003] 在镀膜时，机械抓手将承载有硅片的
石英舟运送到炉管的桨上，桨将承载有硅片的石英舟运送进炉管进行扩散。在扩散过程中，桨本身在炉管中占据了一定
位置，由于现有的桨与石英舟
接触的表面是实体的，影响气流的流通，并且桨与石英舟距离过小，容易造成硅片附近气流不均匀，从而造成硅片镀膜的不均匀，并且，现有的桨用料多，制作成本高。
[0004] 因此，如何解决上述技术问题应是本领技术人员重点关注的。
发明内容
[0005] 本申请的目的是提供一种硅片镀膜设备及其桨，以降低桨在镀膜过程中对镀膜不均匀性的影响，并降低桨的制作成本。
[0006] 为解决上述技术问题，本申请提供一种硅片镀膜设备的桨，包括：
[0007] 用于承载石英舟的桨板，且所述桨板为镂空的桨板；
[0008] 与硅片镀膜设备炉口相接触的桨叶，且所述桨叶的上表面高于所述桨板的上表面；
[0009] 用于连接所述桨板和所述桨叶的斜连接板。
[0010] 可选的，所述桨叶具有至少一个贯穿所述桨叶的厚度的第一通孔。
[0011] 可选的，所述桨叶具有多个所述第一通孔，且多个所述第一通孔呈阵列排布。
[0012] 可选的，所述斜连接板具有至少一个贯穿所述斜连接板的厚度的第二通孔。
[0013] 可选的，所述斜连接板具有多个所述第二通孔，且多个所述第二通孔呈阵列排布。
[0014] 可选的，所述第一通孔和所述第二通孔均为圆形通孔。
[0015] 可选的，所述桨板的镂空区域为矩形，且镂空区域的长度等于所述桨板的长度。
[0017] 可选的，所述桨的结构为一体式。
[0018] 本申请还提供一种硅片镀膜设备，所述硅片镀膜设备包括上述任一种所述的桨。
[0019] 本申请所提供的硅片镀膜设备的桨，包括用于承载石英舟的桨板，且所述桨板为镂空的桨板；与硅片镀膜设备炉口相接触的桨叶，且所述桨叶的上表面高于所述桨板的上表面；用于连接所述桨板和所述桨叶的斜连接板。可见，本申请中的桨包括桨板、桨叶和斜连接板，且用于承载石英舟的桨板为镂空桨板，当石英舟放置在桨板上后，减少桨板与石英舟接触的面积，并且镂空气流在桨板上下可直接流通，增强硅片镀膜的均匀性，改善电池片的EL，还能减少桨板材料的用量，降低桨的制作成本。此外，本申请还提供一种具有上述优点的硅片镀膜设备。
附图说明
[0020] 为了更清楚的说明本申请
实施例或
现有技术的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0021] 图1为本申请实施例所提供的一种硅片镀膜设备的桨的俯视结构示意图；
[0022] 图2为本申请实施例所提供的一种硅片镀膜设备的桨的正视结构示意图；
[0023] 图3为本申请实施例所提供的另一种硅片镀膜设备的桨的俯视结构示意图；
[0024] 图4为本申请实施例所提供的一种硅片镀膜设备的桨的侧视结构示意图；
[0025] 图中，1.桨板，2.桨叶，3.斜连接板，4.硅片镀膜设备炉口
基座，5.第一通孔，6.第二通孔。
具体实施方式
[0026] 为了使本技术领域的人员更好地理解本申请方案，下面结合附图和具体实施方式对本申请作进一步的详细说明。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0027] 在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是本发明还可以采用其他不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似推广，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
[0028] 正如背景技术部分所述，现有的桨与石英舟接触的表面是实体的，影响气流的流通，并且桨与石英舟距离过小，容易造成硅片附近气流不均匀，从而造成硅片镀膜的不均匀，并且，现有的桨用料多，制作成本高。
[0029] 有鉴于此，本申请提供了一种硅片镀膜设备的桨，请参考图1和图2，图1为本申请实施例所提供的一种硅片镀膜设备的桨的俯视结构示意图，图2为本申请实施例所提供的一种硅片镀膜设备的桨的正视结构示意图，该桨包括：
[0030] 用于承载石英舟的桨板1，且所述桨板1为镂空的桨板1；
[0031] 与硅片镀膜设备炉口相接触的桨叶2，且所述桨叶2的上表面高于所述桨板1的上表面；
[0032] 用于连接所述桨板1和所述桨叶2的斜连接板3。
[0033] 需要说明的是，本实施例中对桨板1的镂空区域的形状不做具体限定，可自行设置。例如，镂空区域的形状可以为网格状镂空区域，或者圆形镂空区域等等。
[0034] 优选地，在本申请的一个实施例中，所述桨板1的镂空区域为矩形，且镂空区域的长度等于所述桨板1的长度，也即石英舟与硅片镀膜设备的桨的接触区域为桨板1的两边，桨板1在起到
支撑作用的同时，镂空的区域的面积达到最大，保证气流流通时的通畅性，进一步提高硅片镀膜的均匀性。
[0035] 优选地，所述桨为碳化硅桨，碳化硅桨具有耐高温、防止
变形的优点，使用寿命长。
[0036] 本实施例中的桨包括桨板1、桨叶2和斜连接板3，且用于承载石英舟的桨板1为镂空桨板1，当石英舟放置在桨板1上后，减少桨板1与石英舟接触的面积，并且镂空气流在桨板1上下可直接流通，增强硅片镀膜的均匀性，改善电池片的EL，还能减少桨板1材料的用量，降低桨的制作成本。
[0037] 请参考图3和图4，图3为本申请实施例所提供的另一种硅片镀膜设备的桨的俯视结构示意图，图4为本申请实施例所提供的一种硅片镀膜设备的桨的侧视结构示意图。
[0038] 在上述实施例的
基础上，在本申请的一个实施例中，所述桨叶2具有至少一个贯穿所述桨叶2的厚度的第一通孔5。
[0039] 优选地，第一通孔5位于硅片镀膜设备炉口以外的区域。
[0040] 需要指出的是，桨叶2和斜连接板3均为中空型结构。
[0041] 需要指出的是，本实施例中对第一通孔5的形状不做具体限定，视情况而定。例如，第一通孔5的形状为圆形，或者矩形，或者三
角形等。
[0042] 本实施例中第一通孔5的设置目的是，在保证硅片镀膜设备的桨的支撑作用的同时，保证气流通过第一通孔5进行流通，有利于整个非晶硅镀膜管内气流分布的均匀，从而实现炉管内镀膜的均匀性。
[0043] 在上述实施例的基础上，在本申请的一个实施例中，所述桨叶2具有多个所述第一通孔5，且多个所述第一通孔5呈阵列排布。
[0044] 可选的，在本申请的一个实施例中，多个第一通孔5均匀分布在桨叶2位于硅片镀膜设备炉口以外的区域，从而使得气流在桨叶2的各个部分流通性相同，进一步增强气流分布的均匀性，使硅片镀膜的均匀性进一步提高。
[0045] 优选地，在本申请的一个实施例中，所述斜连接板3具有至少一个贯穿所述斜连接板3的厚度的第二通孔6。
[0046] 需要指出的是，本实施例中对第二通孔6的形状不做具体限定，视情况而定。例如，第二通孔6的形状为圆形，或者矩形，或者三角形等。
[0047] 本实施例中第二通孔6的设置目的是，第二通孔6与第一通孔5实现联通，有助于气流的流动，从而增强气流分布的均匀性，使硅片镀膜的均匀性进一步提高。
[0048] 在上述实施例的基础上，在本申请的一个实施例中，所述斜连接板3具有多个所述第二通孔6，且多个所述第二通孔6呈阵列排布。
[0049] 可选的，在本申请的一个实施例中，多个第二通孔6均匀分布在斜连接板3上，增强气流在联通的第二通孔6和第一通孔5之间的流动均匀性，进一步提升非晶硅镀膜管内气流分布的均匀，从而进一步增强镀膜的均匀性。
[0050] 优选地，在本申请的一个实施例中，所述第一通孔5和所述第二通孔6均为圆形通孔，简化第一通孔5和第二通孔6制作工艺，提高制作效率。
[0051] 在上述任一实施例的基础上，在本申请的一个实施例中，所述桨的结构为一体式，以简化桨的制作工艺。
[0052] 本申请还提供一种硅片镀膜设备，所述硅片镀膜设备包括上述任一种所述的桨。
[0053] 本
说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其它实施例的不同之处，各个实施例之间相同或相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言，由于其与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。
[0054] 以上对本申请所提供的硅片镀膜设备及其桨进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以对本申请进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本申请
权利要求的保护范围内。
