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시트 유리의 제조 방법 및 시트 유리 제조 장치{METHOD AND APPARATUS FOR MAKING SHEET GLASS}
본 발명은, 시트 유리를 만드는 시트 유리의 제조 방법 및 시트 유리 제조 장치에 관한 것이다.
최근, 디스플레이 패널의 분야에서는, 화질의 향상을 위해 화소의 고정밀화가 진전되고 있다. 이 고정밀화의 진전에 수반하여, 디스플레이 패널의 유리 기판에 사용하는 시트 유리에도 치수 정밀도가 높은 것이 요망되고 있다. 예를 들어, 시트 유리를 디스플레이의 유리 기판으로서 사용하는 경우, 이 시트 유리에, 디스플레이 패널의 제작을 위해, a-SiㆍTFT(Amorphous Silicon Thin Film Transistor)가 아니라, 저온 폴리실리콘(Low-temperature Poly Silicon, 이하, LTPS라고 함)ㆍTFT나 산화물 반도체를 형성하는 경우, a-SiㆍTFT와 비교하여, 보다 고온의 열처리가 행해진다. 이로 인해, 열처리에 의한 시트 유리의 열수축이 커지고, 그 결과, 시트 유리 상에 형성된 TFT 회로의 위치 어긋남이 생기는 일이 없도록, 디스플레이 패널에 사용하는 시트 유리는 열수축률이 낮은 것이 요망되고 있다. 일반적으로, 시트 유리의 열수축률은, 유리의 변형점이나 서냉점이 높을수록 작아진다. 이로 인해, 무알칼리의 보로알루미늄실리케이트이며, 서냉점을 높게 함으로써 양호한 치수 안정성을 실현한 유리 조성물이 알려져 있다(특허문헌 1). 구체적으로는, 유리는 산화물 기준의 몰 퍼센트로 나타내어, 70 내지 74.5％의 SiO 2 , 10.5 내지 13.5％의 Al 2 O 3 , 0 내지 2.5％의 B 2 O 3 , 3 내지 7％의 MgO, 3 내지 7％의 CaO, 0 내지 4％의 SrO, 1.5 내지 6％의 BaO, 0 내지 0.3％의 SnO 2 , 0 내지 0.3％의 CeO 2 , 0 내지 0.5％의 As 2 O 3 , 0 내지 0.5％의 Sb 2 O 3 , 0.01 내지 0.08％의 Fe 2 O 3 및 F＋Cl＋Br을 포함하고, RO/Al 2 O 3 ≤1.7 및 0.2≤MgO/RO≤0.45이며, RO는, MgO, BaO, SrO 및 CaO의 합계이다.
일본 특허 공표 제2014-503465호 공보
그러나, 열수축률의 저감을 위해, 유리의 변형점이나 서냉점이 높아지도록 유리 조성을 변경하면, 유리 원료의 용융 온도가 높아져, 실투 온도가 높아지는 경향이 있다. 이로 인해, 시트 유리를 제작하는 것은 어려워져, 수율은 저하된다. 특히, 성형 시의 용융 유리의 온도가 플로트법 등에 비해 낮은 퓨전법(오버플로우 다운드로법)에서는, 상기 실투의 문제가 커진다. 따라서, 본 발명은, 상기 시트 유리의 제작을 곤란하게 하는 일 없이, 고정밀 디스플레이의 패널에 사용하는 것이 가능한, 열수축률이 낮은 시트 유리를 제작하는 시트 유리의 제조 방법 및 시트 유리 제조 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 형태는, 시트 유리의 제조 방법 및 시트 유리 제조 장치를 포함한다. 당해 제조 방법 및 장치는, 이하의 형태를 포함한다. (제1 형태) 가열 처리를 실시하여 표면에 박막을 형성하기 위한 디스플레이용 유리 기판에 사용되는 시트 유리의 제조 방법으로서, 용융 유리로부터 성형한 시트 유리를 서냉하여 얻은 열수축률이 35ppm 이하의 시트 유리를 재가열해서 소정 온도로 열처리한 후에 서냉함으로써, 상기 열수축률을 10ppm 이하로 저감시키는 재서냉 공정을 구비하고, 상기 소정 온도는, 상기 박막을 형성하는 상기 가열 처리의 온도보다도 250℃ 높은 온도 이하의 온도인 것을 특징으로 하는 시트 유리의 제조 방법. 단, 상기 열수축률이란, 승강온 속도를 10℃/분으로 하고, 450℃에서 1시간 온도를 유지하여 열처리가 실시된 후의 유리의 열수축량을 사용해서, 다음 식에 의해 구해지는 값이다. 열수축률(ppm)=(열처리 후의 유리 샘플의 열수축량/열처리 전의 유리 샘플의 길이)×10 6 (제2 형태) 용융 유리를 시트 유리로 성형하는 성형 공정과, 성형한 시트 유리를 서냉함으로써, 열수축률이 35ppm 이하의 시트 유리를 만드는 냉각 공정과, 서냉한 시트 유리를 재가열한 후에 서냉하는 열처리를 실시하여, 상기 열수축률을 10ppm 이하로 저감시키는 재서냉 공정을 구비하고, 상기 열처리는 시트 유리의 변형점보다 70℃ 낮은 온도 이하의 온도로 행하는 것을 특징으로 하는 시트 유리의 제조 방법. (제3 형태) 상기 시트 유리는, 상기 시트 유리의 폭 방향의 양단부의 영역인 측부와, 상기 측부보다도 상기 시트 유리의 폭 방향 내측에 있고, 상기 시트 유리의 폭 방향의 중심부를 포함하는 영역인 중앙 영역을 포함하고, 상기 열수축률이 35ppm 이하의 시트 유리는, 적어도 상기 중심부의 온도가 서냉점으로부터 상기 변형점보다 100℃ 낮은 온도로 될 때까지, 상기 중앙 영역을 평균 냉각 속도 0.5 내지 5.0℃/초로 냉각함으로써 얻는, 제1 형태 또는 제2 형태에 기재된 시트 유리의 제조 방법. (제4 형태) 성형한 상기 시트 유리는, 상기 시트 유리의 폭 방향의 양단부 영역인 측부와, 상기 측부보다도 상기 시트 유리의 폭 방향 내측에 있고, 상기 시트 유리의 폭 방향의 중심부를 포함하는 영역인 중앙 영역을 포함하고, 상기 열수축률이 35ppm 이하의 시트 유리는, 적어도, 상기 중심부의 온도가 서냉점으로 될 때까지, 상기 중앙 영역을 제1 평균 냉각 속도로 냉각하는 제1 냉각 공정과, 상기 중심부의 온도가 상기 서냉점으로부터 변형점으로 될 때까지, 상기 중앙 영역을 제2 평균 냉각 속도로 냉각하는 제2 냉각 공정과, 상기 중심부의 온도가 상기 변형점으로부터, 상기 변형점보다 100℃ 낮은 온도로 될 때까지, 상기 중앙 영역을 제3 평균 냉각 속도로 냉각하는 제3 냉각 공정을 포함하는 냉각 공정을 행함으로써 얻고, 상기 제3 평균 냉각 속도는, 상기 제2 평균 냉각 속도보다 느린, 제1 형태 내지 제3 형태 중 어느 하나의 형태에 기재된 시트 유리의 제조 방법. (제5 형태) 서냉한 상기 시트 유리를 소정의 사이즈로 절단하는 절단 공정을 구비하고, 상기 재서냉 공정은, 상기 절단 공정 후에 행해지는, 제1 형태 내지 제4 형태 중 어느 하나의 형태에 기재된 시트 유리의 제조 방법. (제6 형태) 서냉한 시트 유리를 소정의 사이즈로 절단하는 절단 공정을 더 구비하고, 소정의 사이즈로 절단한 시트 유리를 복수매 적층해서 상기 열처리를 행하는, 제1 형태 내지 제5 형태 중 어느 하나의 형태에 기재된 시트 유리의 제조 방법. (제7 형태) 서냉한 시트 유리를 소정의 사이즈로 절단하는 절단 공정을 더 구비하고, 소정의 사이즈로 절단해서 얻어진 복수의 시트 유리를 매양식으로 상기 열처리를 행하는, 제1 형태 내지 제5 형태 중 어느 하나의 형태에 기재된 시트 유리의 제조 방법. (제8 형태) 상기 시트 유리의 변형점은 600℃ 내지 720℃인, 제1 형태 내지 제7 형태 중 어느 하나의 형태에 기재된 시트 유리의 제조 방법. (제9 형태) 상기 재서냉 공정은, 상기 열처리를 행하는 소정 온도까지 시트 유리를 가열하는 가열 공정과, 소정 온도로 열처리를 행하는 열처리 공정과, 상기 열처리 후에 시트 유리를 서냉하는 강온 공정을 구비하고, 상기 강온 공정은, 상기 시트 유리의 중심부의 온도가 상기 소정 온도로부터 상기 소정 온도의 온도보다도 100℃ 낮은 온도로 될 때까지의 강온 속도를 제1 강온 속도로 하고, 상기 시트 유리의 중심부의 온도가 상기 소정 온도보다도 100℃ 낮은 온도 미만으로부터 상기 소정 온도보다도 300℃ 낮은 온도로 될 때까지의 강온 속도를 제2 강온 속도로 한 경우에, 제1 강온 속도보다도 제2 강온 속도는 빠른, 제1 형태 내지 제8 형태 중 어느 하나의 형태에 기재된 시트 유리의 제조 방법. (제10 형태) 용융 유리로부터 성형한 시트 유리를 서냉함으로써 얻은 열수축률이 35ppm 이하의 시트 유리를 재가열한 후에 서냉하는 열처리를 실시하여, 상기 열수축률을 10ppm 이하로 저감시키는 재서냉 공정을 구비하고, 상기 열처리는 시트 유리의 변형점보다 70℃ 낮은 온도 이하의 온도로 행하는 것을 특징으로 하는 시트 유리의 제조 방법. (제11 형태) 상기 시트 유리는, 액정 디스플레이용 유리 기판, 유기 EL(Electro-Luminescence) 디스플레이용 유리 기판, 혹은 LTPS(Low Temperature Poly-silicon) 박막 반도체를 사용한 디스플레이용 유리 기판으로서 사용되는, 제1 형태 내지 제10 형태 중 어느 하나의 형태에 기재된 시트 유리의 제조 방법. (제12 형태) 용융 유리를 시트 유리로 성형하는 성형체와, 성형한 시트 유리를 서냉함으로써, 열수축률이 35ppm 이하의 시트 유리를 만드는 냉각 장치와, 상기 서냉한 시트 유리를 재가열한 후에 서냉하는 열처리를 실시하여, 상기 열수축률을 10ppm 이하로 저감시키는 재서냉 장치를 구비하고, 상기 열처리는 시트 유리의 변형점보다 70℃ 낮은 온도 이하의 온도로 행하는 것을 특징으로 하는 시트 유리 제조 장치. (제13 형태) 상기 시트 유리는, 액정 디스플레이용 유리 기판, 유기 EL(Electro-Luminescence) 디스플레이용 유리 기판, 혹은 LTPS(Low Temperature Poly-silicon) 박막 반도체를 사용한 디스플레이용 유리 기판으로서 사용되는, 제12 형태에 기재된 시트 유리 제조 장치. 또한, 열수축률은, 이하의 방법에 의해 측정된다. 시트 유리로부터 소정의 사이즈의 직사각형 시험편으로 잘라내고, 긴 변 양단부 사이의 길이를 계측한다. 다음에, 잘라낸 시험편을 짧은 변 중앙부에서 절반으로 절단하고, 2개의 유리 샘플을 얻는다. 2개의 유리 샘플의 한쪽의 단부로부터 동일한 거리의 위치에 스크라이브 라인을 새긴다. 이 중의 한쪽의 유리 샘플을, 실온(20℃) 내지 10℃/분의 승온 속도로 승온해서 450℃로 승온한 후, 450℃에서 1시간 방치하고, 그 후, 10℃/분으로 실온까지 강온한다. 그 후, 가열한 한쪽의 유리 샘플과 가열하지 않은 다른 쪽의 유리 샘플의 한쪽의 단부를 위치 정렬하여, 2개의 스크라이브 라인의 위치 어긋남 거리를 측정하고, 이 위치 어긋남 거리를 열수축량으로 한다. 열수축량은 레이저 현미경 등에 의해 측정된다. 이 열수축량과, 열처리 전의 유리 샘플의 길이를 사용해서, 이하의 식에 의해 열수축률을 구한다. 이 유리 샘플의 열수축률을 시트 유리의 열수축률로 한다. 열수축률(ppm)=(열수축량)/(열처리 전의 유리 샘플의 길이)×10 6
상술한 시트 유리의 제조 방법 및 시트 유리 제조 장치에 의하면, 수율을 저하시키지 않고, 시트 유리의 제작을 곤란하게 하는 일 없이, 고정밀 디스플레이의 패널에 사용하는 것이 가능한, 열수축률이 낮은 시트 유리를 제작할 수 있다.
도 1은 본 실시 형태에 관한 시트 유리의 제조 방법의 흐름도이다.
도 2는 시트 유리의 제조 방법에서 사용되는 시트 유리 제조 장치를 도시하는 모식도이다.
도 3은 성형 장치의 개략의 개략도(단면도)이다.
도 4는 성형 장치의 개략의 개략도(측면도)이다.
도 5는 시트 유리의 소정의 높이 위치에 있어서의 온도 프로파일을 도시하는 도면이다.
도 6은 시트 유리의 제조 방법에서 행하는 재서냉 공정의 열처리를 설명하는 도면이다.
도 7은 본 실시 형태에 있어서의 재서냉 공정의 열처리의 온도 이력의 일례를 나타내는 도면이다.
도 8은 도 6에 도시하는 열처리와는 다른 형태의 예를 설명하는 도면이다.
(시트 유리의 제조 방법의 개요) 본 실시 형태의 시트 유리의 제조 방법은, 용융 유리로부터 성형한 시트 유리를 서냉하는 냉각 공정을 행함으로써, 열수축률이 35ppm 이하, 바람직하게는 30ppm 이하의 시트 유리를 만든다. 이 후, 서냉한 시트 유리에 더 서냉한 시트 유리를 재가열한 후에 서냉하는 열처리를 실시하여, 열수축률을 10ppm 이하로 저감시키는 재서냉 공정을 행한다. 이 재서냉 공정은, 시트 유리의 변형점보다 70℃ 낮은 온도 이하의 온도로 행해진다. 이후, 시트 유리의 변형점보다 70℃ 낮은 온도를, 시트 유리의 변형점[℃]－70[℃]로 나타낸다. 본 명세서에서는, 반도체 박막 등의 박막이 형성되기 전의 유리판을 시트 유리라고 하고, 박막이 표면에 형성된 유리판을 유리 기판이라고 한다. 이로 인해, 시트 유리는 박막 형성 전의 소판이다. 본 실시 형태에서는, 시트 유리의 냉각 공정에 있어서, 열수축률이 35ppm 이하로 되도록 시트 유리를 냉각함과 함께, 시트 유리가 성형 공정에서 실투하지 않는 정도의 실투 온도를 갖는 유리가 되도록 유리 조성이 선택된다. 그러나, 이와 같은 유리 조성을 갖는 시트 유리의 열수축률은, 고정밀 디스플레이용의 유리 기판에 요구되는 열수축률을 충족하지 않는다. 이로 인해, 본 실시 형태에서는, 시트 유리의 변형점[℃]－70[℃] 이하의 온도에서 재서냉 공정을 행한다. 종래의 재서냉 공정에서는, 시트 유리를 서냉점 혹은 변형점 이상까지 가열해서 열처리를 하므로, 열처리 후의 시트 유리의 열수축률은, 고정밀 디스플레이용 유리 기판에 요구되는 열수축률을 충족하는 정도로 저하된다. 그러나, 상기 재서냉 공정은 장시간을 필요로 하므로, 시트 유리의 생산 효율은 저하된다. 또한, 종래의 재서냉 공정에서는, 시트 유리는, 예를 들어, 시트 유리의 변형점으로부터 서냉점이 되는 온도의 범위까지 재가열되므로, 냉각 공정 중, 시트 유리의 평균 냉각 속도를 조정해서 열수축률을 35ppm 이하로 하는 처리는 불필요하게 된다. 또한, 재서냉 공정에 있어서, 시트 유리의 변형점으로부터 서냉점이 되는 온도의 범위까지 재가열하고, 그 후 서냉하는 경우, 시트 유리의 면 내 온도를 효율적으로, 또한, 균일하게 냉각하는 것이 어려워, 결과적으로 시트 유리의 변형이나 휨이 악화되어 버린다고 하는 문제가 있었다. 이로 인해, 시트 유리의 냉각 공정을 조정해서 열수축률을 낮게 한 시트 유리를 유효하게 사용해서 효율적으로 재서냉 공정을 행함으로써, 열수축률을 저하시키는(10ppm 이하로 하는) 것이 바람직하다. 본 실시 형태는, 냉각한 시트 유리를, 예를 들어 시트 유리의 변형점[℃]－70[℃] 이하의 온도로 열처리하는 재서냉 공정을 더 구비한다. 시트 유리의 변형점[℃]－70[℃] 이하의 온도의 열처리에서는, 시트 유리의 냉각 공정 중의 열이력에 기인해서 저하된 열수축률을 살리면서, 유리가 현시점에서 갖는 열수축률로부터 열처리에 의해 열수축률이 저하된다. 이로 인해, 냉각한 시트 유리의 35ppm 이하의 열수축률을 유효 이용하여, 본 실시 형태의 재서냉 공정에 의해, 효율적으로 저하시켜 10ppm 이하로 할 수 있다. 또한, 열처리의 온도를 시트 유리의 변형점[℃]－70[℃] 이하의 온도로 하므로, 종래에 비해 열처리의 승온 시간을 짧게 할 수 있어, 재서냉 공정의 시간 단축이 가능하게 된다. 따라서, 열수축률을 매우 낮게 한 시트 유리의 생산 효율을 향상시킬 수 있다. 또한, 재서냉 공정에서 발생할 수 있는 상술한 시트 유리의 변형이나 휨의 악화를 억제할 수 있다. 상술한 바와 같이, 냉각 공정을 조정함으로써 열수축률을 낮게 함과 함께, 재서냉 공정을 행하므로, 실투 온도를 높게 한 유리 조성을 사용할 필요가 없어진다. 이로 인해, 실투가 발생하기 어려워, 고정밀 디스플레이의 패널에 사용하는 것이 가능한, 열수축률이 낮은 시트 유리를 제작할 수 있다. 이하, 본 실시 형태의 시트 유리의 제조 방법에 대해 상세하게 설명한다. (시트 유리의 제조 방법 및 시트 유리 제조 장치) 본 실시 형태의 시트 유리의 제조 방법에서는, 오버플로우 다운드로법을 사용해서 시트 유리가 제조된다. 이하, 도면을 참조하면서, 시트 유리의 제조 방법에 대해 설명한다. 도 1 및 도 2를 참조하여, 시트 유리의 제조 방법에 포함되는 복수의 공정 및 시트 유리의 제조 방법을 행하는 시트 유리 제조 장치(100)를 설명한다. 도 1은 본 실시 형태의 시트 유리의 제조 방법의 흐름도이며, 도 2는 시트 유리의 제조 방법을 행하는 시트 유리 제조 장치를 도시하는 모식도이다. 시트 유리의 제조 방법은, 도 1에 도시하는 바와 같이, 주로, 용융 공정 S1과, 청징 공정 S2와, 성형 공정 S3과, 냉각 공정 S4와, 절단 공정 S5와, 재서냉 공정 S6을 포함한다. 용융 공정 S1은, 유리의 원료가 용융되는 공정이다. 유리의 원료는, 원하는 유리 조성이 되도록 조합된 후, 용융 장치(11)에 투입된다. 유리의 원료는 용융 장치(11)에서 용융되어, 용융 유리 FG가 된다. 용융 온도는 유리의 종류에 따라서 조정된다. 본 실시 형태에서는, 용융 공정 S1에 있어서의 용융 유리 FG의 최고 온도가 1500℃ 내지 1630℃가 되도록 가열된다. 용융 유리 FG는 상류 파이프(23)를 통해서 청징 장치(12)에 보내진다. 청징 공정 S2는 용융 유리 FG 중의 기포의 제거를 행하는 공정이다. 청징 장치(12) 내에서 기포가 제거된 용융 유리 FG는, 그 후, 하류 파이프(24)를 통하여, 성형 장치(40)에 보내진다. 성형 공정 S3은, 용융 유리 FG를 시트 형상의 유리(시트 유리) SG로 성형하는 공정이다. 구체적으로, 용융 유리 FG는, 성형 장치(40)에 포함되는 성형체(41)(도 3 참조)에 연속적으로 공급된 후, 성형체(41)로부터 오버플로우한다. 오버플로우한 용융 유리 FG는, 성형체(41)의 표면을 따라서 유하한다. 용융 유리 FG는, 그 후, 성형체(41)의 하단부(41a)(도 3 참조)에서 합류해서 시트 유리 SG로 성형된다. 냉각 공정 S4는, 시트 유리 SG를 서냉하는 공정이다. 유리 시트는, 냉각 공정 S4를 거쳐서 실온에 가까운 온도로 냉각된다. 또한, 냉각 공정 S4에 있어서의, 냉각의 상태에 따라서, 시트 유리 SG의 두께(판 두께), 시트 유리 SG의 휨량 및 시트 유리 SG의 평면 변형, 시트 유리 SG의 열수축률의 값이 결정된다. 절단 공정 S5는, 실온에 가까운 온도로 된 시트 유리 SG를, 절단 장치(90)에 있어서 소정의 사이즈로 절단하는 공정이다. 재서냉 공정 S6은, 서냉하여 절단한 시트 유리 SG를 재가열한 후에 서냉하는 열처리를 실시하여, 열수축률을 10ppm 이하로 저감시키는 공정이다. 재서냉 공정 S6은, 시트 유리 SG를 소정의 사이즈로 절단한 후, 복수매의 시트 유리 SG를 적층한 시트 유리 SG의 적층체를 통합해서 열처리하는 오프라인 공정이다. 본 실시 형태에서는, 시트 유리 SG의 적층체를 열처리하는 형태이지만, 후술하는 바와 같이, 절단해서 사이즈가 정렬된 시트 유리 SG를 매양식으로 열처리를 하는 형태이어도 좋다. 또한, 절단 공정 S5에서 소정의 사이즈로 절단된 시트 유리 SG(유리판 PG)는 재서냉 공정에 제공된다. 이에 의해, 열수축률이 10ppm 이하의 시트 유리 SG가 얻어진다. 그 후, 단부면 가공 등의 공정을 거쳐, 최종 제품의 시트 유리가 된다. 최종 제품의 시트 유리는, 곤포된 후, 패널 메이커 등에 출하된다. 패널 메이커는 디스플레이용의 유리 기판으로서, 시트 유리의 표면에 소자를 형성하여, 디스플레이를 제조한다. 이하, 도 3 내지 도 5를 참조하여, 시트 유리 제조 장치(100)에 포함되는 성형 장치(40)의 구성을 설명한다. 또한, 본 실시 형태에 있어서, 시트 유리 SG의 폭 방향이란, 시트 유리 SG의 표면의 면 내 방향이며, 시트 유리 SG가 유하하는 방향(흐름 방향)에 직교하는 방향, 즉, 수평 방향을 의미한다. 도 3 및 도 4에, 성형 장치(40)의 개략 구성을 도시한다. 도 3은 성형 장치(40)의 단면도이다. 도 4는 성형 장치(40)의 측면도이다. 성형 장치(40)는, 시트 유리 SG가 통과하는 통로와, 통로를 둘러싸는 공간을 갖는다. 통로를 둘러싸는 공간은, 예를 들어, 성형체실(20), 제1 냉각실(30) 및 제2 냉각실(80)로 구성되어 있다. 제1 냉각실(30), 제2 냉각실(80) 및 각각의 냉각실에 설치되는 히터 등의 각 장치가, 성형된 시트 유리를 서냉함으로써, 열수축률이 35ppm 이하의 시트 유리를 만드는 냉각 장치를 구성하고 있다. 성형체실(20)은, 전술한 청징 장치(12)로부터 보내지는 용융 유리 FG가 시트 유리 SG로 성형되는 공간이다. 성형체실(20) 내에는, 성형체(41)가 설치된다. 성형체(41)는 용융 유리 FG를 오버플로우시킴으로써, 용융 유리 FG를 시트 형상의 유리(시트 유리 SG)로 성형한다. 도 3에 도시하는 바와 같이, 성형체(41)는 단면 형상으로 대략 오각형의 형상(웨지형에 유사한 형상)을 갖는다. 대략 오각형의 선단은, 성형체(41)의 하단부(41a)에 상당한다. 또한, 성형체(41)는, 제1 단부에 유입구(42)를 갖는다(도 4 참조). 성형체(41)의 상면에는 홈(43)이 형성되어 있다. 유입구(42)는, 상술한 하류 파이프(24)와 접속되어 있고, 청징 장치(12)로부터 흘러 나온 용융 유리 FG는, 유입구(42)로부터 홈(43)에 유입된다. 성형체(41)의 홈(43)에 유입된 용융 유리 FG는, 성형체(41)의 한 쌍의 정상부(41b, 41b)로부터 오버플로우하고, 성형체(41)의 한 쌍의 측면(표면)(41c, 41c)을 따르면서 유하한다. 그 후, 용융 유리 FG는 성형체(41)의 하단부(41a)에서 합류해서 시트 유리 SG가 된다. 성형체실(20)의 시트 유리 SG의 하류측의 벽은, 구획 부재(50)로 되어 있다. 구획 부재(50)는 성형체실(20)로부터 제1 냉각실(30)에의 열의 이동을 차단하는 단열재이다. 구획 부재(50)는 용융 유리 FG의 합류 포인트의 상측 분위기 및 하측 분위기를 구획함으로써, 구획 부재(50)의 상측으로부터 하측으로의 열의 이동을 차단한다. 제1 냉각실(30)은 성형체실(20)의 하방에 배치되고, 시트 유리 SG의 두께 및 휨량을 조정하기 위한 공간이다. 제1 냉각실(30)에서는, 후술하는 제1 냉각 공정 S41의 일부가 실행된다. 제1 냉각실(30)에서는, 시트 유리 SG의 중심부 C의 온도가 서냉점보다 높은 상태의 시트 유리 SG가 냉각된다. 시트 유리 SG의 중심부 C는, 시트 유리 SG의 폭 방향의 중심부이다. 제1 냉각실(30)에서는, 시트 유리 SG의 중심부 C의 온도는, 제1 온도 영역 및 제2 온도 영역에 있다. 제1 온도 영역은, 시트 유리 SG의 중심부 C의 온도가 연화점보다 높은 온도로부터 연화점 근방이 될 때까지의 온도 영역이다. 또한, 제2 온도 영역이란, 시트 유리 SG의 중심부 C의 온도가 연화점 근방에서 서냉점 근방이 될 때까지의 온도 영역이다. 시트 유리 SG는, 제1 냉각실(30) 내를 통과한 후, 후술하는 제2 냉각실(80) 내를 통과한다. 제1 냉각실(30)에는, 냉각 롤러(51)와 온도 조정 유닛(60)이 설치되어 있다. 냉각 롤러(51)는, 제1 냉각실(30) 내에, 구획 부재(50)의 바로 아래에 배치되어 있다. 또한, 냉각 롤러(51)는 시트 유리 SG의 두께 방향 양측, 또한, 시트 유리 SG의 폭 방향 양측에 배치된다. 시트 유리 SG의 두께 방향 양측에 배치된 냉각 롤러(51)는 쌍으로 동작한다. 냉각 롤러(51)에 접촉한 시트 유리 SG의 측부 R, L의 점도는, 소정값(구체적으로는, 10 9. 0 poise) 이상이다. 여기서, 시트 유리 SG의 측부 R, L이란, 시트 유리 SG의 폭 방향의 양단부 영역이며, 구체적으로는, 시트 유리 SG의 폭 방향의 테두리로부터 시트 유리 SG의 중심부 C를 향하여, 시트 유리 SG의 폭 방향 200㎜ 이내의 범위를 말한다. 냉각 롤러(51)는 구동 모터에 의해 회전 구동된다. 냉각 롤러(51)는 시트 유리 SG의 측부 R, L을 냉각함과 함께, 시트 유리 SG를 하방으로 인하하는 기능도 갖는다. 온도 조정 유닛(60)은, 제1 냉각실(30) 내에 설치되고, 시트 유리 SG를 서냉점 근방까지 냉각하는 유닛이다. 온도 조정 유닛(60)은 구획 부재(50)의 하방이며, 제2 냉각실(80)의 천장판(80a)의 상방에 배치된다. 온도 조정 유닛(60)은, 시트 유리 SG의 중심부 C의 온도가 서냉점 근방이 될 때까지, 시트 유리 SG를 냉각한다. 제2 냉각실(80)은 성형체실(20)의 하방에 배치되고, 시트 유리 SG의 휨, 열수축률 및 변형값을 조정하기 위한 공간이다. 제2 냉각실(80)에는 인하 롤러(81a 내지 81g)와, 히터(82a 내지 82g)가 설치되어 있다. 제2 냉각실(80)에서는, 후술하는 제1 냉각 공정 S41의 일부, 제2 냉각 공정 S42, 제3 냉각 공정 S43 및 제4 냉각 공정 S44가 실행된다. 제2 냉각실(80)에서는, 제1 냉각실(30) 내를 통과한 시트 유리 SG가, 중심부 C의 온도가 서냉점, 변형점을 거쳐, 적어도 변형점보다 200℃ 낮은 온도 근방까지 냉각된다. 제3 냉각 공정 S43은, 중심부 C의 온도가 변형점으로부터 변형점보다 100℃ 낮은 온도 근방까지의 온도 영역에서의 냉각을 행하는 공정이며, 제4 냉각 공정 S44는 변형점보다 100℃ 낮은 온도 근방으로부터, 변형점보다 200℃ 낮은 온도 근방까지 냉각하는 공정이다. 제2 냉각실(80)에서는 시트 유리 SG가, 실온 부근의 온도까지 냉각되어도 좋다. 또한, 제2 냉각실(80)의 내부는 단열 부재(80b)에 의해, 복수의 공간으로 구분되어 있어도 좋다. 복수의 단열 부재(80b)는, 복수의 인하 롤러(81a 내지 81g)의 각각의 사이에, 시트 유리 SG의 두께 방향의 양측에 배치된다. 이에 의해, 시트 유리 SG의 온도 관리를, 보다 고정밀도로 행할 수 있다. 인하 롤러(81a 내지 81g)는, 제1 냉각실(30) 내를 통과한 시트 유리 SG를, 시트 유리 SG의 흐름 방향으로 인하한다. 히터(82a 내지 82g)는, 제2 냉각실(80)의 내부에 설치되고, 제2 냉각실(80)의 내부 공간의 온도를 조정한다. 구체적으로, 히터(82a 내지 82g)는 시트 유리 SG의 흐름 방향 및 시트 유리 SG의 폭 방향으로 복수 배치된다. 예를 들어, 폭 방향으로 배치되는 히터는 시트 유리 SG의 중앙 영역 CA와, 시트 유리 SG의 측부 R, L을 각각 온도 제어한다. 히터(82a 내지 82g)는, 후술하는 제어 장치(91)에 의해 출력이 제어된다. 이에 의해, 제2 냉각실(80) 내부를 통과하는 시트 유리 SG의 근방의 분위기 온도가 제어된다. 히터(82a 내지 82g)에 의해 제2 냉각실(80) 내의 분위기 온도가 제어됨으로써, 시트 유리 SG의 온도 제어가 행해진다. 또한, 시트 유리 SG의 근방에는, 분위기 온도를 검출하는 도시되지 않은 분위기 온도 검출 수단(본 실시 형태에서는, 열전대)이 설치되어 있어도 좋다. 예를 들어, 복수의 열전대가, 시트 유리 SG의 흐름 방향 및 시트 유리 SG의 폭 방향으로 배치된다. 예를 들어, 열전대는 시트 유리 SG의 중심부 C의 온도와, 시트 유리 SG의 측부 R, L의 온도를 각각 검출한다. 히터(82a 내지 82g)의 출력은, 열전대에 의해 검출되는 분위기 온도에 기초해서 제어된다. 제2 냉각실(80)의 시트 유리 SG의 흐름 방향의 하류측에는, 절단 장치(90)가 설치되어 있다. 절단 장치(90)는, 제2 냉각실(80) 내에서 실온 부근의 온도까지 냉각된 시트 유리 SG를, 소정의 사이즈로 절단한다. 이에 의해, 시트 유리 SG는, 예를 들어 소정의 디스플레이에 적합한 시트 유리가 된다. 또한, 절단 장치는, 반드시 제2 냉각실(80)의 바로 아래에 설치되어 있지 않아도 좋다. 본 실시 형태의 시트 유리의 제조 방법에서는, 냉각 공정 S4는, 복수의 냉각 공정 S41, S42, S43, S44로 이루어진다. 구체적으로는, 시트 유리 SG의 흐름 방향을 따라서, 제1 냉각 공정 S41, 제2 냉각 공정 S42, 제3 냉각 공정 S43 및 제4 냉각 공정 S44가 순서대로 실행된다. 제1 냉각 공정 S41, 제2 냉각 공정 S42, 제3 냉각 공정 S43 및 제4 냉각 공정 S44를 하기와 같이 온도 프로파일 혹은 평균 냉각 속도를 관리함으로써, 제1 냉각 공정 S41에서는, 주로 시트 유리 SG의 휨을 저감할 수 있고, 제2 냉각 공정 S42에서는, 주로 시트 유리 SG의 내부 변형 및 열수축률을 저감할 수 있고, 제3 냉각 공정 S43에서는, 주로 시트 유리 SG의 열수축률을 낮게 할 수 있고, 제4 냉각 공정 S44에서는, 주로 시트 유리 SG의 휨을 저감할 수 있다. 시트 유리 SG의 온도는, 시트 유리 SG의 분위기 온도를 제어함으로써, 관리된다. 또한, 시트 유리 SG의 온도는, 시트 유리 SG의 온도의 실측값을 사용해도 좋고, 또한, 히터(82a 내지 82g)에 의해 제어되는 시트 유리 SG의 분위기 온도에 기초하여 시뮬레이션에 의해 산출된 값을 사용해도 좋다. 각 냉각 공정 S41 내지 S44에서는, 소정의 평균 냉각 속도로, 시트 유리 SG를 냉각함으로써, 시트 유리 SG의 흐름 방향의 온도 관리를 행하고 있다. 여기서, 소정의 평균 냉각 속도란, 각 냉각 공정 S41 내지 S44에 따른 냉각 속도이며, 평균 냉각 속도는, 시트 유리 SG의 중앙 영역 CA의 온도 변화의 양을 이 온도 변화에 필요로 하는 시간으로 나눈 값이다. 이하, 특별히 언급하지 않고 평균 냉각 속도라고 하는 경우에는, 원칙으로서, 시트 유리 SG의 중앙 영역 CA에 있어서의 평균의 냉각 속도를 가리킨다. 중앙 영역 CA는, 판 두께를 균일하게 하는 대상의 부분을 포함하는 영역이며, 중심부 C를 포함하고, 시트 유리 SG의 양측부 R, L보다 시트 유리 SG의 폭 방향 내측의 영역이며, 시트 유리 SG의 폭 방향의 폭 중 시트 유리 SG의 폭 방향의 중심으로부터 폭의 절반의 예를 들어 85％ 이내의 범위의 영역이다. 중심부 C란, 시트 유리 SG의 폭 방향의 중심 위치를 말한다. 고정밀 디스플레이의 제조 과정의 열처리 공정에 있어서 발생하는 시트 유리의 열수축을 효율적으로 저감하기 위해서는, 전체 냉각 공정 S41 내지 S44의 평균 냉각 속도 중, 제3 냉각 공정 S43의 냉각 속도(제3 평균 냉각 속도)가 가장 낮은 것이 바람직하다. 즉, 제3 냉각 공정 S43의 평균 냉각 속도(제3 평균 냉각 속도)는, 제2 냉각 공정 S42의 평균 냉각 속도(제2 평균 냉각 속도)보다 낮은 것이 바람직하다. 또한, 시트 유리의 생산 효율을 저하시키지 않기 위해서도, 전체 냉각 공정 S41 내지 S44의 냉각 속도 중, 제1 냉각 공정 S41의 냉각 속도(제1 평균 냉각 속도)가 가장 높은 것이 바람직하다. 또한, 제4 냉각 공정 S44에 있어서의 평균 냉각 속도(제4 평균 냉각 속도)는, 제1 평균 냉각 속도보다 낮고, 또한, 제2 평균 냉각 속도보다 높은 것이 바람직하다. 즉, 전체 냉각 공정 S41 내지 S44의 평균 냉각 속도에 관해서, 제1 평균 냉각 속도>제4 평균 냉각 속도>제2 평균 냉각 속도>제3 평균 냉각 속도의 관계식이 성립하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 생산 효율을 저하시키지 않고, 고정밀 디스플레이의 제조 과정의 열처리 공정에서의 시트 유리의 열수축을 저감한 시트 유리를 제조할 수 있다. 도 5는, 시트 유리 SG의 소정의 높이 위치에 있어서의 폭 방향의 온도 프로파일 T1, T3, T5, T6, T7, T9를 나타낸다. 이 밖에, 온도 프로파일 T2, T4, T8을 사용해도 좋다. 도 5에서는, 온도 프로파일 T2, T4, T8은 생략되어 있다. 이하에 있어서, 시트 유리 SG의 측부 R, L을, 간단히, 측부 R, L로 기재한다. 제1 냉각 공정 S41은, 성형체(41)의 바로 아래에서 합류한 용융 유리를, 중심부 C의 온도가 서냉점으로 될 때까지 냉각하는 공정이다. 서냉점은 점도가 10 13 푸아즈(1푸아즈=0.1Paㆍ초)로 될 때의 온도이다. 구체적으로, 제1 냉각 공정 S41에서는, 예를 들어 중심부 C의 온도가 1100℃ 내지 1300℃의 시트 유리 SG를, 중심부 C의 온도가 서냉점으로 될 때까지 냉각한다. 여기서 「서냉점으로 될 때까지 냉각한다」에 있어서의 서냉점이란, 서냉점 근방을 포함한다. 서냉점 근방은, 예를 들어 서냉점[℃]±15[℃]의 사이의 온도 범위, 즉, 서냉점[℃]＋15[℃] 내지 서냉점[℃]－15[℃]의 온도 범위이어도 좋다. 제1 냉각 공정 S41에서는, 제1 온도 프로파일 TP1, 제3 온도 프로파일 TP3, 제5 온도 프로파일 TP5에 기초하여, 시트 유리 SG의 온도 관리가 행해진다. 이하, 제1 냉각 공정 S41에서 실행되는 각 온도 프로파일 TP1, 제3 온도 프로파일 TP3, 제5 온도 프로파일 TP5와, 제1 냉각 공정 S41의 냉각 속도(제1 평균 냉각 속도)를 상세하게 설명한다. 제1 온도 프로파일 TP1은, 시트 유리 SG의 가장 상류측에서 실현되는 온도 분포이다(도 5 참조). 제1 온도 프로파일 TP1은, 시트 유리 SG의 중앙 영역 CA의 온도가 균일하고, 시트 유리 SG의 측부 R, L은, 시트 유리 SG의 중앙 영역 CA의 온도보다도 낮아지고, 위로 볼록을 갖는 분포이다. 여기서, 중앙 영역 CA의 온도가 균일하다고 함은, 중앙 영역 CA의 온도가, 소정의 온도 영역에 포함되는 것을 말한다. 소정의 온도 영역이란, 기준 온도[℃]±20[℃]의 사이의 범위이다. 기준 온도는, 중앙 영역 CA의 폭 방향의 평균 온도이다. 제1 온도 프로파일 TP1은, 제1 냉각실(30) 내의 냉각 롤러(51) 및 온도 조정 유닛(60)을 제어함으로써 실현된다. 시트 유리 SG의 측부 R, L의 온도는, 중앙 영역 CA의 온도보다도 소정 온도(예를 들어, 200℃ 내지 250℃) 낮은 온도로 냉각한다. 제3 온도 프로파일 TP3은, 제1 온도 프로파일 TP1의 후에 실현되는 온도 분포이다(도 5 참조). 제3 온도 프로파일 TP3은, 중앙 영역 CA의 중심부 C의 온도가 가장 높고, 측부 R, L의 온도가 가장 낮다. 또한, 제3 온도 프로파일 TP3에서는, 중심부 C로부터 측부 R, L을 향하여 온도가 서서히 낮아진다. 또한, 제1 온도 프로파일 TP1 및 제3 온도 프로파일 TP3은, 제1 냉각실(30) 내의 온도 조정 유닛(60)을 제어함으로써 실현된다. 제5 온도 프로파일 TP5는, 제3 온도 프로파일 TP3의 후에 실현되는 온도 분포이다(도 5 참조). 제5 온도 프로파일 TP5도 또한, 중심부 C의 온도가 가장 높고, 측부 R, L의 온도가 가장 낮다. 또한, 제5 온도 프로파일 TP5도, 중심부 C로부터 측부 R, L을 향하여 온도가 서서히 낮아져, 위로 볼록을 갖는 완만한 포물선을 형성한다. 또한, 제5 온도 프로파일 TP5는, 제2 냉각실(80) 내의 히터(82b)를 제어함으로써 실현된다. 제1 냉각 공정 S41에서는, 중앙 영역 CA의 분위기 온도보다도, 측부 R, L의 분위기 온도를 높은 평균 냉각 속도로 냉각하고 있다. 즉, 중앙 영역 CA의 평균 냉각 속도(제1 평균 냉각 속도)와 비교하여, 측부 R, L의 평균 냉각 속도(제1 측부 냉각 속도)가 높다. 제1 냉각 공정 S41에 있어서의 중앙 영역 CA의 제1 평균 냉각 속도는, 5.0℃/초 내지 50℃/초이다. 제1 평균 냉각 속도가, 5.0℃/초보다 낮으면, 생산성이 나빠진다. 제1 평균 냉각 속도가, 50℃/초를 초과하면, 시트 유리 SG에 균열이 발생하는 경우가 있다. 또한, 시트 유리 SG의 휨량 및 판 두께 편차가 나빠진다. 바람직하게는, 중앙 영역 CA의 제1 평균 냉각 속도는, 8.0℃/초 내지 16.5℃/초이다. 또한, 제1 냉각 공정 S41에 있어서의 제1 측부 냉각 속도는, 5.5℃/초 내지 52.0℃/초이다. 바람직하게는, 제1 측부 냉각 속도는, 8.3℃/초 내지 17.5℃/초이다. 제2 냉각 공정 S42는, 제1 냉각 공정 S41 후의 시트 유리 SG를, 중심부 C의 온도가 변형점으로 될 때까지 냉각하는 공정이다. 여기서, 변형점은, 점도가 10 14. 5 푸아즈가 되는 온도이다. 여기서 「변형점으로 될 때까지 냉각한다」에 있어서의 변형점이란, 변형점 근방을 포함한다. 여기서 변형점 근방은, 예를 들어 변형점±25℃의 사이의 온도 범위, 혹은 변형점±15℃의 사이의 온도 범위이어도 좋다. 제2 냉각 공정 S42에서는, 제6 온도 프로파일 TP6에 기초하여, 시트 유리 SG의 온도 관리가 행해진다. 이하, 제2 냉각 공정 S42에서 실행되는 온도 프로파일 TP6과, 제2 냉각 공정 S42의 냉각 속도(제2 평균 냉각 속도)를 설명한다. 제6 온도 프로파일 TP6은, 시트 유리 SG의 폭 방향의 분위기 온도(폭 방향의 측부 R, L로부터 중심부 C에 걸친 분위기 온도)가 균일하다. 바꾸어 말하면, 제6 온도 프로파일 TP6은, 시트 유리 SG의 폭 방향에 있어서, 측부 R, L 주변의 분위기 온도와 중심부 C 주변의 분위기 온도와의 온도차가 가장 작고, 측부 R, L 주변의 분위기 온도와 중심부 C 주변의 분위기 온도가, 동일 정도가 되는 온도 프로파일이다. 여기서, 균일이란, 측부 R, L 주변의 분위기 온도와 중앙 영역 CA 주변의 분위기 온도가, 소정의 온도 영역에 포함되는 것을 말한다. 소정의 온도 영역이란, 기준 온도±5℃의 사이의 온도 범위이다. 기준 온도는 시트 유리 SG의 폭 방향의 평균 온도이다. 또한, 제6 온도 프로파일 TP6은, 제2 냉각실(80) 내의 히터(82c)를 제어함으로써 실현된다. 또한, 제6 온도 프로파일 TP6은, 변형점을 포함하는 소정의 온도 영역에서 실현된다. 소정의 온도 영역이란, 「(서냉점＋변형점)/2」로부터 「변형점[℃]－25[℃]」까지의 영역이다. 제6 온도 프로파일 TP6은, 변형점을 포함하는 범위 중 적어도 1점(흐름 방향에 있어서의 1개소)에 있어서 실현된다. 제2 냉각 공정 S42에서는, 시트 유리 SG의 폭 방향의 분위기 온도가 거의 일정해지도록, 시트 유리 SG의 중앙 영역 CA의 분위기 온도와, 측부 R, L의 분위기 온도를 제어하고 있다. 즉, 측부 R, L의 평균 냉각 속도(제2 측부 냉각 속도)와 비교하여, 중앙 영역 CA의 평균 냉각 속도(제2 평균 냉각 속도)가 약간 높다. 제2 냉각 공정 S42에 있어서의 시트 유리 SG의 중앙 영역 CA의 온도의 평균 냉각 속도(제2 평균 냉각 속도)는, 5.0℃/초 이하인 것이 바람직하고, 0.8℃/초 내지 5.0℃/초인 것이 보다 바람직하다. 제2 평균 냉각 속도가, 0.8℃/초보다도 작으면, 생산성이 나빠지기 쉽다. 또한, 제2 평균 냉각 속도가, 5.0℃/초를 초과하면, 시트 유리 SG의 정밀한 온도 제어가 곤란해져, 시트 유리 SG의 열수축률이 커지기 쉽다. 또한, 시트 유리 SG의 휨 및 변형이 커지기 쉽다. 제3 냉각 공정 S43은, 제2 냉각 공정 S42 후의 시트 유리 SG를, 변형점보다 100℃ 낮은 온도, 즉 변형점[℃]－100[℃]로 될 때까지 냉각하는 공정이다. 여기서 「(변형점[℃]－100[℃])로 될 때까지 냉각한다」에 있어서의 (변형점[℃]－100[℃])란, (변형점[℃]－100[℃])의 근방을 포함한다. (변형점[℃]－100[℃])의 근방은, 예를 들어 (변형점[℃]－100[℃])±15[℃]의 사이의 온도 범위이어도 좋다. 제3 냉각 공정 S43에 있어서도, 제2 냉각 공정 S42와 마찬가지로, 제6 온도 프로파일 TP6에 기초하여, 시트 유리 SG의 온도 관리가 행해진다. 제3 냉각 공정 S43에 있어서의 시트 유리 SG의 중앙 영역 CA의 온도의 평균 냉각 속도(제3 평균 냉각 속도)는 제2 평균 냉각 속도보다 낮고, 5℃/초 이하인 것이 바람직하다. 제3 평균 냉각 속도를 제2 평균 냉각 속도보다 낮게 함으로써, 디스플레이의 패널 제조 공정에 있어서의 시트 유리의 열처리 시(예를 들어, 450℃ 내지 600℃)에 생기는 열수축을 낮게 할 수 있다. 또한, 제3 평균 냉각 속도가 5℃/초를 초과하면, 시트 유리 SG에 균열이 발생하는 경우도 있고, 시트 유리 SG의 휨도 나빠진다. 보다 바람직하게는, 제3 평균 냉각 속도는, 0.5℃/초 내지 4.0℃/초이다. 제4 냉각 공정 S44는, 변형점[℃]－100[℃] 근방, 예를 들어 ((변형점[℃]－100[℃])±15[℃]의 사이의 온도 범위)의 온도로 된 시트 유리 SG를, 변형점[℃]－200℃ 근방의 온도까지 냉각하는 공정이다. 여기서, 변형점[℃]－200℃ 근방의 온도란, 예를 들어 (변형점[℃]－200[℃])±15[℃]의 사이의 온도 범위 내의 온도이어도 좋다. 제4 냉각 공정 S44에서는, 제7 온도 프로파일 TP7 내지 제9 온도 프로파일 TP10에 기초하여, 시트 유리 SG의 온도 관리가 행해진다. 제7 온도 프로파일 TP7 내지 제9 온도 프로파일 TP9는, 제6 온도 프로파일 TP6의 후에 실현되는 온도 분포이다(도 5 참조). 구체적으로, 상류측에서 제7 온도 프로파일 TP7이 실현되고, 하류측에서 제9 온도 프로파일 TP9가 실현된다. 제7 온도 프로파일 TP7 내지 제9 온도 프로파일 TP9는, 중앙 영역 CA의 중심부 C의 온도가 가장 낮고, 측부 R, L의 온도가 가장 높다. 또한, 제7 온도 프로파일 TP7 내지 제9 온도 프로파일 TP10에서는, 중심부 C로부터 측부 R, L을 향하여 온도가 서서히 높아진다. 즉, 제7 온도 프로파일 TP7 내지 제9 온도 프로파일 TP9는, 아래로 볼록을 갖는 완만한 포물선을 형성한다. 또한, 제7 온도 프로파일 TP7 내지 제9 온도 프로파일 TP9에 있어서의 중심부 C와 측부 R, L 사이의 온도차는, 시트 유리 SG의 흐름 방향을 따라서, 서서히 커지고 있다. 즉, 제9 온도 프로파일 TP9는, 제7 온도 프로파일 TP7보다도 큰 포물선이 된다. 제7 온도 프로파일 TP7 내지 제9 온도 프로파일 TP9에서도, 중심부 C가 측부 R, L보다도 빨리 냉각된다. 또한, 제7 온도 프로파일 TP7 내지 제9 온도 프로파일 TP9는, 제2 냉각실(80) 내의 히터(82d 내지 82g)를 제어함으로써 실현된다. 제4 냉각 공정 S44에서는, 중앙 영역 CA의 분위기 온도를, 측부 R, L의 분위기 온도보다도 빠른 속도로 냉각하고 있다. 즉, 측부 R, L의 평균 냉각 속도(제4 측부 냉각 속도)와 비교하여, 중앙 영역 CA의 평균 냉각 속도(제4 평균 냉각 속도)가 높다. 또한, 제4 냉각 공정 S44에서는, 시트 유리 SG의 흐름 방향의 하류측을 향함에 따라서, 시트 유리 SG의 측부 R, L의 분위기 온도의 냉각 속도와 중앙 영역 CA의 분위기 온도의 냉각 속도와의 차를 크게 한다. 제4 냉각 공정 S44에 있어서의 제4 평균 냉각 속도는, 1.5℃/초 내지 20℃/초인 것이 바람직하다. 제4 평균 냉각 속도가, 1.5℃/초보다도 낮으면, 생산성이 나빠진다. 또한, 제4 평균 냉각 속도가, 20℃/초를 초과하면, 시트 유리 SG에 균열이 발생하는 경우도 있고, 시트 유리 SG의 휨도 나빠진다. 바람직하게는, 제4 평균 냉각 속도는, 2.0℃/초 내지 15℃/초이다. 또한, 제4 냉각 공정 S44에 있어서의 제4 측부 냉각 속도는, 1.3℃/초 내지 13℃/초이다. 바람직하게는, 제4 측부 냉각 속도는, 1.5℃/초 내지 8.0℃/초이다. 시트 유리 SG의 흐름 방향의 냉각 속도는, 시트 유리 SG의 450℃ 내지 600℃라고 하는 온도 영역의 열처리 시에 생기는 열수축률에 영향을 준다. 특히, 제3 냉각 공정 S43의 평균 냉각 속도가 상기 열수축률에 미치는 영향이 크다. 그로 인해, 4개의 냉각 공정 S41 내지 S44 중, 제3 냉각 공정 S43의 평균 냉각 속도를 가장 낮게 함으로써, 시트 유리 SG의 상기 열수축률을 효과적으로 작게 할 수 있다. 이에 의해, 시트 유리 SG의 생산량을 향상시킬 수 있음과 함께, 35ppm 이하의 열수축률을 갖는 시트 유리 SG를 얻을 수 있다. 또한, 시트 유리 SG의 중심부 C의 온도가 서냉점 내지 변형점의 온도 범위에서 행하는 제2 냉각 공정 및 시트 유리 SG의 중심부 C의 온도가 변형점[℃]∼변형점[℃]－100[℃]의 온도 범위에서 행하는 제3 냉각 공정을 하나의 냉각 공정으로 했을 때의 중심부 C의 평균 냉각 속도, 즉, 서냉점 내지 변형점[℃]－100[℃]의 온도 변화를, 이 온도 변화에 필요로 한 시간으로 나눈 값은, 0.5 내지 5.0℃/초인 것이, 시트 유리 SG의 열수축률을 35ppm 이하로 하는 데 있어서 바람직하다. 즉, 냉각 공정에서는, 중심부 C의 온도가 서냉점으로부터 (시트 유리 SG의 변형점[℃]－100[℃])로 될 때까지, 중앙 영역 CA를 평균 냉각 속도 0.5 내지 5.0℃/초로 냉각하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 시트 유리 SG의 열수축률을 35ppm 이하로 할 수 있다. 또한, 제2 평균 냉각 속도와 제3 평균 냉각 속도의 속도비(제3 평균 냉각 속도/제2 평균 냉각 속도)는, 0.2 이상 1 미만인 것이 바람직하다. 속도비가 0.2 미만이면 생산성이 나빠지기 쉽다. 속도비는, 0.3 이상 0.8 미만인 것이 보다 바람직하고, 0.4 이상 0.6 미만인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 제2 평균 냉각 속도는, 제3 평균 냉각 속도의 다음에 상기 열수축률에 영향을 미치기 쉽다. 본 실시 형태에서는, 서냉점으로부터 변형점까지의 범위에서의 시트 유리 SG의 냉각을 행하는 제2 냉각 공정 S42에 있어서의 제2 평균 냉각 속도를, 제1 냉각 공정 S41 및 제4 냉각 공정 S44의 각 평균 냉각 속도보다도 낮게 하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 열수축률을 저감할 수 있다. 이상과 같은 시트 유리의 제조 방법에 의해 얻어진 시트 유리 SG의 열수축률을, 35ppm 이하, 예를 들어 8 내지 35ppm으로 할 수 있다. 또한, 예를 들어, 열수축률을 8 내지 30ppm으로 하는 것이 바람직하고, 10 내지 25ppm으로 하는 것이 보다 바람직하다. 그러나, 이 열수축률은 고정밀 디스플레이용 유리 기판에 요구되는 열수축률을 충분히 충족하지 않는다. 이로 인해, 시트 유리 SG는, 냉각 공정 S4 후, 재서냉 공정이 행해진다. 재서냉 공정은, 시트 유리의 제조를 행하는 제조 라인으로부터 이격된 장소로 반송해서 행할 수 있고, 제조된 시트 유리를 회수하여, 그 장소에서, 행할 수도 있다. 또한, 재서냉 공정은, 시트 유리의 제조 후, 즉시 행할 수도 있고, 소정 기간 보관한 후, 행할 수도 있다. (재서냉 공정의 제1 형태) 도 6은, 본 실시 형태의 제1 형태의 재서냉 공정의 열처리를 설명하는 도면이다. 제1 형태의 재서냉 공정 S6에서는, 절단 공정 S5에 있어서 소정의 사이즈로 절단한 복수의 시트 유리 SG를 적층한 시트 유리 SG의 적층체(210)[이하, 적층체(210)라고 함]를 팔레트(220)에 얹은 상태에서, 시트 유리 SG의 열처리를 한다. 팔레트(220)는 베이스부(221)와, 적재부(222)와, 배면판(223)을 구비한다. 베이스부(221), 적재부(222) 및 배면판(223)은, 예를 들어 강철 등의 금속으로 이루어지고, 용접 등에 의해 일체로 형성되어 있다. 베이스(221)는 대략 직사각형의 판 형상이며, 단부면에 포크리프트의 갈고리를 삽입하기 위한 개구(221a)가 설치되어 있다. 적재부(222)는 베이스(221)의 상부에 고정되어 있고, 적재부(222)의 상부에 시트 유리 SG의 적층체(210)가 적재된다. 여기서, 적재부(222)의 상면은 완전히 수평일 필요는 없다. 예를 들어, 도 6에 도시하는 바와 같이, 시트 유리 SG를 비스듬히 기대어 세운 경우, 시트 유리 SG를 기대어 세운 각도에 따라서 적재부(222)의 상면을 경사지게 해 두어도 좋다. 배면판(223)은 대략 직사각형의 판 형상이며, 베이스(221)의 상부에 있어서, 적재부(222)의 후단부에 적재부(222)와 거의 수직으로 고정되어 있다. 배면판(223)은 적재부(222)의 상부에 적재되는 적층체(210)의 적층 방향의 후단부를 지지한다. 여기서, 배면판(223)은 완전히 수직일 필요는 없다. 예를 들어, 도 2에 도시하는 바와 같이, 시트 유리 SG를 비스듬히 기대어 세운 경우, 시트 유리 SG를 기대어 세운 각도에 따라서 배면판(223)을 경사지게 해 두어도 좋다. 팔레트(220) 및 팔레트(220)를 열처리를 위해 넣는 열처리실과 이 열처리실에 설치되는 열원이, 서냉한 시트 유리를 재가열한 후에 서냉하는 열처리를 실시하여, 열수축률을 10ppm 이하로 저감시키는 재서냉 장치를 구성한다. 적층체(210)는, 복수의 시트 유리 SG와, 복수의 시트체(212)를 갖는다. 시트체(212)는 시트 유리 SG끼리의 사이에 끼워진다. 적층체(210)에서는, 시트체(212), 시트 유리 SG, 시트체(212), 시트 유리 SG, … 시트체(212)의 순서대로 적재된다. 시트체(212)는 적층되는 시트 유리 SG끼리의 밀착을 방지하는 역할을 한다. 시트체(212)에는 적층체(210)를 열처리할 때의 온도에 견딜 수 있는 내열성을 갖는 재료를 사용할 수 있다. 시트체(212)는 시트 유리 SG보다도 높은 열전도율을 갖는 것이, 후술하는 열처리에 있어서, 복수의 시트 유리 SG의 열처리의 정도를 고르게 할 수 있는 점에서 바람직하다. 팔레트(220)에 적재된 적층체(210)는 팔레트(220)에 적재된 상태에서, 열처리된다. 구체적으로는, 팔레트(220)에 적재된 적층체(210)를 열처리실에 넣어, 분위기를 가열한다. 이에 의해, 시트 유리 SG의 열수축률을, 냉각 공정 S4에서 냉각된 시트 유리 SG의 열수축률보다도 낮게 하여, 10ppm 이하로 한다. 이와 같은 열처리는 시트 유리 SG의 변형점[℃]－70[℃] 이하의 온도로 행해진다. 이와 같은 온도에 의한 열처리에 의해, 시트 유리 SG가 현시점에서 갖는 35ppm 이하의 열수축률을, 열처리에 의해 더 저하시킨다. 열처리에서는, 분위기의 온도를 실온으로부터 설정된 승온 속도로 승온시켜, 분위기의 온도를 설정된 최고 온도로 한다. 최고 온도는 설정된 시간이 유지된다. 그 후, 설정된 강온 속도로, 분위기의 온도를 실온 부근까지 강온시킨다. 따라서, 열처리의 최고 온도는 설정된 시간이 유지되므로, 적층체(210)의 시트 유리 SG의 온도도 최고 온도가 되어 있다. 이 최고 온도는, 변형점[℃]－70[℃] 이하이다. 또는, 이 최고 온도는 (시트 유리 SG의 변형점[℃]－300[℃]) 내지 시트 유리 SG의 변형점[℃]－100[℃])인 것이 바람직하고, (시트 유리 SG의 변형점[℃]－250[℃]) 내지 시트 유리 SG의 변형점[℃]－130[℃])인 것이 보다 바람직하다. 최고 온도는, 예를 들어 560℃ 이하인 것이 바람직하고, 360℃ 내지 560℃인 것이 보다 바람직하고, 410℃ 내지 530℃인 것이 보다 한층 바람직하다. 시트 유리를 적층해서 재서냉을 행하는 경우, 생산성을 유지하면서, 시트 유리의 열수축률을 충분히 저감시키기 위해서는, 상기 열처리의 상기 승온 속도는, 0.2℃/분 내지 10℃/분인 것이 바람직하고, 0.3℃/분 내지 5℃/분인 것이 보다 바람직하다. 또한, 생산성을 유지하면서, 시트 유리의 열수축률을 충분히 저감시키기 위해, 상기 강온 속도는 0.05℃/분 내지 2℃/분인 것이 바람직하고, 0.1℃/분 내지 1.5℃/분인 것이 보다 바람직하다. 또한, 열수축률에 미치는 영향이 보다 큰 강온 속도를 승온 속도보다도 느리게 하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 최고 온도의 유지 시간은, 4 내지 120시간인 것이 바람직하고, 8 내지 24시간인 것이 보다 바람직하다. 제1 형태에서는, 서냉한 시트 유리 SG를 소정의 사이즈로 절단하는 절단 공정을 구비하고, 재서냉 공정은 절단 공정 후에 행해진다. 이때, 소정의 사이즈로 절단한 복수매의 시트 유리 SG를 적층해서 형성되는 적층체를 열처리하지만, 소정의 사이즈로 절단한 시트 유리 SG를 적층하지 않고 1매씩 재서냉 공정을 실시해도 좋다. 또한, 성형하고, 서냉한 시트 유리 SG를, 별도의 장소로 반송해서 재서냉 공정 S6을 행해도 좋다. 이 경우, 반송 전의 장소에서 용융 유리로부터 성형한 시트 유리 SG를 서냉함으로써 열수축률이 35ppm 이하의 시트 유리 SG를 얻는다. 이 시트 유리 SG를, 반송처가 다른 장소에서, 재가열한 후에 서냉하는 열처리를 실시하여, 열수축률을 10ppm 이하로 저감시킨다. 이때, 열처리는 시트 유리의 변형점보다 70℃ 낮은 온도 이하의 온도로 행한다. (재서냉 공정의 제2 형태) 도 7은, 본 실시 형태의 제1 형태와 다른 제2 형태에 있어서의 재서냉 공정의 열처리의 온도 이력의 일례를 나타내는 도면이다. 제2 형태에서는, 시트 유리를 1매씩 열처리하는 매양식의 재서냉 공정이다. 도 7에 도시하는 온도 이력을 사용해서 열처리를 행하는 것이 바람직하다. 이 경우에 있어서도, 열처리는 소정 온도로 행해진다. 소정 온도는, 예를 들어, 시트 유리의 변형점보다 70℃ 낮은 온도 이하의 온도이다. 매양식의 재서냉 공정은, 후술하는 바와 같이, 1매의 시트 유리를 지지 부재에 지지한 상태에서 열수축을 해도 좋고, 1매의 시트 유리를 반송하면서 열처리를 해도 좋다. 온도 이력이란, 도시되지 않는 열처리실 내에 있어서의 열처리에 따라서 변화하는 시트 유리의 중심 위치에 있어서의 온도의 이력을 나타내는 것이다. 도면 중에 나타내는 온도는 Tm1<Tm2<Tm3<Tm4이며, Tm1=실온(예를 들어, 25℃), Tm2=제2 중간 온도(예를 들어, 200℃), Tm3=제1 중간 온도(예를 들어, 400℃), Tm4=열처리 온도(예를 들어, 500℃)이다. 시간 t0 내지 시간 t1에 있어서의 가열 공정, 시간 t1 내지 시간 t2의 유지 공정, 시간 t2 내지 t5의 제1 내지 제3 강온 공정에서의 속도, 시간의 바람직한 범위를 이하에 나타낸다. Tm4는, 예를 들어 변형점보다 70℃ 낮은 온도 이하이다. (1) 가열 공정:t1-t0=5분 내지 20분, Tm4-Tm1=400℃ 내지 600℃, 승온 속도 S1=(Tm4-Tm1)/(t1-t0)=20℃/분 내지 120℃/분, (2) 유지 공정:t2-t1=5분 내지 120분, Tm4-Tm4=0, 속도 S2=(Tm4-Tm4)/(t2-t1)=0℃/분, (3) 제1 강온 공정:t3-t2=15분 내지 100분, Tm4-Tm3=50℃ 내지 150℃, 강온 속도 S3(제1 강온 속도)=(Tm4-Tm3)/(t3-t2)=0.5℃/분 내지 10℃/분 (4) 제2 강온 공정:t4-t3=10분 내지 15분, Tm3-Tm2=150℃ 내지 250℃, 강온 속도 S4(제2 강온 속도)는, (Tm3-Tm2)/(t4-t3)=10℃/분 내지 25℃/분, (5) 제3 강온 공정:t5-t4=15분 내지 100분, Tm2-Tm1=50℃ 내지 150℃, 강온 속도 S5(제1 강온 속도)=(Tm2-Tm1)/(t5-t4)=0.5℃/분 내지 10℃/분. 여기서, 실온은, 25℃로 한정되지 않고, 예를 들어, 0℃ 내지 50℃, 혹은 0℃ 내지 30℃이다. 또한, 열처리 온도는, 500℃로 한정되지 않고, 변형점보다 70℃ 낮은 온도 이하의 온도로서, 400℃ 내지 600℃의 임의의 온도이며, 제1 중간 온도는, 400℃로 한정되지 않고, 열처리 온도-(50℃ 내지 150℃)의 임의의 온도이다. 제2 중간 온도는, 150℃ 내지 250℃의 범위의 온도이며, 200℃로 고정해도 좋다. 또한, 승온 속도ㆍ강온 속도는, 시트 유리 전체를 승온ㆍ강온하는 평균 속도이다. 이 경우, 도 7에 도시되는 바와 같이, 열처리에서는 변형점보다 70℃ 낮은 온도 이하의 온도로서, 400℃ 내지 600℃의 범위에 있는 소정 온도, 즉 열처리 온도로 될 때까지 시트 유리를 가열하고, 열처리 온도를 유지하는 열처리 공정과, 0.5℃/분 이상으로부터 10℃/분 미만의 제1 강온 속도로, 열처리 온도로부터 열처리 온도보다 50℃ 내지 150℃ 낮은 중간 온도로 될 때까지 시트 유리를 냉각한 후, 10℃/분 이상으로부터 25℃/분 미만의 제2 강온 속도로 시트 유리를 서냉하는 강온 공정을 포함하는 것이 바람직하다. 이때, 제2 강온 속도로 시트 유리를 냉각한 후, 또한 제3 강온 속도로 실온으로 될 때까지 시트 유리를 더 냉각하는 것이 바람직하다. 즉, 제1 강온 속도는, 제2 강온 속도보다도 느린 것이 바람직하다. 혹은, 재서냉 공정에서의 열처리 온도는, 유리 기판 표면에 형성되는 박막을 형성할 때의 가열 처리 온도보다도 250℃ 높은 온도 이하인 것이 바람직하고, 가열 처리의 온도보다도 150℃ 높은 온도 이하인 것이 보다 바람직하고, 가열 처리의 온도보다도 80℃ 높은 온도 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 재서냉 공정에서의 열처리 온도는, 박막을 형성할 때의 가열 처리 온도보다도 100℃ 낮은 온도 이상인 것이 바람직하고, 박막을 형성할 때의 가열 처리 온도보다도 높은 것이 보다 바람직하다. 또한, 열처리를 행하는 열처리 온도로부터, 열처리 온도보다도 100℃ 낮은 온도까지의 시트 유리의 중심 위치에 있어서의 강온 속도를 제1 강온 속도로 하고, 열처리 온도보다도 100℃ 낮은 온도 미만으로부터 열처리 온도보다도 300℃ 낮은 온도까지의 시트 유리의 중심 위치에 있어서의 강온 속도를 제2 강온 속도로 한 경우에, 제1 강온 속도보다도 제2 강온 속도를 빠르게 하는 것이 바람직하다. 혹은, 열처리를 행하는 열처리 온도로부터, 열처리 온도보다도 50℃ 낮은 온도까지의 시트 유리의 중심 위치에 있어서의 강온 속도를 제1 강온 속도로 하고, 열처리 온도보다도 50℃ 낮은 온도 미만으로부터 열처리 온도보다도 150℃ 낮은 온도까지의 시트 유리의 중심 위치에 있어서의 강온 속도를 제2 강온 속도로 한 경우에, 제1 강온 속도보다도 제2 강온 속도를 빠르게 하는 것이 바람직하다. 제1 강온 속도의 바람직한 범위는 0.5℃/분 이상 15℃/분 이하이고, 0.5℃/분 이상 10℃/분 이하인 것이 바람직하다. 한편, 제2 강온 속도의 바람직한 범위는, 8℃/분 이상 50℃/분 이하이고, 10℃/분 이상 20℃/분 이하인 것이 바람직하다. 매양식의 재서냉 공정 S6은, 시트 유리를 열처리실 내에 설치된 지지 부재에 의해 시트 유리의 하방으로부터 지지한 상태에서, 시트 유리의 열처리를 행해도 좋고, 도 8에 도시하는 바와 같이 열처리를 행해도 좋다. 도 8은, 도 6에 도시하는 열처리와는 다른 매양식의 형태의 예를 설명하는 도면이다. 도 8에 도시하는 바와 같이, 소정의 사이즈로 절단된 복수의 시트 유리 SG가, 반송 방향으로 간격을 두도록 현수되어 있고, 2개의 체인 벨트(반송 벨트)(21)에 의해, 일 방향으로 반송되어도 좋다. 이와 같은 제1, 제2 형태의 재서냉 공정 S6에 의해, 시트 유리 SG의 열수축률을 10ppm 이하, 바람직하게는 5ppm 이하, 보다 바람직하게는 4ppm 이하, 더욱 바람직하게는 3ppm 이하로 저하시킬 수 있다. 또한, 보다 생산 효율을 높인다고 하는 관점에서는, 재서냉 공정 S6에 의해, 시트 유리 SG의 열수축률을, 0.1 내지 10ppm의 범위로 하는 것이 바람직하고, 0.5 내지 9ppm의 범위로 하는 것이 보다 바람직하고, 1 내지 7ppm의 범위로 하는 것이 더욱 바람직하다. 본 실시 형태에서는, 시트 유리 SG의 제조 방법에 있어서, 냉각 공정 S4에 있어서의 평균 냉각 속도를 조정함으로써 열수축률을 저감하고, 또한, 재서냉 공정 S6에서 열수축률을 저감하지만, 이때의 냉각 공정 S4 및 재서냉 공정 S6에 있어서의 열수축률의 저감 폭에 대해, 생산 효율을 확보하면서, 열수축률을 저감할 수 있는 점에서, 재서냉 공정 S6에 있어서의 열수축률의 저감 폭은, 냉각 공정 S4에 있어서의 열수축률의 저감 폭에 비해 큰 것이 바람직하다. 냉각 공정 S4에 있어서의 저감 폭이 커지면, 냉각 시간을 길게 할 필요가 있어 생산 효율이 저하된다. 냉각 공정 S4 및 재서냉 공정 S6에 있어서의 열수축률의 전체 저감 폭을 100％로 했을 때, 냉각 공정 S4는 5 내지 30％인 것이 바람직하고, 10 내지 25％인 것이 보다 바람직하다. 재서냉 공정 S6은, 70 내지 95％인 것이 바람직하고, 70 내지 95％인 것이 보다 바람직하다. 냉각 공정 S4에 있어서의 저감 폭이 상기 범위를 초과해서 커지면, 냉각 시간을 길게 할 필요가 있어 생산 효율이 저하된다. 또한, 제1, 제2 형태의 재서냉 공정 S6에 의해, 시트 유리 SG에 있어서의 면 내에서의 열수축률의 위치에 의한 변동은, 예를 들어, 3ppm 이하로 할 수 있다. 시트 유리 SG에 있어서의 면 내의 열수축률의 위치에 의한 변동은, 2ppm 이하가 바람직하고, 1ppm 이하가 보다 바람직하다. 본 실시 형태에서는, 시트 유리 SG의 실투 온도는, 1200℃ 이하인 것이, 시트 유리 SG에 실투시키지 않는 점에서 바람직하다. 실투 온도를 1200℃ 이하가 되도록 유리 조성을 조정하면, 실투 온도가 1200℃ 초과인 유리 조성과 비교해서 유리의 변형점이나 서냉점은 낮아지는 경향이 있으므로, 열수축률이 커지기 쉽다. 이와 같이, 열수축률이 커지기 쉬운 유리 조성이라도, 상술한 냉각 공정 S4의 평균 냉각 속도의 조정에 의해, 열수축률을 35ppm 이하로 할 수 있고, 재서냉 공정 S6의 시트 유리 SG의 열수축률을 10ppm 이하로 할 수 있다. 또한, 시트 유리 SG에 실투를 발생시키지 않고 생산성을 높이기 위해서는, 실투 온도는 1180℃ 이하인 것이 바람직하고, 1100℃ 내지 1180℃인 것이 바람직하다. 또한, 시트 유리 SG의 변형점(유리의 점도가 10 14.5 poise에 상당할 때의 유리 온도)은, 열수축률을 저하시키기 위해서는, 높을수록 좋다. 그러나, 시트 유리 SG의 변형점이 높아지도록 유리 조성을 조정하면, 용융 온도나 실투 온도가 높아지는 경향이 있다. 즉, 시트 유리 SG의 변형점을 높게 하면, 유리 원료의 미용해나 시트 유리 SG의 실투라고 하는 문제가 생기기 쉬워진다. 그로 인해, 시트 유리 SG의 변형점은, 600℃ 내지 720℃이어도 좋고, 600℃ 내지 680℃이어도 좋다. 또한, 시트 유리 SG의 서냉점(유리의 점도가 10 13 poise에 상당할 때의 유리 온도)은, 680℃ 내지 800℃이어도 좋고, 680℃ 내지 760℃이어도 좋다. 변형점이 600℃ 내지 720℃인 유리(바람직하게는 600℃ 내지 680℃)인 유리, 혹은 서냉점이 680℃ 내지 800℃(바람직하게는 680℃ 내지 760℃)인 유리는, 변형점이 720℃(바람직하게는 680℃)를 초과하는 유리, 혹은 서냉점이 800℃(바람직하게는 760℃)를 초과하는 유리에 비해, 열수축률은 커지기 쉽다. 그러나, 변형점이 600℃ 내지 720℃(바람직하게는 600℃ 내지 680℃)이어도, 혹은 서냉점이 680℃ 내지 800℃(바람직하게는 680℃ 내지 760℃)이어도, 상술한 냉각 공정 S4의 평균 냉각 속도의 조정 등에 의해, 열수축률을 35ppm 이하로 할 수 있고, 재서냉 공정 S6의 시트 유리 SG의 열수축률을 10ppm 이하로 할 수 있다. 또한, 유리 원료의 미용해나 시트 유리 SG에 실투를 발생시키지 않고 보다 생산성을 높이기 위해서는, 변형점이 600℃ 내지 720℃인 것이 바람직하고, 650℃ 내지 680℃인 것이 보다 바람직하다. 또한, 서냉점이 680℃ 내지 800℃인 것이 바람직하고, 730℃ 내지 760℃인 것이 보다 바람직하다. 또한, 시트 유리 SG의 밀도는, 예를 들어 2.62g/㎤ 이하이어도 좋고, 2.49g/㎤ 이하인 것이 바람직하고, 2.46g/㎤ 이하인 것이 보다 바람직하고, 2.43g/㎤ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 시트 유리 SG의 유리의, 50℃에서 300℃까지의 선 열팽창 계수는, 42×10 -7 /℃ 이하이어도 좋고, 28×10 -7 내지 39×10 -7 /℃인 것이 바람직하고, 28×10 -7 내지 37×10 -7 /℃인 것이 보다 바람직하고, 30×10 -7 내지 35×10 -7 /℃인 것이 더욱 바람직하다. 이와 같은 특성을 갖는 시트 유리 SG의 유리 조성으로서, 예를 들어 이하의 유리 조성이 질량％ 표시로 예시된다. SiO 2 50 내지 70％, B 2 O 3 0 내지 18％, Al 2 O 3 10 내지 25％, MgO 0 내지 10％, CaO 0 내지 20％, SrO 0 내지 20％, BaO 0 내지 10％, RO 5 내지 20％ (단 R은 Mg, Ca, Sr 및 Ba로부터 선택되는 적어도 1종임), R' 2 O 0％ 내지 2.0％ (단 R'는 Li, Na 및 K로부터 선택되는 적어도 1종임) 을 포함한다. 용융 유리 중에 가수 변동하는 금속의 산화물의 합계 함유율은 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 0.05 내지 1.5％ 포함해도 좋다. 또한, As 2 O 3 , Sb 2 O 3 및 PbO를 실질적으로 포함하지 않는 것이 바람직하다. 이상과 같이, 본 실시 형태에서는, 냉각 공정 S4에 의해 열수축률을 낮게 함과 함께, 재서냉 공정 S6을 행하여 열수축률을 더 낮게 하므로, 열수축률을 낮게 하기 위해 실투 온도를 높게 하는 유리 조성을 사용할 필요가 없어진다. 특히, 본 실시 형태와 같이 오버플로우 다운드로법에 의해 시트 유리 SG를 성형하는 경우, 시트 유리 SG에 실투가 생기기 쉬우므로, 실투 온도를 높게 하는 유리 조성을 사용하는 것은 바람직하지 않다. 이 점에서도, 본 실시 형태는 유효하다. 이와 같이, 본 실시 형태는, 실투가 생기기 어려워, 고정밀 디스플레이의 패널에 사용하는 것이 가능한, 열수축률이 낮은 시트 유리를 제작할 수 있다. 본 실시 형태의 시트 유리의 제조 방법에 의해 제조되는 시트 유리 SG는, 유리 표면에 박막이 형성되는 디스플레이용 유리 기판에 적합하고, 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, 유기 EL 디스플레이 등의 디스플레이용 유리 기판으로서 특히 적합하다. 여기서, 박막이란, 예를 들어 TFT나 컬러 필터이다. 또한, 디스플레이용 유리 기판을 사용하는 디스플레이에는, 디스플레이 표면이 편평한 플랫 패널 디스플레이 외에, 유기 EL 디스플레이, 액정 디스플레이이며, 디스플레이 표면이 만곡된 곡면 디스플레이가 포함된다. 유리 기판은 고정밀 디스플레이용 유리 기판으로서, 예를 들어 액정 디스플레이용 유리 기판, 유기 EL(Electro-Luminescence) 디스플레이용 유리 기판, LTPS(Low Temperature Poly-silicon) 박막 반도체, 혹은 IGZO(Indium, Gallium, Zinc, Oxide) 등의 산화물 반도체를 사용한 디스플레이용 유리 기판으로서 사용하는 것이 바람직하다. 디스플레이용 유리 기판으로서는, 무알칼리 유리, 또는, 알칼리 미량 함유 유리가 사용된다. 디스플레이용 유리 기판은, 고온 시에 있어서의 점성이 높다. 예를 들어, 10 2. 5 푸아즈의 점성을 갖는 용융 유리의 온도는, 1500℃ 이상이다. 또한, 무알칼리 유리는, 알칼리 금속 산화물(R 2 O)을 실질적으로 포함하지 않는 조성의 유리이다. 알칼리 금속 산화물을 실시적으로 포함하지 않는다고 함은, 원료 등으로부터 혼입되는 불순물을 제외하고, 유리 원료로서 알칼리 금속 산화물을 첨가하지 않는 조성의 유리이며, 예를 들어, 알칼리 금속 산화물의 함유량은 0.1질량％ 미만이다. 또한, 알칼리 미량 함유 유리는 성분으로서, 0.1질량％ 내지 0.5질량％의 R' 2 O를 포함하고, 바람직하게는 0.2질량％ 내지 0.5질량％의 R' 2 O를 포함한다. 여기서, R'는, Li, Na 및 K로부터 선택되는 적어도 1종이며, R' 2 O는, Li 2 O, Na 2 O, K 2 O의 함유량의 합계이다. 또한, 본 실시 형태에서 제조되는 시트 유리 SG의 판 두께는, 0.005㎜ 내지 0.8㎜이며, 바람직하게는 0.01㎜ 내지 0.5㎜, 보다 바람직하게는 0.01㎜ 내지 0.2㎜이다. 본 실시 형태에서는, 성형 공정 후의 시트 유리 SG의 서냉(냉각)을 느린 냉각 속도로 행함으로써, 시트 유리 SG의 열수축률은 저감하지만, 또한 재서냉 공정을 행함으로써, 시트 유리 SG의 판 두께 품질 등의 악화를 효율적으로 방지할 수 있다. 이하, 이 점을 설명한다. 성형 공정 S3 후의 냉각 공정 S4에 있어서, 시트 유리 SG의 열수축률을 충분히 저감하고자 하는 경우, 제2 냉각실(80)(서냉로)을 길게 하여 시트 유리 SG를 매우 천천히 냉각할 필요가 있다. 시트 유리 SG의 성형으로서 퓨전(오버플로우 다운드로법)을 선택하는 경우, 연직 방향으로 연장되는 제2 냉각실(80)의 경로를 길게 하여, 성형 직후의 서냉 속도를 매우 느리게 하면, 성형 공정 S3 내지 절단 공정 S5, 혹은, 또한 후공정의 권취 곤포의 공정까지, 띠 형상으로 연속해서 연장되는 시트 유리 SG의 길이는 길어지고, 이에 수반하여, 성형체(41) 내지 절단 장치(90)(혹은 권취 곤포를 행하는 장치)까지의 시트 유리 SG의 총 중량은 무거워진다. 이와 같이 시트 유리 SG의 총 중량이 무거워지면, 성형체(41)의 하단부에서 퓨전한 직후의 시트 유리 SG의 이동 속도(낙하 속도)는 하류측의 시트 유리 SG의 중량의 영향으로 빨라진다. 여기서, 퓨전 직후의 시트 유리 SG의 온도는 높고, 연장시킬 정도로 점성이 낮다(예를 들어, 연화점 이상). 이로 인해, 시트 유리 SG가 국소적으로 연장되기 쉬워져 판 두께 품질 등을 악화시킨다. 또한, 퓨전 직후에 시트 유리 양측부를 급냉해서 고화시킨(점도를 높게 한) 경우, 점도가 낮은 시트 유리 SG의 중앙 영역에서만 시트 유리 SG가 연장되어, 두께가 부분적으로 지나치게 얇아진다고 하는 문제도 생긴다. 또한, 시트 유리 SG가 폭 방향으로 줄어들지 않도록 퓨전 직후에 시트 유리 SG의 양측부를 급냉해서 고화하고자 해도, 시트 유리 SG의 이동 속도(낙하 속도)가 빨라져, 충분히 냉각할 수 없다. 이로 인해, 시트 유리 SG가 폭 방향으로 줄어들면, 유리 판 두께가 불균일해진다고 하는 문제가 생긴다. 그 밖의, 상술한 바와 같이 시트 유리 SG의 길이가 길어지면, 시트 유리 SG에 진동이 생기기 쉬워져, 히터(82a 내지 82g)와의 사이의 거리가 변동되어 시트 유리 SG의 온도 제어의 정밀도가 저하된다고 하는 문제가 생긴다. 또한, 시트 유리 SG의 중량이 무거워지면, 성형체(41)에 가해지는 시트 유리 SG의 총 하중이 커지므로, 성형체(41)의 변형(셀 크리프)의 문제가 현저해지고, 시트 유리 SG의 폭 방향의 판 두께에 편차가 생긴다고 하는 문제가 현저해진다. 이에 대해, 본 실시 형태에서는, 제2 냉각실(80)(서냉로)의 경로를 길게 하여 시트 유리 SG를 매우 천천히 냉각할 필요가 없으므로, 본 실시 형태는, 상기 문제가 발생하는 것을 방지할 수 있어, 열수축이 작은 시트 유리 SG를 제조할 수 있다. 또한, 제2 냉각실(80)을 포함하는 성형 장치(40)의 구성을 변경하지 않고, 성형 공정 S3 후의 냉각 공정 S4에 있어서의 시트 유리 SG의 냉각 속도 등을 변경하는 것은 어렵다. 즉, 냉각 공정 S4에서는, 미리 설정된 열처리는 행할 수 있지만, 예를 들어 요구되는 열수축률이 변화된 경우 등에 있어서, 냉각 공정 S4에서 냉각 속도를 포함하는 서냉의 조건을 변경하는 것은 어려워, 열처리의 자유도는 낮다. 본 실시 형태에서는, 냉각 공정 S4 외에 재서냉 공정 S6을 별도 구비하므로, 시트 유리 SG에 실시하는 열처리의 자유도가 높아진다. 또한, 시트 유리는, 고정밀 디스플레이용 유리 기판으로서, 예를 들어 액정 디스플레이용 유리 기판, 유기 EL(Electro-Luminescence) 디스플레이용 유리 기판, 혹은 LTPS(Low Temperature Poly-silicon) 박막 반도체를 사용한 디스플레이용 유리 기판으로서 사용하는 것이 바람직하다. (실시예 1) SiO 2 60.7％, B 2 O 3 11.5％, Al 2 O 3 17％, MgO 2％, CaO 5.6％, SrO 3％, SnO 2 0.2％의 유리 조성(질량％ 표시)이 되도록 유리 원료를 조합하여, 도 1에 도시하는 공정을 거쳐서 시트 유리 SG를 얻었다. 상기 유리 조성에 있어서의 변형점은 660℃이다. 재서냉 공정 S6의 열처리의 최고 온도를, 시트 유리의 변형점[℃]－210[℃], 즉, 450℃로 하고, 최고 온도의 유지 시간을 24시간으로 했다. 또한, 재서냉 공정 S6에서는, 100매의 시트 유리 SG를 적층한 적층체에 대해 열처리를 실시했다. 재서냉 공정 S6 전의 시트 유리 SG의 열수축률은 18ppm이었다. 재서냉 공정 S6 후의 시트 유리 SG의 열수축률은 2ppm이었다. 이 열수축률은, 고정밀 디스플레이 패널에 사용하는 유리 기판에 요구되는 열수축률을 충족한다. 또한, 시트 유리 SG에서는 실투는 생기지 않았다. 이에 의해, 본 실시 형태의 효과는 명백하다. (실시예 2) SiO 2 60.7％, B 2 O 3 11.5％, Al 2 O 3 17％, MgO 2％, CaO 5.6％, SrO 3％, SnO 2 0.2％의 유리 조성(질량％ 표시)이 되도록 유리 원료를 조합하여, 도 1에 도시하는 공정을 거쳐서 시트 유리 SG를 얻었다. 상기 유리 조성에 있어서의 변형점은 660℃이다. 또한, 디스플레이 패널 제조 공정에 있어서의 박막 형성 온도는 450℃이었다. 재서냉 공정 S6의 열처리의 최고 온도를, 박막 형성 온도보다도 50℃ 높은 온도, 즉, 500℃로 하고, 최고 온도의 유지 시간을 10분으로 했다. 또한, 재서냉 공정 S6은, 1매씩 열처리하는 매양식이었다. 또한, 열처리를 행하는 열처리 온도로부터 열처리 온도보다도 100℃ 낮은 온도까지의 시트 유리의 중심 위치에 있어서의 강온 속도를 제1 강온 속도로 하고, 열처리 온도보다도 200℃ 낮은 온도 미만으로부터 열처리 온도보다도 300℃ 낮은 온도까지의 시트 유리의 중심 위치에 있어서의 강온 속도를 제2 강온 속도로 한 경우, 제1 강온 속도가 0.5℃/분이며, 제2 강온 속도는 10℃/분이었다. 재서냉 공정 S6 전의 시트 유리 SG의 평균 열수축률은 18ppm이었던 것에 반해, 재서냉 공정 S6 후의 시트 유리 SG의 평균 열수축률은 5ppm이었다. 또한, 시트 유리 SG의 면 내에서의 열수축의 위치에 의한 편차는 3ppm 이하이었다. 또한, 제1 강온 속도를 3℃/분, 제2 강온 속도를 13℃/분으로 변경한 것 이외는 상기 방법과 마찬가지로 제조한 재서냉 공정 S6 후의 시트 유리 SG의 평균 열수축률은 6ppm이었다. 또한, 시트 유리 SG의 면 내에서의 열수축의 위치에 의한 편차는 3ppm 이하이었다. 또한, 제1 강온 속도를 9.5℃/분, 제2 강온 속도를 24℃/분으로 변경한 것 이외는 상기 방법과 마찬가지로 제조한 재서냉 공정 S6 후의 시트 유리 SG의 평균 열수축률은 8ppm이었다. 또한, 시트 유리 SG의 면 내에서의 열수축의 위치에 의한 편차는 3ppm 이하이었다. 한편, 제1 강온 속도를 10℃/분, 제2 강온 속도를 5℃/분으로 변경한 것 이외는 상기 방법과 마찬가지로 제조한 재서냉 공정 S6 후의 시트 유리 SG의 평균 열수축률은 17ppm이었다(비교예). 이들 실시예의 열수축률은, 고정밀 디스플레이 패널에 사용하는 유리 기판에 요구되는 열수축률을 충족한다. 또한, 시트 유리 SG에서는 실투는 생기지 않았다. 이에 의해, 본 실시 형태의 효과는 명백하다. 이상, 본 발명의 시트 유리의 제조 방법 및 시트 유리 제조 장치에 대해 상세하게 설명했지만, 본 발명은 상기 실시 형태로 한정되지 않고, 본 발명의 주지를 일탈하지 않는 범위에서, 다양한 개량이나 변경을 해도 좋은 것은 물론이다.
11 : 용융 장치
12 : 청징 장치
40 : 성형 장치
41 : 성형체
51 : 냉각 롤러
60 : 온도 조정 유닛
81a 내지 81g : 인하 롤러
82a 내지 82g : 히터
90 : 절단 장치
100 : 시트 유리 제조 장치
210 : 적층체
212 : 시트체
220 : 팔레트
221 : 베이스부
222 : 적재부
223 : 배면판 |
