UV刺激模型构建用的紫外辐照设备
阅读：234发布：2020-05-12
专利汇可以提供UV刺激模型构建用的紫外辐照设备专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本实用新型公开了一种UV刺激模型构建用的紫外辐照设备，其包括：中空的 箱体 ；设置在所述箱体中的 光源 系统，所述光源系统包括：沿着同一高度间隔预定距离设置的UVA光源和UVB光源，与所述光源系统中的每组光源相匹配的光源控制 开关 ，所述光源控制开关能控制所述光源与电源的连通状态； 温度 控制系统，包括：温度 控制器 、温度 传感器 和 风 扇，所述温度传感器用于检测所述箱体中温度，所述 温度控制 器与所述温度传感器电性连接，所述温度控制器能在所述温度传感器检测到所述箱体的温度超过预定温度时启动所述风扇。本实用新型提供的紫外辐照设备能够较佳地满足UV刺激模型构建的使用需求。，下面是UV刺激模型构建用的紫外辐照设备专利的具体信息内容。
1.一种UV刺激模型构建用的紫外辐照设备，其特征在于，包括：
中空的箱体；
设置在所述箱体中的光源系统，所述光源系统包括：沿着同一高度间隔预定距离设置的UVA光源和UVB光源，与所述光源系统中的每组光源相匹配的光源控制开关，所述光源控制开关能控制所述光源与电源的连通状态；
温度控制系统，包括：温度控制器、温度传感器和风扇，所述温度传感器用于检测所述箱体中温度，所述温度控制器与所述温度传感器电性连接，所述温度控制器能在所述温度传感器检测到所述箱体的温度超过预定温度时启动所述风扇。
2.如权利要求1所述的UV刺激模型构建用的紫外辐照设备，其特征在于，所述光源系统还包括UVC光源，所述UVC光源固定在所述箱体内用于对所述箱体内进行杀菌。
3.如权利要求1所述的UV刺激模型构建用的紫外辐照设备，其特征在于，所述紫外辐照设备还包括：紫外线监控系统，所述紫外线监控系统包括：紫外监控仪和可移动式紫外监控探头，所述紫外监控仪具有能显示所述箱体内紫外辐照时间和总辐照剂量的数显器。
4.如权利要求1所述的UV刺激模型构建用的紫外辐照设备，其特征在于，所述光源系统的UVB光源包括：第一UVB光源和第二UVB光源；所述光源系统的UVA光源包括：第一UVA光源和第二UVA光源；每个所述UVB光源具有两个UVB灯管；每个所述UVA光源具有一个UVA灯管，所述UVB灯管的辐照剂量小于所述UVA灯管的辐照剂量。
5.如权利要求4所述的UV刺激模型构建用的紫外辐照设备，其特征在于，所述第一UVA光源的灯管位于所述第一UVB光源的两个UVB灯管之间，所述第二UVA光源的灯管位于所述第二UVB光源的两个UVB灯管之间。
6.如权利要求5所述的UV刺激模型构建用的紫外辐照设备，其特征在于，所述紫外辐照设备UVA辐照剂量能达到：2.5mW/cm2，UVB辐照剂量能达到2mW/cm2。
7.如权利要求5所述的UV刺激模型构建用的紫外辐照设备，其特征在于，任意一组所述光源组控制的有效辐照面积达15×15cm2。
8.如权利要求1所述的UV刺激模型构建用的紫外辐照设备，其特征在于，光源系统还包括调节支架：调节支架具有升降杆和固定在所述升降杆上的支架，所述UVA光源和UVB光源固定在所述支架上。
9.如权利要求8所述的UV刺激模型构建用的紫外辐照设备，其特征在于，所述箱体内部的底面所在的平面为照射面，所述升降杆为螺旋式升降杆，所述升降杆每逆时钟旋转1圈，所述UVA光源和UVB光源距离所述照射面靠近0.5CM。
10.如权利要求9所述的UV刺激模型构建用的紫外辐照设备，其特征在于，所述调节支架还包括：刻度尺，所述刻度尺沿着高度方向竖直设置在所述升降杆一侧。
UV刺激模型构建用的紫外辐照设备
技术领域
[0001] 本实用新型涉及组织工程学生物材料技术领域，特别涉及一种UV刺激模型构建用的紫外辐照设备。
背景技术
[0002] UV刺激模型是在体外利用细胞或活体组织，通过模拟生物在太阳光或紫外线照射条件构建的研究模型。具体实验是对生长状态良好的细胞或活体组织施于一定剂量的紫外线或模拟太阳光，观察、检测细胞生长状态及其他指标变化，分析研究后用于指导开发体外诊断试剂、药品、化妆品等产品。
[0003] 现有紫外线辐照设备根据用途可分为两大类：第一类是治疗用的光疗仪，第二类是科研用紫外仪。但是无论是治疗用的光疗仪还是科研用的紫外仪都不是针对UV辐照模型构建而专门设计的，均无法完全适用于UV辐照模型构建。
[0004] 举例而言，治疗用的光疗仪，其主要用于特定皮肤病的治疗。如上海希格玛高技术有限公司生产的光疗仪，其具有多种产品系列。其中，光疗仪的一种系列为SH手持系列。由于该系列的光疗仪为一种手持设备，其无法控制光源与辐照物之间的距离导致辐照剂量无法控制，且仪器只能提供单一的光源，因此无法满足实验的需求。此外，光疗仪的另一种系列为SS系列，该系列光仪器，由于仪器体积和重量较大，且费用昂贵，无法在实验中使用。
[0005] 现有科研用的紫外分析仪，其主要包括三用紫外分析仪、暗箱式紫外分析仪、可照相紫外分析仪等系列，其原理是采用不同波长引进电泳分析、检测，PCR产物检测，DNA指纹图谱分析，纸层分析或薄层分析等。但是，该设备的紫外照射强度在10μW/cm2，在细胞上辐照剂量太小，而且照射面积不大，辐照强度不可调节，因此也不适合用于UV辐照模型构建。
[0006] 此外，中国专利CN203350170U公开了一种紫外线辐照细胞检测模型建立用紫外线辐照仪，该仪器可用于构建紫外线辐照产生的损伤细胞模型。但此设备有以下几个缺点：(1)光源为单一UVB光源，实验中无法切换光源，不能满足部分验证对光源的需求。(2)该设备是开放式设计，辐照时容易受杂光干扰，影响最终实验结果。(3)该设备没有温度控制系统，长时间照射会大量产热，导致局部温度过高，从而影响实验结果。(4)由于仪器本身的外形特点(台灯式)，所有灯管及镇流器均位于上方灯箱，而灯箱仅靠立柱上的螺栓固定，由于灯箱较重，长时间操作后会出现固定不住操作不便的问题。
[0007] 综上所述，非常有必要提供一种UV刺激模型构建用的紫外辐照设备，以克服现有仪器中的至少一个问题。实用新型内容
[0008] 本实用新型的目的是提供一种UV刺激模型构建用的紫外辐照设备，能够较佳地满足UV刺激模型构建的使用需求。
[0009] 本实用新型的上述目的可采用下列技术方案来实现：
[0010] 一种UV刺激模型构建用的紫外辐照设备，包括：中空的箱体；设置在所述箱体中的光源系统，所述光源系统包括：沿着同一高度间隔预定距离设置的UVA光源和UVB光源，与所述光源系统中的每组光源相匹配的光源控制开关，所述光源控制开关能控制所述光源与电源的连通状态；温度控制系统，包括：温度控制器、温度传感器和风扇，所述温度传感器用于检测所述箱体中温度，所述温度控制器与所述温度传感器电性连接，所述温度控制器能在所述温度传感器检测到所述箱体的温度超过预定温度时启动所述风扇。
[0011] 在一个优选的实施方式中，所述光源系统还包括UVC光源，所述UVC光源固定在所述箱体内用于对所述箱体内进行杀菌。
[0012] 在一个优选的实施方式中，所述紫外辐照设备还包括：紫外线监控系统，所述紫外线监控系统包括：紫外监控仪和可移动式紫外监控探头，所述紫外监控仪具有能显示所述箱体内紫外辐照时间和总辐照剂量的数显器。
[0013] 在一个优选的实施方式中，所述光源系统的UVB光源包括：第一UVB光源和第二UVB光源；所述光源系统的UVA光源包括：第一UVA光源和第二UVA光源；每个所述UVB光源具有两个UVB灯管；每个所述UVA光源具有一个UVA灯管，所述UVB灯管的辐照剂量小于所述UVA灯管的辐照剂量。
[0014] 在一个优选的实施方式中，所述第一UVA光源的灯管位于所述第一UVB光源的两个UVB灯管之间，所述第二UVA光源的灯管位于所述第二UVB光源的两个UVB灯管之间。
[0015] 在一个优选的实施方式中，所述紫外辐照设备UVA辐照剂量能达到：2.5mW/cm2，UVB辐照剂量能达到2mW/cm2。
[0016] 在一个优选的实施方式中，任意一组所述光源组控制的有效辐照面积达15×15cm2。
[0017] 在一个优选的实施方式中，光源系统还包括调节支架：调节支架具有升降杆和固定在所述升降杆上的支架，所述UVA光源和UVB光源固定在所述支架上。
[0018] 在一个优选的实施方式中，所述箱体内部的底面所在的平面为照射面，所述升降杆为螺旋式升降杆，所述升降杆每逆时钟旋转1圈，所述UVA光源和UVB光源距离所述照射面靠近0.5CM。
[0019] 在一个优选的实施方式中，所述调节支架还包括：刻度尺，所述刻度尺沿着高度方向竖直设置在所述升降杆一侧。
[0020] 本实用新型的特点和优点是：本申请所提供的UV刺激模型构建用的紫外辐照设备具有如下优点：
[0021] 1)、UVA和UVB双辐照光源设计，两组光源可单开也可双开模拟太阳光，可满足不同实验条件要求。
[0022] 2)、整体采用相对封闭的箱体结构，可最大限度排除外源光线对实验的影响，提高模型构建的准确性，同时也便于实验操作。
[0024] 4)、箱体中还设置有用于灭菌的UVC光源，保证箱体处于无菌条件。
[0025] 5)、仪器紫外线监控系统可以数显箱体内实时紫外强度(UVA或UVB)，紫外辐照时间和总辐照剂量。其中，紫外监控探头为可移动的检测探头，便于随时确定有效辐照面积和调节监控区域。
[0027] 图1是本申请实施方式中一种UV刺激模型构建用的紫外辐照设备立体结构示意图；
[0028] 图2是本申请实施方式中一种UV刺激模型构建用的紫外辐照设备的主视图；
[0029] 图3为一种利用本申请实施方式中所提供的UV刺激模型构建用的紫外辐照设备进行辐照后，不同辐照剂量下人黑素细胞OD值变化结果；
[0030] 图4为另一种利用本申请实施方式中所提供的UV刺激模型构建用的紫外辐照设备进行辐照后，不同辐照剂量下人黑素细胞OD值变化结果。
[0031] 附图标记说明：
[0032] 100、箱体；101、箱门；1、螺旋式升降杆；2、温度控制系统；3、紫外线监控系统；4、操控区域；41、第一光源控制开关；42、第二光源控制开关；43、第三光源控制开关；44、第四光源控制开关；45、第五光源控制开关；46、电源控制开关；51、第一UVB光源；52、第二UVB光源；61、第一UVA光源；62、第二UVA光源；7、刻度尺；8、UVC光源；9、风扇。
具体实施方式
[0033] 下面将结合附图和具体实施方式，对本实用新型的技术方案作详细说明，应理解这些实施方式仅用于说明本实用新型而不用于限制本实用新型的范围，在阅读了本实用新型之后，本领域技术人员对本实用新型的各种等价形式的修改均落入本申请所附权利要求所限定的范围内。
[0034] 需要说明的是，当元件被称为“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
[0035] 除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本申请。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0036] 本实用新型提供一种UV刺激模型构建用的紫外辐照设备，能够较佳地满足UV刺激模型构建的使用需求。
[0037] 请参阅图1至图2，本申请实施方式中提供的一种UV刺激模型构建用的紫外辐照设备可以包括：中空的箱体100；设置在所述箱体100中的光源系统和温度控制系统2。所述光源系统包括：沿着同一高度间隔预定距离设置的UVA光源和UVB光源，与所述光源系统中的每组光源相匹配的光源控制开关，所述光源控制开关能控制所述光源与电源的连通状态。所述温度控制系统2包括：温度控制器、温度传感器和风扇9，所述温度传感器用于检测所述箱体100中温度，所述温度控制器与所述温度传感器电性连接，所述温度控制器能在所述温度传感器检测到所述箱体100的温度超过预定温度时启动所述风扇9。
[0038] 本实用新型所述的UV刺激模型构建用的紫外辐照设备整体为一个暗箱结构，其可以包括：箱体100，光源系统、温度控制系统2、光源控制开关。进一步的，该紫外辐照设备还可以包括紫外线监控系统3等。
[0039] 本说明书提供的箱体100可以为中空的结构，其具有相对的前面板和后面板、相对的左侧面板和右侧面板、相对的顶板和底板。其中，在该前面板上可以设置有操控区域4和开合区域。具体的，该开合区域可以通过铰接的方式设置有箱门101。
[0040] 在一个实施方式中，该光源系统可以包括三种不同波长的光源，包括UVA光源、UVB光源和UVC光源8。其中，UVA光源、UVB光源沿着同一高度间隔预定距离设置，UVA光源、UVB光源均与箱体100的内底面平行。每组光源分别配有不同的控制开关；由控制开关控制光源与电源的连通状态。
[0041] 在本实施方式中，所述光源系统的UVB光源的组数可以根据实际需要进行设置，其可以为一组，可以为两组，也可以为更多组。具体的，以两组为例，所述光源系统的UVB光源可以包括：第一UVB光源51和第二UVB光源52。同样的，所述光源系统的UVA光源的组数可以根据实际需要进行设置，其可以为一组，可以为两组，也可以为更多组。具体的，以两组为例，所述光源系统的UVA光源可以包括：第一UVA光源61和第二UVA光源62。
[0042] 每个所述UVB光源具有两个UVB灯管；每个所述UVA光源具有一个UVA灯管，所述UVB灯管的辐照剂量小于所述UVA灯管的辐照剂量。所述第一UVA光源61的灯管位于所述第一UVB光源51的两个UVB灯管之间，所述第二UVA光源62的灯管位于所述第二UVB光源52的两个UVB灯管之间，从而保证作为单灯管的UVA光源的有效照射面积。
[0043] 上述UVA灯管和UVB灯管的个数主要受实验剂量的要求、单个灯管辐照剂量和整体辐照剂量参数的影响。当灯管的辐照剂量以及整体的辐照剂量参数发生改变时，该灯管的个数可以作适应性地增加或减少。
[0044] 例如，在光源与照射面距离不变的情况下(例如，19.5cm)，单个UVA灯管辐照剂量可以达0.732mW/cm2。基于实验中UVA光源的剂量要求，该UVA光源采用现有的单灯管已经可以满足实验要求，并且该单灯管的UVA光源计量有效照射面积可达到15cm×15cm。两个UVB灯管形成的(双灯管)UVB光源的辐照剂量为0.312mW/cm2。基于UVB光源组辐照剂量参数，UVB光源可以为双灯管的形式，从而满足实验需求。
[0045] 根据到达地球紫外线波长的分类：长波紫外线UVA(320nm-400nm)；中波紫外线UVB(280nm-320nm)。本说明书中的UVA光源可以选用飞利浦的PL-S 9W/10/2P灯管，该灯管能发射出波长为300nm-400nm，波峰是365nm；本说明书中的UVB光源可以选用飞利浦的PL-S 9W/01/2P灯管，该灯管发射出波长为300-320nm，波峰是311nm。
[0046] 经过测定，本申请所提供的紫外辐照设备的光源系统具有足够的照射面积。任意一组所述光源组控制的有效辐照面积达15×15cm2。具体的，所述紫外辐照设备UVA辐照剂量能达到：2.5mW/cm2，UVB辐照剂量能达到2mW/cm2，可满足不同辐照剂量实验条件要求。
[0047] 在一个具体的实施方式中，如图1所示，该光源系统由6个灯管构成，从箱体100的正面从左往右分别是：UVB1、UVA1、UVB2、UVB3、UVA2、UVB4。一般的，UVA能量较强，UVB能量较弱，UVA光源和UVB光源间隔排列可保证一定面积下辐照强度。相邻两个光源之间的预定距离主要受箱体100大小限制。按照上述排列方式，理论上可无限度扩大箱体100的尺寸。
[0048] 其中，灯管UVB1、灯管UVB2组成第一UVB光源51，灯管UVB3和UVB4组成第二UVB光源52。此外，灯管UVB1和UVB4也可以组成第一UVB光源51；灯管UVB2和灯管UVB3可以组成第二UVB光源52。也就是说，在本说明书中，四个UVB灯管可以两两进行组合形成两个UVB光源，具体的组合方式本申请在此并不作具体的限定。灯管UVA1形成第一UVA光源61，灯管UVA2形成第二UVA光源62。光源系统针对每个光源设置有相匹配的光源控制开关，所述光源控制开关能控制所述光源与电源的连通状态。
[0049] 具体的，控制上述各个光源与电源连通的控制开关的个数与光源的组数相匹配。该控制开关可以为控制按钮的形式，其可以包括：用于控制第一UVA光源61的第一光源控制开关41；用于控制第二UVA光源62的第二光源控制开关42；用于控制第一UVB光源51的第三光源控制开关43和用于控制第二UVB光源52的第四光源控制开关44。此外，针对UVC光源8，对应设置有用于控制该UVC光源8与电源之间连通状态的第五光源控制开关45。对于电源其也可以设置有对应的电源控制开关46，用于控制电源的开启和关闭状态。
[0050] 上述第一光源控制开关41、第二光源控制开关42、第三光源控制开关43、第四光源控制开关44、第五光源控制开关45和电源控制开关46都可以集中设置在前面板的操控区域4。
[0051] 该温度控制系统2可以包括：温度控制器、温度传感器和风扇9。所述温度传感器用于检测所述箱体100中的温度。所述温度控制器与所述温度传感器电性连接。所述温度控制器能在所述温度传感器检测到所述箱体100的温度超过预定温度时启动所述风扇9。
[0052] 温度控制器具体可以为智能数码温度控制器，该温度控制器可以将温度传感器检测到的当前箱体100内的实时温度在显示面板上进行显示。具体的，该显示面板可以设置在前面板的操控区域4中。该风扇9可以为双风扇，即风扇9的个数可以为两个。两个风扇9可以分布在箱体100不同的位置，从而对箱体100进行均匀、高效地降温。当然，该风扇9的个数并不限于上述距离，其还可以为更多个，本申请在此并不作具体的限定。
[0053] 在该温度传感器检测到当前箱体100的温度超过预定温度的情况下，该温度控制器启动风扇9，对箱体100进行降温。该温度控制器可以根据当前箱体100的温度确定风扇9启动的个数和风扇9的转速等参数。其中，该预定温度可以根据实验需要进行设定，其具体数值本申请在此并不作唯一限定。
[0054] 例如，在当前箱体100的温度比较高时，可以同时启动多个风扇9，并且每个风扇9以较高的转速运转，从而将箱体100的温度迅速降低。在当前箱体100的温度略高于预定温度时，可以较低的转速启动其中一个风扇9，从而将箱体100的温度进行控制。
[0055] 如图1所示，所述紫外辐照设备还可以包括：紫外线监控系统3。所述紫外线监控系统3可以包括：紫外监控仪和可移动式紫外监控探头。所述紫外监控仪具有能显示所述箱体100内实时紫外强度(UVA\UVB)，紫外辐照时间和总辐照剂量的数显器。该紫外监控探头为可移动的检测探头，便于随时确定有效辐照面积和调节监控区域。具体的，该紫外监控探头可以设置在该箱体100的内壁上，通过卡槽配合的方式进行限位和移动。
[0056] 在一个实施方式中，该光源系统还包括调节支架，所述调节支架具有升降杆和固定在所述升降杆上的支架。所述UVA光源和UVB光源固定在所述支架上。使用时，通过调节该升降杆，可以带动该支架上下移动，从而调节UVA光源和UVB光源的高度。
[0057] 具体的，该升降杆具体可以为螺旋式升降杆1，该螺旋式升降杆1每逆时钟旋转1圈，UVA光源和UVB光源距离照射面靠近0.5CM。其中，所述箱体100内部的底面所在的平面为照射面。
[0058] 螺旋式升降杆1的升降操作机构可以是手摇式直线导轨滑台。该手摇式直线导轨滑台具体结构可以为滚珠丝杆直线模组的形式，其有效行程可以为200mm。该螺旋式升降杆1的调节精度和有效行程能够全方面满足光源距离调节的实验需求。
[0059] 所述调节支架还包括：刻度尺7，所述刻度尺7沿着高度方向竖直设置在所述升降杆一侧。当通过该螺旋式升降杆1调节完UVA光源和UVB光源与照射面之间的距离后，可以通过该刻度尺7记录当前UVA光源和UVB光源与照射面之间的距离，可保证在灯管衰减时仍能快速、准确的调整辐照剂量，最大限度的利用设备。
[0060] 在一个具体的应用场景下，将本说明书中提供的紫外辐照设备应用于建立人皮肤黑素细胞刺激模型，具体操作如下：
[0061] 首先，将紫外辐照设备放入超净台中，连接电源，记录光源到照射面高度，依次打开电源控制开关46和第五光源控制开关45，启动该UVC光源8，对箱体100杀菌5min后，关闭第五光源控制开关45，打开箱门101，放入样品，打开按实验条件施加的光源组，关闭箱门101，待紫外辐照剂量达到实验所需剂量时，关闭光源开关，取出样品。
[0062] 调整光源距离照射面距离，具体为20.4cm。打开对应的UVB光源。此紫外辐照设备的UVB光源达到15mJ的照射时间是56s，此紫外辐照设备UVA光源达到50mJ的照射时间是73s。
[0063] 保持紫外辐照设备光源距离照射面距离为20.4cm，对人皮肤黑素细胞分别施加不同剂量的中波紫外线(UVB)后，继续培养后以MTT法测定细胞的OD值来评价紫外对细胞的刺激程度。
[0064] 将人皮肤黑素细胞以4000/孔密度接种于96孔板中，分别施加不同剂量的中波紫外线(UVB)后，紫外线剂量分别为0mJ，5mJ，10mJ，15mJ，20mJ，25mJ。紫外辐照设备的照射时间分别为0s，21s，39s，56s，70s，82s，照射完毕后继续培养48h，观察细胞生长状态，用MTT法在490nm处读取吸光度值，实验结果如图3所示。实验证明：不同剂量的UVB照射黑色素细胞后，当给与剂量为15mJ，吸光度值居于显著性，说明在此剂量下，可以明显的促进人皮肤黑素细胞的增殖。
[0065] 保持紫外辐照设备光源距离照射面距离为20.4cm，关闭UVB光源，打开相应的UVA光源，对人皮肤黑素细胞分别施加不同剂量的长波紫外线(UVA)后，继续培养后以MTT法测定细胞的OD值来评价紫外对细胞的刺激程度。
[0066] 将人皮肤黑素细胞以4000/孔接种于96孔板中，分别施加不同剂量的长波紫外线(UVA)后，紫外线剂量分别为0mJ，50mJ，100mJ，150mJ，200mJ，250mJ。紫外辐照设备的照射时间分别为0s，73s，145s，215s，287s，357s，照射完毕后继续培养48h，观察细胞生长状态，用MTT法在490nm处读取吸光度值，实验结果如图4。实验证明：不同剂量的UVA照射黑色素细胞后，当给与剂量为100mJ，吸光度值居于显著性，说明在此剂量下，可以明显的促进人皮肤黑素细胞的增殖。
[0067] 整体上，本申请所提供的UV刺激模型构建用的紫外辐照设备具有如下优点：
[0068] 1)、UVA和UVB双辐照光源设计，两组光源可单开也可双开模拟太阳光，可满足不同实验条件要求。
[0069] 2)、整体采用相对封闭的箱体100结构，可最大限度排除外源光线对实验的影响，提高模型构建的准确性，同时也便于实验操作。
[0070] 3)、仪器的温控系统可以实时监控和调节实验的环境温度，提高实验条件的稳定性，降低实验系统误差。
[0071] 4)、箱体100中还设置有用于灭菌的UVC光源8，保证箱体100处于无菌条件。
[0072] 5)、仪器紫外线监控系统3可以数显箱体100内实时紫外强度(UVA或UVB)，紫外辐照时间和总辐照剂量。其中，紫外监控探头为可移动的检测探头，便于随时确定有效辐照面积和调节监控区域。
[0073] 6)、箱体100顶部的螺旋式升降杆1调节光源与箱内底部照射面的距离，并通过刻度尺7记录距离数据，可保证在灯管衰减时仍能快速、准确的调整辐照剂量，最大限度的利用设备。
[0074] 本说明书中的上述各个实施方式均采用递进的方式描述，各个实施方式之间相同相似部分相互参照即可，每个实施方式重点说明的都是与其他实施方式不同之处。
[0075] 以上所述仅为本实用新型的几个实施方式，虽然本实用新型所揭露的实施方式如上，但所述内容只是为了便于理解本实用新型而采用的实施方式，并非用于限定本实用新型。任何本实用新型所属技术领域的技术人员，在不脱离本实用新型所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施方式的形式上及细节上作任何的修改与变化，但本实用新型的专利保护范围，仍须以所附权利要求书所界定的范围为准。
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