一种用于制作多晶硅薄膜晶体管的方法
阅读：353发布：2024-01-12
专利汇可以提供一种用于制作多晶硅薄膜晶体管的方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且一种用于制作多晶 硅 薄膜 晶体管的方法，包括：在预制基底上形成 半导体 材料层；在半导体材料层上形成 中间层 ；在中间层上涂布光阻材料形成光阻层（7），并用光罩（8）对光阻层（7）进行第一次曝光；按一预定方向相对于光罩（8）移动具有第一次曝光处理后的光阻层（7）的预制基底，并采用光罩（8）对所述光阻层（7）进行第二次曝光；去除光阻层（7）上受到曝光的光阻材料，以在光阻层（7）上形成光阻区和镂空区，其中，光阻区包括中心部（71）和翼部（72），镂空区不包含光阻材料；在半导体材料层中形成对应于翼部（72）的离子轻掺杂区（11），以及对应于镂空区的用于形成源漏极的离子重掺杂区（10）。上述方法能够在制作ＬＴＰＳ面板时，减少面板的制作工序并能降低面板的生产成本。，下面是一种用于制作多晶硅薄膜晶体管的方法专利的具体信息内容。
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