首页 / 专利库 / 电脑图像 / 边缘检测 / 电池凹版涂布纠偏装置

电池凹版涂布纠偏装置

阅读:1发布:2020-09-16

专利汇可以提供电池凹版涂布纠偏装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本实用新型 实施例 提供了一种 电池 凹版涂布纠偏装置,包括正涂机构、反涂机构、设于所述正涂机构和反涂机构之间的纠偏机构以及设于所述纠偏机构上的第一探测器,所述第一探测器与所述纠偏机构电连接。本实用新型实施例通过在所述正涂机构和反涂机构之间设有纠偏机构和第一探测器,通过第一探测器对基材的 边缘检测 ,然后将基材的 位置 偏移量反馈给纠偏机构,纠偏机构进行反馈调节,提高基材涂布 精度 ,而且能自动完成纠偏操作,不需要人工手动进行纠偏,方便了员工的操作,行程稳定,结构简单。,下面是电池凹版涂布纠偏装置专利的具体信息内容。

1.一种电池凹版涂布纠偏装置,包括正涂机构和反涂机构,其特征在于,还包括:
纠偏机构,设于所述正涂机构和反涂机构之间;
第一探测器,设于所述纠偏机构上,所述第一探测器与所述纠偏机构电连接。
2.根据权利要求1所述的电池凹版涂布纠偏装置,其特征在于:所述纠偏机构包括纠偏版辊、用于驱动所述纠偏版辊移动对基材进行纠偏的第一驱动件以及第一微处理器,所述第一微处理器与所述第一驱动件和第一探测器电连接。
3.根据权利要求2所述的电池凹版涂布纠偏装置,其特征在于:还包括机架,所述正涂机构、反涂机构以及纠偏机构均设于所述机架上,所述正涂机构用于对基材正面进行涂布,所述反涂机构用于对基材反面进行涂布。
4.根据权利要求3所述的电池凹版涂布纠偏装置,其特征在于:所述正涂机构和纠偏机构之间还设有双层烤箱,所述双层烤箱包括下层烤箱和上层烤箱,所述基材依次经过正涂机构、下层烤箱、纠偏机构、反涂机构后进入所述上层烤箱。
5.根据权利要求4所述的电池凹版涂布纠偏装置,其特征在于:还包括:
第一调节机构,设于所述反涂机构与上层烤箱之间;
第二探测器,设于所述第一调节机构上,所述第二探测器与所述第一调节机构电连接。
6.根据权利要求5所述的电池凹版涂布纠偏装置,其特征在于:所述第一调节机构包括凹版辊、与所述凹版辊连接用于驱动所述凹版辊横向移动的第二驱动件以及第二微处理器,所述第二微处理器与所述第二驱动件和第二探测器电连接。
7.根据权利要求6所述的电池凹版涂布纠偏装置,其特征在于:所述第一驱动件和第二驱动件包括以下中的任意一种:电机气缸以及四杆组件。

说明书全文

电池凹版涂布纠偏装置

技术领域

[0001] 本实用新型涉及锂离子凹版底涂曾涂布机技术领域,特别涉及一种电池凹版涂布纠偏装置。

背景技术

[0002] 随着锂离子凹版底涂曾涂布机的应用,正负极涂石墨石墨烯在涂布生产工艺中的应用,对于高速底涂曾涂布机提出了越来越高的要求。为了提高电池的容量,箔,
材料越来越薄,铜箔材料极限达到了0.005mm的极限。在涂布过程中容易出现基材打皱或者
断带问题。
[0003] 未解决上述为题,现有的涂布机采用特殊的版辊。正反涂对位用两组电眼,检测基材间隙的对位,横向对位精度。间隙对位通过反涂版辊差速反馈调节,横向对位通过版辊横
向位移实现。横向对位之前,设置一组行进纠偏对正面涂布的基材进行纠偏控制。但是纠偏
过程控制中,容易造成S型,基材褶皱缺陷
[0004] 现有技术中,有采用手动纠偏调节辊,但是因为纠偏效果不能实施反馈,涂布速度不高,低于30米/min,铜箔厚度大于等于0.01mm,精度不高。
实用新型内容
[0005] 本实用新型要解决的技术问题在于针对现有技术中的不足之处,提供一种电池凹版涂布纠偏装置。
[0006] 为解决上述技术问题,本实用新型实施例提供了一种电池凹版涂布纠偏装置,包括正涂机构和反涂机构,还包括:
[0007] 纠偏机构,设于所述正涂机构和反涂机构之间;
[0008] 第一探测器,设于所述纠偏机构上,所述第一探测器与所述纠偏机构电连接。
[0009] 进一步地,所述纠偏机构包括纠偏版辊、用于驱动所述纠偏版辊移动对基材进行纠偏的第一驱动件以及第一微处理器,所述第一微处理器与所述第一驱动件和第一探测器
电连接。
[0010] 进一步地,还包括机架,所述正涂机构、反涂机构以及纠偏机构均设于所述机架上,所述正涂机构用于对基材正面进行涂布,所述反涂机构用于对基材反面进行涂布;
[0011] 进一步地,所述正涂机构和纠偏机构之间还设有双层烤箱,所述双层烤箱包括下层烤箱和上层烤箱,所述基材依次经过正涂机构、下层烤箱、纠偏机构、反涂机构后进入所
述上层烤箱。
[0012] 进一步地,还包括:
[0013] 第一调节机构,设于所述反涂机构与上层烤箱之间;
[0014] 第二探测器,设于所述第一调节机构上,所述第二探测器与所述第一调节机构电连接。
[0015] 进一步地,所述第一调节机构包括凹版辊、与所述凹版辊连接用于驱动所述凹版辊横向移动的第二驱动件以及第二微处理器,所述第二微处理器与所述第二驱动件和第二
探测器电连接。
[0016] 进一步地,所述第一驱动件和第二驱动件包括以下中的任意一种:电机气缸以及四杆组件。
[0017] 采用上述技术方案,本实用新型至少具有以下有益效果:本实用新型通过在所述正涂机构和反涂机构之间设有纠偏机构和第一探测器,通过第一探测器对基材的边缘检
测,然后将基材的位置偏移量反馈给纠偏机构,纠偏机构进行反馈调节,提高基材涂布精
度,而且能自动完成纠偏操作,不需要人工手动进行纠偏,方便了员工的操作,行程稳定,结
构简单。
附图说明
[0018] 图1是本实用新型电池凹版涂布纠偏装置一个实施例的立体结构示意图。
[0019] 图2是图1中A部分的放大示意图。
[0020] 其中:
[0021] 1、反涂机构;
[0022] 2、纠偏机构;
[0023] 3、第一探测器;
[0024] 4、机架;
[0025] 5、双层烤箱;
[0026] 6、第一调节机构;
[0027] 7、第二探测器;
[0028] 51、下层烤箱;
[0029] 52、上层烤箱;
[0030] 61、凹版辊;
[0031] 100、基材。

具体实施方式

[0032] 下面详细描述本实用新型的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参
考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本实用新型,而不能理解为对本实用新型
的限制。
[0033] 在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便
于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方
位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
[0034] 此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者
隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中,“多个”的含义是两个或两个
以上,除非另有明确具体的限定。
[0035] 在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可
以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是
两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语
在本实用新型中的具体含义。
[0036] 在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通
过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第
一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特
征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅
表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0037] 如图1至图2所示,本实用新型提供了一种电池凹版涂布纠偏装置,包括正涂机构(图未示)和反涂机构1,还包括:
[0038] 纠偏机构2,设于所述正涂机构和反涂机构1之间;
[0039] 第一探测器3,设于所述纠偏机构2上,所述第一探测器3与所述纠偏机构2电连接。
[0040] 在具体实施时,所述纠偏机构2包括纠偏版辊、用于驱动所述纠偏版辊移动对基材100进行纠偏的第一驱动件以及第一微处理器,所述第一微处理器与所述第一驱动件和第
一探测器3电连接。所述基材经过正涂机构进行正面涂布后经过纠偏机构2到反涂机构1进
行反面涂布,其中第一探测器3对位于正涂机构和反涂机构1之间的基材的边缘进行检测,
第一探测器3将反馈型号给纠偏机构2进行反馈调节,从而纠正基材100经过正涂机构之后
发生的偏移。
[0041] 本实施例通过在所述正涂机构和反涂机构1之间设有纠偏机构2和第一探测器3,通过第一探测器3对基材100的边缘检测,然后将基材100的位置偏移量反馈给纠偏机构2,
纠偏机构2进行反馈调节,提高基材100涂布精度,而且能自动完成纠偏操作,不需要人工手
动进行纠偏,方便了员工的操作,行程稳定,结构简单。
[0042] 在一个可选实施例中,还包括机架4,所述正涂机构、反涂机构1以及纠偏机构2均设于所述机架4上,所述正涂机构用于对基材100正面进行涂布,所述反涂机构1用于对基材
100反面进行涂布;
[0043] 在实施时,所述正涂机构设于机架4上,所述反涂机构1设于机架4上靠正涂机构一侧,所述纠偏机构2设于所述正涂机构和反涂机构1之间。
[0044] 本实施例通过将正涂机构、反涂机构1和纠偏机构2设于机架上,能有效提高基材100的行程稳定性
[0045] 在一个可选实施例中,所述正涂机构和纠偏机构2之间还设有双层烤箱5,所述双层烤箱5包括下层烤箱51和上层烤箱52,所述基材100依次经过正涂机构、下层烤箱51、纠偏
机构2、反涂机构1后进入所述上层烤箱52。
[0046] 在具体实施时,所述基材100经过正涂机构涂完正面后,经过双层烤箱5的下层烤箱51干燥,基材100出下层烤箱51后经过纠偏机构2,所述第一探测器3对基材的边缘进行检
测,将基材100的位置偏移来那个反馈给就机构2进行反馈调节,精度可至1mm,经过纠偏后
的基材100再通过反涂机构1进行反面涂布后通过上次烤箱52进行干燥。
[0047] 在一个可选实施例中,还包括:
[0048] 第一调节机构6,设于所述反涂机构2与上层烤箱52之间;
[0049] 第二探测器7,设于所述第一调节机构6上,所述第二探测器7与所述第一调节机构5电连接。
[0050] 在一个实施例中,所述第一调节机构6包括凹版辊61、与所述凹版辊61连接用于驱动所述凹版辊61横向移动的第二驱动件以及第二微处理器,所述第二微处理器与所述第二
驱动件和第二探测器7电连接。所述第二探测器7对基材的正、方面的图层进行色差检测,然
后将检测到的正反面的信号输出至第二微处理器进行相应的处理后,输出至所述第二驱动
件以驱动所述凹版辊61横向移动,从而使正面免底涂的间隙涂布,横向涂布进行调节。
[0051] 在一个可选实施例中,所述第一驱动件和第二驱动件包括以下中的任意一种:电机、气缸以及四杆组件。在具体实施时,所述第一驱动件和第二驱动件采用伺服电机,能有
效提高纠偏精度,提高产品品质。
[0052] 采用上述技术方案,本实用新型至少具有以下有益效果:本实用新型通过在所述正涂机构和反涂机构之间设有纠偏机构和第一探测器,通过第一探测器对基材的边缘检
测,然后将基材的位置偏移量反馈给纠偏机构,纠偏机构进行反馈调节,提高基材涂布精
度,而且能自动完成纠偏操作,不需要人工手动进行纠偏,方便了员工的操作,行程稳定,结
构简单。
[0053] 在本说明书的描述中,参考术语“一个实施方式”、“一些实施方式”、“一个实施例”、“一些实施例”、“一个可选实施例”、“具体地”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的
至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的
实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施
例或示例中以合适的方式结合。
[0054] 以上内容是结合具体的实施方式对本实用新型所作的进一步详细说明,不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员
来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干简单推演或替换。
高效检索全球专利

专利汇是专利免费检索,专利查询,专利分析-国家发明专利查询检索分析平台,是提供专利分析,专利查询,专利检索等数据服务功能的知识产权数据服务商。

我们的产品包含105个国家的1.26亿组数据,免费查、免费专利分析。

申请试用

分析报告

专利汇分析报告产品可以对行业情报数据进行梳理分析,涉及维度包括行业专利基本状况分析、地域分析、技术分析、发明人分析、申请人分析、专利权人分析、失效分析、核心专利分析、法律分析、研发重点分析、企业专利处境分析、技术处境分析、专利寿命分析、企业定位分析、引证分析等超过60个分析角度,系统通过AI智能系统对图表进行解读,只需1分钟,一键生成行业专利分析报告。

申请试用

QQ群二维码
意见反馈