高性能光伏硅片专用清洗液
专利汇可以提供高性能光伏硅片专用清洗液专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种高性能光伏 硅 片 专用清洗液，由高分子 羧酸 、有机胺、 表面活性剂 、络合剂、 腐蚀 抑制剂 、其它助剂、 水 组成。本发明清洗性能优异、使用安全、环保。，下面是高性能光伏硅片专用清洗液专利的具体信息内容。
1.一种高性能光伏硅片专用清洗液，其特征是：由下列重量组成组成：
高分子羧酸 2～4％
有机胺 3～5％
表面活性剂 15～40％
络合剂 5～15％
腐蚀抑制剂 0.2～1％
其它助剂 3～12％
水 余量。
2.根据权利要求1所述的高性能光伏硅片专用清洗液，其特征是：所述高分子羧酸是辛酸、正壬酸、癸二酸、己二酸、壬二酸、月桂二酸或油酸。
3. 根据权利要求1或2所述的高性能光伏硅片专用清洗液，其特征是：所述有机胺是一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、一异丙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺、吗啉、二环己胺、N-甲基吗啉、2-氨基-2-甲基-1-丙醇或二乙胺基乙醇。
4. 根据权利要求1或2所述的高性能光伏硅片专用清洗液，其特征是：所述表面活性剂是脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠（5～12）、脂肪醇聚氧乙烯醚（5～12）、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、聚氧乙烯聚氧丙烯醚（9～20）、烷基醇酰胺、脂肪醇聚氧乙烯酯（5～12）或磺酸盐。
5. 根据权利要求1或2所述的高性能光伏硅片专用清洗液，其特征是：所述络合剂是乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠或三聚磷酸钠。
6. 根据权利要求1或2所述的高性能光伏硅片专用清洗液，其特征是：所述腐蚀抑制剂是丁二酸衍生物、苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑、1H-1或2，4-三氮唑。
7. 根据权利要求1或2所述的高性能光伏硅片专用清洗液，其特征是：所述其它助剂是乙醇、丙醇、丁二醇、丙二醇、乙二醇单丁醚或丙二醇正丁醚。
高性能光伏硅片专用清洗液
技术领域
背景技术
发明内容
高分子羧酸 2～4％
有机胺 3～5％
表面活性剂 15～40％
络合剂 5～15％
腐蚀抑制剂 0.2～1％
其它助剂 3～12％
水 余量。
致死量LD50≥5000mg/kg，半致死浓度LC50≥5000mg/m，呼吸道粘膜刺激≤1级，具有可靠的安全卫生质量。可适用于超声波、喷流、浸渍等多种方式的清洗工艺，且不用加热（无能源消耗），常温下即可使用。
具体实施方式
三乙醇胺 3%
油酸 2%
脂肪醇聚氧乙烯醚（9） 12%
磺酸钠 5%
聚氧乙烯聚氧丙烯醚（12） 7%
丁二酸衍生物 0.5%
乙二胺四乙酸二钠 10%
丁二醇 7%
去离子水 余量。
高分子羧酸 2～4％（例2%、3%、4%）
有机胺 3～5％（例2%、3%、5%）
表面活性剂 15～40％（例15%、25%、40%）
络合剂 5～15％（例5%、10%、15%）
腐蚀抑制剂 0.2～1％（例0.2%、0.8%、1%）
其它助剂 3～12％（例3%、8%、12%）
水 余量。
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