易脱模金属轨道模具

申请号 CN201610441736.1 申请日 2016-06-20 公开(公告)号 CN106001423A 公开(公告)日 2016-10-12
申请人 南京力源轨道交通装备有限公司; 发明人 扶香荣; 姬传堂; 韦高春; 汤世海;
摘要 本 发明 提供了一种易脱模金属轨道模具,包括金属制的上模具和下模具,上模具和下模具上分别开有两道滑槽;上模具和下模具一侧通过第一转动副(旋 转轴 )连接,另一侧通过 定位 孔固定,上下模具固定时上下模具的滑槽组成轨道浇铸通道,轨道浇铸通道一端设有浇铸塞,另一端为浇注孔。所述的下模具两道滑槽中部为第二转动副( 旋转轴 ),靠近定位孔处的滑槽可绕第二转动副(旋转轴)翻转。本发明使用了可拆卸式的金属模具,使用方便,降低了生产成本,并且容易脱模。
权利要求

1.一种易脱模金属轨道模具,包括金属制的上模具(3)和下模具(1),其特征在于:上模具(3)和下模具(1)上分别开有两道滑槽(2);上模具(3)和下模具(1)一侧通过第一转动副(4)连接,另一侧通过定位孔固定,上下模具固定时上下模具的滑槽(2)组成轨道浇铸通道,轨道浇铸通道一端设有浇铸塞,另一端为浇注孔;所述的下模具(3)两道滑槽(2)中部为第二转动副(5),靠近定位孔处的滑槽可绕第二转动副(5)翻转。
2.根据权利要求1所述的易脱模金属轨道模具,其特征在于:上模具(3)和下模具(1)上的定位孔通过定位销固定。
3.根据权利要求1所述的易脱模金属轨道模具,其特征在于:所述的上模具(3)上开有浇铸气孔。
4.根据权利要求1所述的易脱模金属轨道模具,其特征在于:所述的转动副为旋转轴

说明书全文

易脱模金属轨道模具

技术领域

[0001] 本发明涉及铸造模具领域,具体是一种易脱模金属轨道模具。

背景技术

[0002] 模具是在外作用下使坯料成为有特定形状和尺寸的制件的工具。广泛用于冲裁、模锻、冷镦、挤压、粉末冶金件压制、压力铸造,以及工程塑料、橡胶、陶瓷等制品的压塑或注塑的成形加工中。模具具有特定的轮廓或内腔形状,应用具有刃口的轮廓形状可以使坯料按轮廓线形状发生分离(冲裁)。应用内腔形状可使坯料获得相应的立体形状。模具一般包括动模和定模(或凸模和凹模)两个部分,二者可分可合。分开时取出制件,合拢时使坯料注入模具型腔成形。模具是精密工具,形状复杂,承受坯料的胀力,对结构强度、刚度、表面硬度、表面粗糙度和加工精度都有较高要求,模具生产的发展平是机械制造水平的重要标志之一。
[0003] 现有的轨道模具多采用沙模,一次性使用,成本较高,并且脱模不方便。

发明内容

[0004] 本发明为了解决现有技术的问题,提供了一种可拆卸式的金属模具,使用方便,降低了生产成本,并且容易脱模。
[0005] 本发明包括金属制的上模具和下模具,上模具和下模具上分别开有两道滑槽;上模具和下模具一侧通过第一转动副(旋转轴)连接,另一侧通过定位孔固定,上下模具固定时上下模具的滑槽组成轨道浇铸通道,轨道浇铸通道一端设有浇铸塞,另一端为浇注孔。所述的下模具两道滑槽中部为第二转动副(旋转轴),靠近定位孔处的滑槽可绕第二转动副(旋转轴)翻转。
[0006] 进一步改进,上模具和下模具上的定位孔通过定位销固定。
[0007] 进一步改进,所述的上模具上开有浇铸气孔。
[0008] 本发明有益效果在于:通过上下两个金属的模具进行浇铸,铸造成型方便,可以反复使用,降低了铸造件的生产成本,并且容易脱模。附图说明
[0009] 图1为下模具结构示意图。
[0010] 图2为上模具结构示意图。

具体实施方式

[0011] 下面结合附图对本发明作进一步说明。
[0012] 本发明结构如图1和图2所示,包括金属制的上模具3和下模具1,上模具3和下模具1上分别开有两道滑槽2,上模具3和下模具1一侧通过第一转动副(旋转轴)4连接,另一侧通过定位孔固定,上下模具通过定位孔固定时上下模具的滑槽2组成轨道浇铸通道,轨道浇铸通道一端设有浇铸塞,另一端为浇注孔。所述的下模具3两道滑槽2中部为第二转动副5,靠近定位孔处的滑槽可绕第二转动副5(旋转轴)翻转。上模具3和下模具1上的定位孔通过定位销固定。上模具3上开有浇铸气孔。
[0013] 本发明使用方法如下:1、旋转上模具,使上下模具通过定位孔和定位销组装,上下模具上的滑槽组成浇注通道。
[0014] 2、利用浇铸塞堵住浇铸通道的一端。
[0015] 3、从浇注通道的另一端进行铸造成型。
[0016] 4、浇铸完成后,取出定位销,旋转上模具,使上下模具分离,铸件留在下模具上。
[0017] 5、旋转下模具右侧的滑槽,使两个滑槽分离,方便脱模取出铸件。
[0018] 本发明具体应用途径很多,以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以作出若干改进,这些改进也应视为本发明的保护范围。
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