熱處理裝置及熱處理方法
阅读：1026发布：2020-08-03
专利汇可以提供熱處理裝置及熱處理方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本發明提供一種可減少腔室內之污染之熱處理裝置及熱處理方法。 自鹵素燈HL對在腔室6內由 基座 74保持之半導體晶圓W之下表面進行光照射而預加熱之後，自閃光燈FL對上表面照射閃光而進行閃光加熱。將自氣體供給源85送給之處理氣體藉由加熱器22加熱並供給至腔室6內。又，藉由流量調整閥21增加供給至腔室6內之處理氣體之流量。藉由向腔室6內大流量地供給高溫之處理氣體而形成該氣流，可將於加熱處理時自半導體晶圓W之膜擴散之污染物質排出至腔室6外而減少腔室6內之污染。，下面是熱處理裝置及熱處理方法专利的具体信息内容。
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